磨拋耗材,如何使用金相砂紙進(jìn)行手工研磨拋光金相樣品,樣品的移動:使用手工研磨,一般金相磨拋機(jī)為單盤或雙盤,可以一個人操作,也可以兩個人同時操作。如上圖那樣,用單手或雙手抓住樣品,沒有統(tǒng)一規(guī)定,主要是根據(jù)金相工程師的操作習(xí)慣來,樣品要與磨盤成相反的旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行相對的圓周運(yùn)動,從而進(jìn)行研磨拋光。另外,樣品要沿著半徑的方向來回移動,以確保能均勻的使用金相砂紙上的研磨介質(zhì),不至于因沿固定軌跡研磨而造成金相砂紙的浪費(fèi)。在樣品沿半徑方向來回移動時,稍微轉(zhuǎn)動手腕,每一步驟完成后,樣品被旋轉(zhuǎn)45-90,這樣,樣品的磨削就不會沿著一個方向進(jìn)行了,使樣品的研磨表面受力更均勻。磨拋耗材,金剛石噴霧拋光劑用微米來表示,粒度約小,越適合精拋,粒度約大,越適合粗拋。江西金剛石拋光液磨拋耗材按鈕操作
磨拋耗材,二氧化硅拋光液(VK-SP50W)使用范圍:可用于微晶玻璃的表面拋光加工中;用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程,適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工;用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機(jī)系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過程;普遍用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光,如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工;本產(chǎn)品可以作為一種添加劑,也可應(yīng)用于水性高耐候石材保護(hù)液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。金相拋光絲絨布磨拋耗材廠家批發(fā)磨拋耗材,金相拋光潤滑冷卻液,切割時,降低樣品溫度,以減少樣品受到熱影響。
磨拋耗材,金相砂紙,對于較硬的材料,則依次選擇P80、P240、P400、P600、P800、P1000、P1500、P2000金相砂紙,來依序進(jìn)行研磨較為合適。在研磨過程中,邊研磨邊進(jìn)行仔細(xì)觀察,根據(jù)實(shí)際研磨情況和要求可中間省去P800、P1000、P1500、P2000,直接使用金剛石拋光液進(jìn)行拋光工序;對于較軟的材料,例如鑄鐵等而相對較軟的材料,則在以上的步驟中省去P400和P800的金相砂紙。然而,在實(shí)際工作中,還是需要根據(jù)研磨情況合理添加或減少金相砂紙,不斷總結(jié)研磨拋光經(jīng)驗(yàn),才能針對自己熟悉的材料樣品提出更好的研磨方案。
磨拋耗材,常用的拋光粉性能如下:氧化鋁:又稱剛玉,它有α-Al2O3(六方晶系)和γ-Al2O3(正方晶系)兩種,一般常用α-Al2O3,是通用拋光粉。精拋時,要進(jìn)行水選分級,其方法是在盛有蒸餾水的容器里加入適量氧化鋁粉,充分?jǐn)嚢韬蟪ケ砻嫔系呐菽?,然后靜 置沉降。顆粒越粗,沉降越快,沉降時間越短,所以,靜置時間越長,則懸浮在上部的顆粒也越細(xì)、越均勻。一般經(jīng)過1-5min靜置后用虹吸管吸出或傾倒出懸浮液,可獲得較細(xì)的微粉。根據(jù)不同靜置時間,可獲得不同粒度的氧化鋁微粉。磨拋材料,二氧化硅拋光液,用于多種材料納米級的硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等拋光加工。
磨拋耗材,換砂紙時,確認(rèn)磨痕是否磨掉;確保研磨面為同一平面,不可磨成錐面或多面。自動研磨將試樣對稱平均放置在樣品夾具中。將樣品夾具的邊緣和研磨盤的邊緣相切。自動研磨時使冷卻水流在距離底盤中心1/3處。當(dāng)金剛石研磨盤磨損至基體金屬時應(yīng)當(dāng)更換。自動研磨時的推薦壓力一般為4-6 N/c㎡ , 針對不同直徑,壓力如下表。易碎、易脫落、易分層試樣(硅片、陶瓷涂層、氧化物涂層、金屬粉末等)從盡可能細(xì)的砂紙開始研磨;保證涂層始終朝向基體受壓;自動研磨使用較小的力,同向旋轉(zhuǎn);磨拋耗材,金相拋光潤滑冷卻液,防止切割機(jī)被腐蝕。江西金剛石拋光液磨拋耗材按鈕操作
磨拋耗材,粒度均勻、磨削效果較好的碳化硅磨粒為主磨料。江西金剛石拋光液磨拋耗材按鈕操作
磨拋耗材,拋光原理拋光時由拋光微粉與磨面間的相對機(jī)械作用而使磨面拋光,其主要作用有:磨削作用拋光微粉嵌入拋光布間隙中,暫時被織物纖維所固定,露出部分刃口,在拋光時產(chǎn)生切削作用。滾壓作用當(dāng)拋光盤旋轉(zhuǎn)時,暫時被固定的拋光微粉極易脫出或飛出盤外,這些脫出的拋光微粉在拋光織物和磨面間滾動,對磨面產(chǎn)生機(jī)械滾壓作用,使表面凸起的金屬移向凹陷處,造成高度變形污染區(qū)。滾壓作用越強(qiáng),變形區(qū)厚度越大,金屬擾亂層也愈厚,易行成偽組織。江西金剛石拋光液磨拋耗材按鈕操作
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