鄭州工業(yè)濕法堿拋設(shè)備

濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。濕法制絨設(shè)備（Topcon工藝）采用進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。鄭州工業(yè)濕法堿拋設(shè)備

電池濕法設(shè)備是一種用于電池制造的設(shè)備，操作時需要注意以下安全事項(xiàng)：1.確保設(shè)備處于良好狀態(tài)：在操作設(shè)備之前，需要檢查設(shè)備是否處于良好狀態(tài)，如有損壞或故障應(yīng)及時維修或更換。2.穿戴個人防護(hù)裝備：在操作設(shè)備時，應(yīng)穿戴適當(dāng)?shù)膫€人防護(hù)裝備，如手套、護(hù)目鏡、口罩等，以保護(hù)自身安全。3.遵守操作規(guī)程：在操作設(shè)備時，應(yīng)嚴(yán)格遵守操作規(guī)程，按照正確的操作步驟進(jìn)行操作，不得擅自更改或調(diào)整設(shè)備。4.防止電解液泄漏：電池濕法設(shè)備中使用的電解液具有腐蝕性，操作時應(yīng)注意防止電解液泄漏，如發(fā)現(xiàn)泄漏應(yīng)及時清理。5.防止電池短路：在操作設(shè)備時，應(yīng)注意防止電池短路，如電池短路可能導(dǎo)致火災(zāi)等危險。6.禁止吸煙和使用明火：在操作設(shè)備時，應(yīng)禁止吸煙和使用明火，以防止火災(zāi)等危險。7.定期維護(hù)設(shè)備：定期對設(shè)備進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)，保持設(shè)備的良好狀態(tài)，以確保設(shè)備的安全性和穩(wěn)定性?？傊僮麟姵貪穹ㄔO(shè)備時，應(yīng)注意安全事項(xiàng)，保護(hù)自身安全，確保設(shè)備的正常運(yùn)行。杭州濕法三頭電池濕法設(shè)備采用高質(zhì)量的材料和零部件，確保設(shè)備的長壽命和可靠性。

光伏電池濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。

專業(yè)濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。電池濕法設(shè)備采用先進(jìn)的制備技術(shù)，為高性能電池的制造提供穩(wěn)定且高效的生產(chǎn)流程。

光伏電池濕法設(shè)備濕法制絨設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。電池濕法設(shè)備具備高度自動化的裝配系統(tǒng)，可大幅提高生產(chǎn)效率和質(zhì)量。鄭州光伏電池濕法刻蝕

電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。鄭州工業(yè)濕法堿拋設(shè)備

光伏電池濕法制絨設(shè)備，與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了全方面升級。其中心作用是對太陽能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理，從而提升電池的質(zhì)量和效率。釜川以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品，打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì)，憑借技術(shù)競爭力，在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。鄭州工業(yè)濕法堿拋設(shè)備