湖北高分辨率無掩膜光刻無掩膜激光直寫

全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球較早雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度?？焖佟蚀_的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)未來的發(fā)展趨勢。湖北高分辨率無掩膜光刻無掩膜激光直寫

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質(zhì)量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。另外，Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。北京2GL無掩膜光刻設備想要了解更多Nanoscribe 3D無掩膜光刻系統(tǒng)信息，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。它的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創(chuàng)手術的生物醫(yī)學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻技術。

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?；陔p光子聚合技術，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?；a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術。北京2GL無掩膜光刻設備

無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術，即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。湖北高分辨率無掩膜光刻無掩膜激光直寫

中國生產(chǎn)型正面臨百年未有之大變局，行業(yè)行家認為，中美貿(mào)易戰(zhàn)不會有終點，中美關系時好時壞將成為常態(tài)，儀器儀表行業(yè)無法排除大局勢的影響，且不要把問題聚焦在關稅上。中國經(jīng)濟的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國制造的競爭力在于工業(yè)門類齊全、供應鏈完整、供應鏈的高度專業(yè)和細分。隨著網(wǎng)絡消費的不斷遞增，而互聯(lián)網(wǎng)的商業(yè)價值不斷被挖掘出來，呈爆發(fā)式增長，傳統(tǒng)的營銷模式將逐步被取代。外商獨資企業(yè)企業(yè)要抓住機遇，融入到互聯(lián)網(wǎng)發(fā)展的行業(yè)中，為行業(yè)的發(fā)展提高競爭力。隨著中國的不斷進步，世界上只有一個救世主——市場，能救企業(yè)的只有你自己——自強，提高生產(chǎn)型重點競爭力才是中國制造業(yè)的獨一出路。以顯微科學儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例，以親身的實踐為例，毛磊認為，隨著經(jīng)濟的不斷發(fā)展，我國的環(huán)境和實力都發(fā)生了巨大變化，有了完全不同的基礎，這為國產(chǎn)科學儀器走向高階水平增強了信心。我們必須承認，在科學儀器上，我們跟其他地區(qū)相比，還有很大的差距。這個差距，就是我們提升的空間。合相關部門、大學和企業(yè)之力，中國的生產(chǎn)型必將在不遠的將來，在相關領域的基礎研究和重點光學部件研發(fā)上取得突破，產(chǎn)品進入世界中高階水平，企業(yè)得到臺階式上升，迎頭趕上，與全球出名企業(yè)并駕齊驅(qū)。湖北高分辨率無掩膜光刻無掩膜激光直寫