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銅電鍍是一種非接觸式的電極金屬化技術(shù),在基體金屬表面通過(guò)電解方法沉積金屬銅制作銅柵線,收集光伏效應(yīng)產(chǎn)生的 載流子。為解決電鍍銅與透明導(dǎo)電薄膜(TCO)之間的接觸與附著性問(wèn)題,需先 使用 PVD 設(shè)備鍍一層極薄的銅種子層(100nm),銜接前序的 TCO 和后序的電 鍍銅,種子層制備后還需對(duì)其進(jìn)行快速燒結(jié)處理,以進(jìn)一步強(qiáng)化附著力。同時(shí), 銅種子層作為后續(xù)電鍍銅的勢(shì)壘層,可防止銅向硅內(nèi)部擴(kuò)散。銀漿成本高有四大降本路徑,兩大方向。一是減少高價(jià)低溫銀漿用量,例如多主 柵(MBB)、激光轉(zhuǎn)??;二是減少銀粉的用量,使用賤金屬替代部分銀粉,例 如銀包銅、電鍍銅。電鍍銅具有良好的抗沖擊性和抗劃痕性,可以在各種環(huán)境下保持金屬的光澤和完整性。西安光伏電池電鍍銅設(shè)備哪家好
光伏電池整線解決方案,電鍍銅工序包括種子層制備、圖形化、電鍍?nèi)蟓h(huán)節(jié),涌現(xiàn)多種設(shè)備方案。電鍍銅 工藝尚未定型,各環(huán)節(jié)技術(shù)方案包括(1)種子層:設(shè)備主要采用 PVD,主要技術(shù)分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用;(2)圖形化:感光材料 分為干膜和油墨,主要技術(shù)分歧在于曝光顯影環(huán)節(jié)選用掩膜類(lèi)光刻/LDI 激光直寫(xiě)/激光 開(kāi)槽;(3)電鍍:主要技術(shù)分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導(dǎo)電鍍。釜川(無(wú)錫)智能科技有限公司,以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶(hù)提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。廣州光伏電池電鍍銅絲網(wǎng)印刷電鍍銅助力光伏電池金屬化環(huán)節(jié)降本增效。
電鍍銅的硬度可以通過(guò)以下幾種方式進(jìn)行控制:1.電鍍液的成分:電鍍液的成分可以影響電鍍銅的硬度。例如,添加一些有機(jī)添加劑可以使電鍍銅的硬度增加。2.電鍍液的溫度:電鍍液的溫度可以影響電鍍銅的晶粒大小和分布,從而影響其硬度。一般來(lái)說(shuō),較高的電鍍液溫度可以使電鍍銅的硬度增加。3.電鍍時(shí)間:電鍍時(shí)間也可以影響電鍍銅的硬度。一般來(lái)說(shuō),較長(zhǎng)的電鍍時(shí)間可以使電鍍銅的硬度增加。4.電流密度:電流密度可以影響電鍍銅的晶粒大小和分布,從而影響其硬度。一般來(lái)說(shuō),較高的電流密度可以使電鍍銅的硬度增加。5.預(yù)處理:在電鍍之前,對(duì)基材進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理可以改善電鍍銅的硬度。例如,通過(guò)機(jī)械打磨或化學(xué)處理可以使基材表面更加平整,從而使電鍍銅的硬度增加??傊?,電鍍銅的硬度可以通過(guò)調(diào)整電鍍液的成分、溫度、時(shí)間和電流密度等參數(shù)以及對(duì)基材進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理來(lái)進(jìn)行控制。
銅電鍍相較銀漿絲網(wǎng)印刷,優(yōu)勢(shì)主要在兩方面:降本與提效。1)降本:在自然界中,金屬導(dǎo)電性由高到低分別是銀、銅、金、鋁、鎳、鐵,但銀屬于貴金屬,價(jià)格較高,不適合做導(dǎo)線,若采用其做導(dǎo)線,將拉高生產(chǎn)成本,因此在光伏電池片中,無(wú)論是使用高溫銀漿還是低溫銀漿,銀漿成本高昂是產(chǎn)業(yè)規(guī)?;袋c(diǎn),銅作為賤金屬,若能替代銀,降本問(wèn)題基本迎刃而解。2)效率提升:金屬銀導(dǎo)電性強(qiáng)于金屬銅,但銀漿屬于混合流動(dòng)膠體,導(dǎo)電性較純銅的銅柵線弱,線寬可以做到更細(xì)的銅柵線發(fā)電效率也更高。電鍍銅種子層制備:PVD對(duì)工藝溫度要求較低,為目前主流方案。
銅電鍍與傳統(tǒng)絲網(wǎng)印刷的差異主要在TCO膜制備工序之后,前兩道的工藝制絨與PVD濺射未變:傳統(tǒng)異質(zhì)結(jié)產(chǎn)線在TCO膜制備之后采用銀漿印刷和燒結(jié),而銅電鍍則把銀漿絲網(wǎng)印刷替換成制備銅柵線的圖形化和金屬化兩大工序。圖形化工藝:PVD(物理的氣相沉積法)設(shè)備在硅片TCO表面濺射一層100nm的銅種子層,使用石蠟或油墨印刷機(jī)(掩膜一體機(jī))的濕膜法制作掩膜/噴涂感光膠,印刷、烘干后經(jīng)過(guò)曝光機(jī)曝光處理后,將感光膠或光刻膠上的圖形顯影。金屬化工藝:特定圖形的銅沉積(電鍍銅),然后使用不同的抗氧化方法進(jìn)行處理(電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護(hù)層),除去之前的掩膜/感光膠,刻蝕去除多余銅種子層,避免電鍍銅在種子層腐蝕過(guò)程中引入缺陷,露出原本的TCO,其后再進(jìn)行表面處理,至此形成完整的銅電鍍工序。整個(gè)過(guò)程使用的主要設(shè)備是電鍍?cè)O(shè)備。HJT電鍍銅疊層技術(shù)路線。廣東高效電鍍銅工藝
圖形化與電鍍銅替代銀漿絲網(wǎng)印刷。西安光伏電池電鍍銅設(shè)備哪家好
電鍍銅導(dǎo)電性與發(fā)電效率雙重提升金屬柵線電極與透明導(dǎo)電膜之間形成一個(gè)非整流的接觸——?dú)W姆接觸,歐姆接觸效果決定電池導(dǎo)電性與發(fā)電效率能否達(dá)到適合。影響歐姆接觸效果的因素有接觸面緊密結(jié)合度、柵線材料電阻率,電阻率越大,電池片對(duì)電子或載流子的負(fù)荷越高,電子或載流子的通過(guò)率越差。銅柵線導(dǎo)電性強(qiáng)于銀漿。銅的導(dǎo)電性與銀相近,但銀漿屬于混合物膠體,銅柵線是純銅,因此銅柵線的電阻率更低,銅柵線電阻率是1.7Ω/m,銀漿的電阻率大約為5-10Ω/m。西安光伏電池電鍍銅設(shè)備哪家好