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異質(zhì)結(jié)電池(HJT電池)的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)1、無(wú)PID現(xiàn)象由于電池上表面為T(mén)CO,電荷不會(huì)在電池表面的TCO上產(chǎn)生極化現(xiàn)象,無(wú)PID現(xiàn)象。同時(shí)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)也證實(shí)了這一點(diǎn)。異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池的技術(shù)應(yīng)用與前景2、低溫制造工藝HJT電池所有制程的加工溫度均低于250,避免了生產(chǎn)效率低而成本高的高溫?cái)U(kuò)散制結(jié)的過(guò)程,而且低溫工藝使得a-Si薄膜的光學(xué)帶隙、沉積速率、吸收系數(shù)以及氫含量得到較精確的控制,也可避免因高溫導(dǎo)致的熱應(yīng)力等不良影響。3、高效率HJT電池一直在刷新著量產(chǎn)的電池轉(zhuǎn)換效率的世界紀(jì)錄。HJT電池的效率比P型單晶硅電池高1-2%,而且之間的差異在慢慢增大。4、高光照穩(wěn)定性異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池的技術(shù)應(yīng)用與前景在HJT太陽(yáng)能電池中不會(huì)出現(xiàn)非晶硅太陽(yáng)能電池中常見(jiàn)的Staebler-Wronski效應(yīng)。同時(shí)HJT電池采用的N型硅片,摻雜劑為磷,幾乎無(wú)光致衰減現(xiàn)象。5、可向薄型化發(fā)展HJT電池的制程溫度低,上下表面結(jié)構(gòu)對(duì)稱(chēng),無(wú)機(jī)械應(yīng)力產(chǎn)生,可以順利實(shí)現(xiàn)薄型化;另外經(jīng)研究,對(duì)于少子壽命較高(SRV<100cm/s)的N型硅基底,片子越薄可以得到越高的開(kāi)路電壓。異質(zhì)結(jié)電池能夠充分利用太陽(yáng)能資源,為人類(lèi)創(chuàng)造更多的清潔能源和經(jīng)濟(jì)效益。安徽HJT異質(zhì)結(jié)無(wú)銀
高效異質(zhì)結(jié)電池整線(xiàn)裝備,物理的氣相沉積,PVD優(yōu)點(diǎn)沉積速度快、基材溫升低;所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好;濺射工藝可重復(fù)性好,精確控制厚度;膜層粒子的散射能力強(qiáng),繞鍍性好;不同的金屬、合金、氧化物能夠進(jìn)行混合,同時(shí)濺射于基材上;缺點(diǎn):常規(guī)平面磁控濺射技術(shù)靶材利用率不高,一般低于40%;在輝光放電中進(jìn)行,金屬離化率較低。反應(yīng)等離子體沉,RPD優(yōu)點(diǎn):對(duì)襯底的轟擊損傷小;鍍層附著性能好,膜層不易脫落;源材料利用率高,沉積速率高;易于化合物膜層的形成,增加活性;鍍膜所使用的基體材料和膜材范圍廣。缺點(diǎn):薄膜中的缺陷密度較高,薄膜與基片的過(guò)渡區(qū)較寬,應(yīng)用中受到限制(特別是電子器件和IC);薄膜中含有氣體量較高。蘇州新型異質(zhì)結(jié)光伏異質(zhì)結(jié)技術(shù)的廣泛應(yīng)用將有助于實(shí)現(xiàn)綠色能源轉(zhuǎn)型和應(yīng)對(duì)氣候變化的目標(biāo)。
高效異質(zhì)結(jié)電池整線(xiàn)設(shè)備,HWCVD 1、熱絲化學(xué)氣相沉積(HotWireCVD,HWCVD)是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來(lái)制備非晶硅薄膜,對(duì)襯底無(wú)損傷,且成膜質(zhì)量非常好,但鍍膜均勻性較差,且熱絲作為耗材,成本較高;2、HWCVD一般分為三個(gè)階段,一是反應(yīng)氣體在熱絲處的分解反應(yīng),二是基元向襯底運(yùn)輸過(guò)程中的氣相反應(yīng),第三是生長(zhǎng)薄膜的表面反應(yīng)。PECVD鍍膜均勻性較高,工藝窗口寬,對(duì)襯底損傷較大。HWCVD是利用高溫?zé)峤z催化作用使SiH4分解來(lái)成膜,對(duì)襯底無(wú)損傷,且成膜質(zhì)量好,但鍍膜均勻性較差且成本較高。
異質(zhì)結(jié)電池轉(zhuǎn)換效率高,拓展?jié)摿Υ?,工藝?jiǎn)單并且降本路線(xiàn)清晰,契合了光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的規(guī)律,是有潛力的下一代電池技術(shù)。釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶(hù)提供整線(xiàn)工藝設(shè)備的交付服務(wù)。異質(zhì)結(jié)電池整線(xiàn)解決方案:釜川自主研發(fā)的“零界”高效異質(zhì)結(jié)電池整線(xiàn)制造解決方案已實(shí)現(xiàn)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化,該解決方案疊加了雙面微晶、無(wú)銀或低銀金屬化工藝,提升了太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率、良率和產(chǎn)能,并降低了生產(chǎn)成本。光伏異質(zhì)結(jié)在建筑、農(nóng)業(yè)、交通等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,為綠色能源的發(fā)展提供了有力支持。
異質(zhì)結(jié)HJT電池生產(chǎn)設(shè)備,制絨清洗的主要目的。1去除硅片表面的污染和損傷層;2利用KOH腐蝕液對(duì)n型硅片進(jìn)行各項(xiàng)異性腐蝕,將Si(100)晶面腐蝕為Si(111)晶面的四方椎體結(jié)構(gòu)(“金字塔結(jié)構(gòu)”),即在硅片表面形成絨面,可將硅片表面反射率降低至12.5%以下,從而產(chǎn)生更多的光生載流子;3形成潔凈硅片表面,由于HJT電池中硅片襯底表面直接為異質(zhì)結(jié)界面的一部分,避免不潔凈引進(jìn)的缺陷和雜質(zhì)而帶來(lái)的結(jié)界面處載流子的復(fù)合。堿溶液濃度較低時(shí),單晶硅的(100)與(111)晶面的腐蝕速度差別比較明顯,速度的比值被稱(chēng)為各向異性因子(anisotropicfactorAF);因此改變堿溶液的濃度及溫度,可以有效地改變AF,使得在不同方向上的速度不同,在硅片表面形成密集分布的“金字塔”結(jié)構(gòu)的減反射絨面;在制絨工序,絨面大小為主要指標(biāo),一般可通過(guò)添加劑的選擇、工藝配比的變化、工藝溫度及工藝時(shí)間等來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)控制。 釜川高效異質(zhì)結(jié)電池濕法金屬化設(shè)備采用無(wú)銀或低銀工藝。南京異質(zhì)結(jié)設(shè)備哪家好
光伏異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,由非晶硅層和晶體硅層組成,具有制造工藝簡(jiǎn)單、快速和低成本的優(yōu)勢(shì)。安徽HJT異質(zhì)結(jié)無(wú)銀
異質(zhì)結(jié)電池的優(yōu)勢(shì)有,優(yōu)勢(shì)一:工藝流程短HJT電池主工藝有4道:制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、絲網(wǎng)印刷;遠(yuǎn)少于PERC(10個(gè))和TOPCON(12-13個(gè));其中,非晶硅沉積主要使用PECVD方法。TCO薄膜主要有兩種方法:RPD(反應(yīng)等離子沉積)和PVD。優(yōu)勢(shì)二:轉(zhuǎn)換效率高得益于N型硅襯底以及非晶硅對(duì)基底表面缺陷的雙重鈍化作用。目前量產(chǎn)效率普遍已在25%以上;更高的轉(zhuǎn)化效率需要在前后表面使用摻雜納米晶硅、摻雜微晶硅、摻雜微晶氧化硅、摻雜微晶碳化硅取代現(xiàn)有的摻雜。HJT效率潛力超28%,遠(yuǎn)高PERC電池。優(yōu)勢(shì)三:無(wú)LID&PID,低衰減無(wú)LID與PID:由于HJT電池襯底通常為N型單晶硅,而N型單晶硅為磷摻雜,不存在P型晶硅中的硼氧復(fù)合、硼鐵復(fù)合等,所以HJT電池對(duì)于LID效應(yīng)是免疫的。HJT電池的表面沉積有TCO薄膜,無(wú)絕緣層,因此無(wú)表面層帶電的機(jī)會(huì),從結(jié)構(gòu)上避免PID發(fā)生。低衰減:HJT電池首年衰減1-2%,此后每年衰減0.25%,遠(yuǎn)低于PERC電池?fù)芥壠乃p情況(首年衰減2%,此后每年衰減0.45%),因此HJT電池全生命周期每W發(fā)電量高出雙面PERC電池約1.9%-2.9%。安徽HJT異質(zhì)結(jié)無(wú)銀