寧波雙盤自動金相磨拋機性價比高

來源: 發(fā)布時間:2023-11-10

金相磨拋機技術(shù)參數(shù):工作盤 Φ200mm/Φ230mm/250mm,轉(zhuǎn)速 100-1000r/min,三檔定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定義,旋轉(zhuǎn)方向 順時針或逆時針可調(diào),電機功率/電源電壓 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE),水壓 1-10bar/0.1-1Mp,進水管 Φ8mm長2m,排水管 內(nèi)徑Φ40,環(huán)境溫度 5-40℃,尺寸 720x6855x320mm,重量 50Kg。裝箱清單:金相磨拋機 1臺,進水管(帶接頭) 1根,排水管 1根,電源線(國標插頭) 1根,卡圈 2個,砂紙(320#、600#、800#、1000#各一張) 4張,植絨 1張,帆布 1張,操作手冊 1套,合格證 1張 金相磨拋機表面光滑美觀、免噴漆,表面劃痕修復簡單。寧波雙盤自動金相磨拋機性價比高

金相磨拋機

金相磨拋機制樣過程可分為若干個工序,每一工序都需精確操作以確保獲得滿意的結(jié)果。金相制樣過程主要分解為:切割取樣、鑲嵌樣品、機械制樣、檢驗樣品等四步:切割取樣金相工件,它所使用的切割片是由研磨料和粘合劑合成;鑲樣樣品鑲嵌在樹脂中,便于把持,從而可以改善制樣效果。需要保邊和需要保護表層的樣品均需鑲樣。在鑲樣前要對樣品進行清潔,確保無污染物,這樣才能保證樣品與樹脂的粘合效果;機械制樣機械制樣可分兩種操作:研磨和拋光;檢驗樣品拋光后檢測部位變得光亮,觀察組織時,需先對樣品檢測部位進行侵蝕,完畢后用酒精沖淋并用吹風機吹干。觀察組織可用便攜式顯微鏡,對于無法用顯微鏡觀察的部位,制樣后采用覆膜的方式將需要觀察處用薄膜復制出來,帶到實驗室觀察。如需攝影再在顯微鏡上是裝上攝影儀或攝影照相機。嘉興單盤自動金相磨拋機廠家批發(fā)金相磨拋機(單盤/雙盤)工作盤轉(zhuǎn)向:順時針或逆時針可調(diào)。

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金相磨拋機維護:為了確保磨拋機有更長的使用壽命,強烈建議您進行日常維護和清潔。用柔軟的濕布和普通家用洗滌劑清潔漆層表面和控制面板。不要使用干布擦拭,表面會產(chǎn)生劃痕。油脂可以用乙醇或異丙醇去除。不要用苯或類似的溶劑。清理轉(zhuǎn)換盤上的磨料及殘渣避免腐蝕轉(zhuǎn)換盤系統(tǒng)。防粘盤每次使用完成后應(yīng)取下晾干。定期清理排水管道保持排水暢通。定期清理槽里的污物,不能使用堅硬物體,避免損壞水槽。清理水槽時應(yīng)注意不能將水及污物罐如槽中心的孔內(nèi),會損壞轉(zhuǎn)動裝置。

金相磨拋機粗磨的特點:修整有些試樣,例如用錘擊法敲下來的試樣,形狀很不規(guī)則,必須經(jīng)過粗磨,修整為規(guī)則形狀的試樣;磨平無論用什么方法取樣,切口往往不十分平滑,為了將觀察面磨平,同時去掉切割時產(chǎn)生的變形層,必須進行粗磨;倒角在不影響觀察目的的前提下,需將試樣上的棱角磨掉,以免劃破砂紙和拋光織物。黑色金屬材料的粗磨在砂輪機上進行,具體操作方法是將試樣牢牢地捏住,用砂輪的側(cè)面磨制。在試樣與砂輪接觸的一瞬間,盡量使磨面與砂輪面平行,用力不可過大。由于磨削力的作用往往出現(xiàn)試樣磨面的上半部分磨削量偏大,故需人為地進行調(diào)整,盡量加大試樣下半部分的壓力,以求整個磨面均勻受力。另外在磨制過程中,試樣必須沿砂輪的徑向往復緩慢移動,防止砂輪表面形成凹溝。金相磨拋機(雙盤雙控)預(yù)磨、拋光、研磨三種功能融為一體。

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金相磨拋機是將試樣預(yù)磨和拋光操作結(jié)合為一體的經(jīng)濟機型,轉(zhuǎn)盤通過帶輪的轉(zhuǎn)速比獲得不同的轉(zhuǎn)速,從而實現(xiàn)磨拋功能,是中小企業(yè)試樣制作的理想設(shè)備。金相試樣磨拋機經(jīng)久耐用,維護保養(yǎng)也極為方便,使用時只需更換磨盤或拋盤,就能完成各種試樣的粗磨、細磨、干磨、濕磨及拋光等各道工序,為擴大不同試樣的制備要求,該的磨、拋盤直徑均大于國內(nèi)同類產(chǎn)品??稍诠ぷ髅嫔嫌懈嗖煌€速度的選擇,可增加有效工作面20-30%,可提高試樣的磨拋質(zhì)量和試樣的制備效率,金相試樣磨拋機轉(zhuǎn)動平穩(wěn),噪音低,是一種極為理想和功能完善的金相制樣設(shè)備。金相磨拋機(單盤/雙盤)工作盤轉(zhuǎn)速:100-1000r/min(可定制轉(zhuǎn)速)。鎮(zhèn)江雙盤雙控金相磨拋機經(jīng)濟實用

金相磨拋機(雙盤雙控)兩個磨拋盤可單獨操作。寧波雙盤自動金相磨拋機性價比高

金相磨拋機:將研磨好的試樣用力持住,并輕輕靠近拋盤,先將試樣按向磨拋盤的中心位置,邊拋光邊向外平移試樣。在拋光過程中,要隨時補充拋光劑以保持一定濕度太干干則使磨面產(chǎn)生變形層和暗斑,過濕會減弱拋光作用,適宜的濕度是試樣磨面附著的濕膜在3~5秒內(nèi)揮發(fā)完,拋光時間不宜過長,一般是在磨面的劃痕消除,而不產(chǎn)生麻點;試樣拋光好后,應(yīng)關(guān)閉電源。注意停機時應(yīng)先關(guān)閉給水閥后停機,避免水溢入電機內(nèi),損壞電機,影響設(shè)備的正常使用。寧波雙盤自動金相磨拋機性價比高