四川HJT電鍍銅設(shè)備組件

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-03-19

電鍍銅光刻技術(shù)是指利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將設(shè)計(jì)好的微圖形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到覆有感光材料的晶圓、玻璃基板、覆銅板等基材表面上的微納制造技術(shù)。光刻設(shè)備是微納制造的一種關(guān)鍵設(shè)備,在泛半導(dǎo)體領(lǐng)域,根據(jù)是否使用掩膜版,光刻技術(shù)主要分為直寫光刻與掩膜光刻,其中掩膜光刻可進(jìn)一步分為接近/接觸式光刻以及投影式光刻。掩膜光刻由光源發(fā)出的光束,經(jīng)掩膜版在感光材料上成像,具體可分為接近、接觸式光刻以及投影光刻。其中,投影式光刻更加先進(jìn),能夠在使用相同尺寸掩膜版的情況下獲得更小比例的圖像,從而實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的成像。直寫光刻也稱無掩膜光刻,是指計(jì)算機(jī)將電路設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換為機(jī)器可識別的圖形數(shù)據(jù),并由計(jì)算機(jī)控制光束調(diào)制器實(shí)現(xiàn)圖形的實(shí)時(shí)顯示,再通過光學(xué)成像系統(tǒng)將圖形光束聚焦成像至已涂覆感光材料的基板表面上,直接進(jìn)行掃描曝光。直寫光刻既具有投影光刻的技術(shù)特點(diǎn),如投影成像技術(shù)、雙臺面技術(shù)、步進(jìn)式掃描曝光等,又具有投影光刻不具備的高靈活性、低成本以及縮短工藝流程等技術(shù)特點(diǎn)。非接觸式電極金屬化技術(shù)——電鍍銅。四川HJT電鍍銅設(shè)備組件

四川HJT電鍍銅設(shè)備組件,電鍍銅

光伏電鍍銅基本可以分為水平電鍍銅、VCP垂直電鍍銅、龍門線電鍍銅,電鍍銅后采用的表面處理方式業(yè)界存在多種路線。主要工藝流程控制和添加劑在線路板行業(yè)使用時(shí)間久遠(yuǎn)技術(shù)已經(jīng)成熟。電鍍銅+電鍍錫、電鍍銅+化學(xué)沉錫、電鍍銅+化學(xué)沉銀幾種路線。釜川(無錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競爭力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢;以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。南京釜川電鍍銅設(shè)備制造商光伏電鍍銅設(shè)備,主要用于光伏電池硅片鍍銅代替銀漿絲網(wǎng)印刷。

電鍍銅圖形化環(huán)節(jié)主要包含掩膜、曝光、顯影幾個(gè)步驟。其中,掩膜環(huán)節(jié)是將抗刻蝕的感光材料涂覆在電池表面以遮蓋保護(hù)不需要被電鍍的區(qū)域,感光材料主要有濕膜油墨、干膜材料等。曝光、顯影環(huán)節(jié)是將圖形轉(zhuǎn)移至感光材料上,主要技術(shù)有LDI激光直寫光刻(無需掩膜)、常規(guī)掩膜光刻技術(shù)、激光開槽、噴墨打印等;其中無需掩膜的LDI激光直寫光刻技術(shù)應(yīng)用潛力較大,激光開槽在BC類電池上已有量產(chǎn)應(yīng)用,整體看圖形化技術(shù)路線有望逐步明確和定型。

在電鍍銅的過程中,陽極材料是非常重要的。陽極材料的選擇會直接影響到電鍍銅的質(zhì)量和效率。以下是常見的電鍍銅中使用的陽極材料:1.銅陽極:銅陽極是電鍍銅中常用的陽極材料之一。它具有良好的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性,可以提供高質(zhì)量的電鍍銅。2.鉛陽極:鉛陽極是另一種常用的陽極材料。它具有良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性,可以在高溫和高酸度條件下使用。3.鈦陽極:鈦陽極是一種高性能陽極材料,具有良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性。它可以在高溫和高酸度條件下使用,并且可以提供高質(zhì)量的電鍍銅。4.鉑陽極:鉑陽極是一種高級的陽極材料,具有極高的化學(xué)穩(wěn)定性和耐腐蝕性。它可以提供高質(zhì)量的電鍍銅,但成本較高??傊?,選擇適合的陽極材料對于電鍍銅的質(zhì)量和效率都非常重要。在選擇陽極材料時(shí),需要考慮到電鍍銅的工藝要求、成本和使用環(huán)境等因素。電鍍銅技術(shù)路線是對傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷環(huán)節(jié)的替代,可以分為“種子層制備 +圖形化+金屬化+后處理”四大環(huán)節(jié)。

光伏電鍍銅設(shè)備工藝銅柵線更細(xì),線寬線距尺寸小,發(fā)電效率更高。柵線細(xì)、線寬線距小意味著柵線密度更大,更多的柵線可以更好地將光照產(chǎn)生的內(nèi)部載流子通過電流形式導(dǎo)出電池片,從而提高發(fā)電效率,銅電鍍技術(shù)電池轉(zhuǎn)化效率比絲網(wǎng)印刷高0.3%~0.5%。①低溫銀漿較為粘稠,印刷寬度更寬。高溫銀漿印刷線寬可達(dá)到20μm,但是低溫銀漿印刷的線寬大約為40μm。②銅電鍍銅離子沉積只有電子交換,柵線寬度更小。銅電鍍的線寬大約為20μm,采用類半導(dǎo)體的光刻技術(shù)可低于20μm。 光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片重力夾具等方式。杭州自動化電鍍銅絲網(wǎng)印刷

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電鍍銅設(shè)備工序包括種子層制備、圖形化、電鍍?nèi)蟓h(huán)節(jié),涌現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競爭力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢;以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。四川HJT電鍍銅設(shè)備組件