湖北微納米無掩膜光刻三維光刻

科學家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)，發(fā)明了GRIN光學微納制造工藝。這種新的制造技術實現(xiàn)了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學元件。憑借這種全新的制造工藝，科學家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡（15μm直徑）。相似于人類眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內。通過調整直寫激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調節(jié)范圍甚至超過0.3。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解用Nanoscribe無掩模光刻系統(tǒng)所制作的產品。湖北微納米無掩膜光刻三維光刻

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環(huán)境進行生物打印，適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相關產品線開發(fā)，用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。CELLINK集團的前列宏觀結構生物打印技術與Nanoscribe公司的微觀結構生物打印技術相結合做到了強強聯(lián)手的協(xié)作效應，可以實現(xiàn)更逼真的組織結構，例如血管化和細胞支持體等。2PP技術將實現(xiàn)CELLINK集團所有三個業(yè)務的跨領域應用，并增強集團的耗材產品開發(fā)和供應?！敖柚鶱anoscribe特別先進的2PP技術，我們可以實現(xiàn)擴大補充我們的產品組合，為我們的客戶提供更加廣的產品?！盋ELLINK首席執(zhí)行官ErikGatenholm強調說，“為了改善全球人民的健康狀況，我們正在以此為目標導向，不斷強大公司擴大規(guī)模，持續(xù)開發(fā)研究開創(chuàng)性生物融合技術?！鄙虾anoscribe無掩膜光刻無掩光刻想要了解無掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產。”

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子無掩模光刻技術的運用。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合，可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產品，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。北京超高速無掩膜光刻3D微納加工

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3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現(xiàn)具有特定光子，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。湖北微納米無掩膜光刻三維光刻

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