廣州金相磨拋機制造廠商

金相磨拋機常配用耗材：金相砂紙：240、600、1000、1500#(其他規(guī)格400、2000#等）適用于常規(guī)金屬類樣件的研磨。金剛石磨盤：240、600、1000、1500#(其他規(guī)格400、2000#等）適用于超硬材料樣件的研磨。金剛石砂紙：粒度：45-0.3um(適合超硬材料的精密研磨及粗拋，如陶瓷、晶體等材料）。拋光布料：呢料、絲絨、羊毛等（對特殊材料也需要采用粗拋、精拋等多道拋光工藝）。金剛石拋光劑：粒度：40-0.5um（拋光輔料，適合各類材料的拋光）。金剛石懸浮液：粒度：40-0.5um（比較常用的拋光輔料，更適合自動磨拋機使用）。氧化鋁拋光粉：粒度：30-0.5um （適合碳鋼類樣件的拋光）。磁性磨盤：更便于更換砂紙及拋光布料。 金相磨拋機還可把前一道工序的磨痕除去。廣州金相磨拋機制造廠商

金相磨拋機技術參數(shù)：工作盤 Φ200mm/Φ230mm/250mm，轉速 100-1000r/min，三檔定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定義，旋轉方向 順時針或逆時針可調，電機功率/電源電壓 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE)，水壓 1-10bar/0.1-1Mp，進水管 Φ8mm長2m，排水管 內徑Φ40，環(huán)境溫度 5-40℃，尺寸 720x6855x320mm，重量 50Kg。裝箱清單：金相磨拋機 1臺，進水管（帶接頭） 1根，排水管 1根，電源線（國標插頭） 1根，卡圈 2個，砂紙（320#、600#、800#、1000#各一張） 4張，植絨 1張，帆布 1張，操作手冊 1套，合格證 1張 揚州雙盤雙控金相磨拋機品牌好金相磨拋機無極調速，更方便得到需求的轉速。

在金相試樣制備過程中，試樣的磨、拋光是必不可少的工序，試樣經過磨拋后，可獲得光亮如鏡的表面。此機器采用了變頻器調速， 可使磨拋盤的轉速在50-1000r/min之間，無極可調，通過更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序，展現(xiàn)了它的應用性。殼體采用整體吸塑，外觀新穎，具有轉動平穩(wěn)、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點，并自帶冷卻裝置，可以在磨拋時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室，是金相試欄麼拋光的設備。

金相磨拋機：化學拋光和化學機械拋光手工化學拋光是依靠化學試劑對樣品的選擇性溶解作用將磨痕去除的一種方法：例如用1～2g草酸、2～3mL氫氟酸、40mL過氧化氫、50mL蒸餾水的化學拋光劑。對碳鋼、一般低合金鋼的退火、淬火組織進行化學拋光(擦拭法)；效果較好。此法適用于沒有機械拋光設備的單位。化學拋光一般總不是太理想的，若和機械拋光結合；利用化學拋光劑邊腐蝕邊機械拋光可以提高拋光效率?；瘜W拋光和化學機械拋光手工化學拋光是依靠化學試劑對樣品的選擇性溶解作用將磨痕去除的一種方法：例如用1～2g草酸、2～3mL氫氟酸、40mL過氧化氫、50mL蒸餾水的化學拋光劑。對碳鋼、一般低合金鋼的退火、淬火組織進行化學拋光(擦拭法)；效果較好。此法適用于沒有機械拋光設備的單位?；瘜W拋光一般總不是太理想的，若和機械拋光結合；利用化學拋光劑邊腐蝕邊機械拋光可以提高拋光效率。金相磨拋機（全自動）研磨頭扭力：6Nm。

金相磨拋機：在金相實驗室，金相試樣的制備過程中，試樣的預磨、拋光研磨是多道必不可少的程序，本機的集污盤和罩采用ABS材料整體制作，是具有外形新穎美觀的產品。本機是采用PLC控制的金相試樣磨拋機，磨盤100-1000無級調速，觸摸屏顯示并控制磨盤轉速，電機為直流無刷電機，電機無需更換電刷，使用時間長，具有磁性盤設計，全系列支持快速換盤系統(tǒng)，使用彈性佳，搭配自動研磨裝置，能代替手工進行磨拋的各道工序，可定時，設定磨頭轉速，可提高試樣的磨拋質量和制作效率，是比較理想的金相制樣設備。本機可適應各種材料的試樣制備。該機的拋盤直徑較大。拋盤的轉速操作，噪音低，操作方便，外形美觀，使用安全，是金相試樣設備。金相磨拋機（全自動）磨頭電機功率：120W。合肥定檔定速金相磨拋機廠家

金相磨拋機表面光滑美觀、免噴漆，表面劃痕修復簡單。廣州金相磨拋機制造廠商

金相磨拋機：一般把單相合金或純金屬的化學浸蝕主要看作是化學溶解過程。浸蝕劑首先把磨面表層很薄的變形層溶解掉，接著就對晶界起化學溶解作用。這是因為晶界上原子排列得特別紊亂，其自由能也較高，所以晶界處較容易受浸蝕而呈溝凹，見圖(1-15)(b)。這時顯微鏡下就可看到固溶體或純金屬的多面體晶粒。若繼續(xù)浸蝕則會對晶粒產生溶解作用。金屬原子的溶解大都是沿原子排列密的面進行的。由于金相試樣一般都是多晶體，各晶粒的取向不會一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一顆晶粒溶解的結果不一樣，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蝕后每個晶粒的面與原磨面各傾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就顯示出亮度不一致的晶粒。廣州金相磨拋機制造廠商