金山區(qū)灰度光刻微納3D打印工藝

來源: 發(fā)布時間:2023-10-18

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。微納米3D打印公司Nanoscribe,納米精度的樹脂新材料,打印微創(chuàng)手術用的微型針頭,微透鏡精密器件。金山區(qū)灰度光刻微納3D打印工藝

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3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現(xiàn)具有特定光子,機械,生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。靜安區(qū)芯片上微納3D打印廠家現(xiàn)階段,3D打印是傳統(tǒng)制造的重要補充,屬于產(chǎn)業(yè)增強。

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由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,例如光電應用中,他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。例如圖示中可應用于微型成像系統(tǒng),內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。2PP被認為是一個相當精確的3D打印來創(chuàng)建復雜的結構工藝。

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作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微細加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?!拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪,憑借我們的技術支持,我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優(yōu)于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展?!拔覀兎浅F诖尤隒ELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”MartinHermatschweiler說道。Nanoscribe的激光光刻系統(tǒng)用于3D打印世界上排名頭一位小的強度超高的3D晶格結構。虹口區(qū)微納3D打印服務商

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借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合,適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領域應用。我們的客戶成功將微納光學結構直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全方面耦合。金山區(qū)灰度光刻微納3D打印工藝