硅片濕法裝備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-02-07

電池濕法設(shè)備Perc工藝,濕濕法刻蝕設(shè)備功能是去除背面PSG和拋光處理。設(shè)備優(yōu)勢(shì)l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí),對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽:采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式,堿拋設(shè)備:鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備,設(shè)備產(chǎn)能大,穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。光伏電池濕法制絨清洗設(shè)備(XBC工藝)使硅片正面絨面產(chǎn)生,背面區(qū)域打開。硅片濕法裝備

硅片濕法裝備,濕法

電池濕法設(shè)備Topcon工藝,拋清洗設(shè)備,功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí),對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽:采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式,l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備,設(shè)備產(chǎn)能大,穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。杭州大產(chǎn)能濕法去BSG電池濕法設(shè)備配合先進(jìn)的清洗技術(shù),可有效去除電池極板上的雜質(zhì)和污染物,提高電池的電化學(xué)性能。

硅片濕法裝備,濕法

電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層,去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢(shì):閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí),對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽:采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式,l進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差<±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝,保證硅片表面的潔凈度。光伏電池濕法制絨設(shè)備,與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。

電池濕法設(shè)備Topcon工藝,使用強(qiáng)堿腐蝕在硅片背面拋光形成近似鏡面的絨面結(jié)構(gòu),提高硅片對(duì)長(zhǎng)波的吸收2.增加背鈍化膜的膜厚均勻性3.降低了背面的表面積,提升了少子壽命,降低背面復(fù)合速率。進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。光伏電池濕法制絨設(shè)備(HJT工藝)增加硅片表面積,進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。

硅片濕法裝備,濕法

電池濕法設(shè)備是一種用于生產(chǎn)電池的設(shè)備,其主要作用是將電池的正負(fù)極材料浸泡在電解液中,使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而產(chǎn)生電能。為了提高電池的性能和降低生產(chǎn)成本,可以優(yōu)化以下幾個(gè)參數(shù):1.電解液配方:電解液是電池濕法設(shè)備中重要的組成部分之一,其配方的優(yōu)化可以顯著影響電池的性能。例如,可以通過調(diào)整電解液中的鹽酸濃度、添加劑種類和濃度等參數(shù)來提高電池的能量密度和循環(huán)壽命。2.電極材料:電極材料是電池濕法設(shè)備中另一個(gè)重要的參數(shù),其優(yōu)化可以提高電池的能量密度和循環(huán)壽命。例如,可以通過改變電極材料的晶體結(jié)構(gòu)、粒徑和形態(tài)等參數(shù)來提高電極的儲(chǔ)能性能和穩(wěn)定性。3.工藝參數(shù):電池濕法設(shè)備的工藝參數(shù)包括電解液溫度、電流密度、浸泡時(shí)間等,這些參數(shù)的優(yōu)化可以提高電池的生產(chǎn)效率和質(zhì)量。例如,可以通過調(diào)整電解液溫度和電流密度來控制電極材料的沉積速率和形態(tài),從而提高電池的能量密度和循環(huán)壽命。4.設(shè)備結(jié)構(gòu):電池濕法設(shè)備的結(jié)構(gòu)也可以進(jìn)行優(yōu)化,例如改變電極材料的布局和形態(tài),優(yōu)化電解槽的設(shè)計(jì)等,這些改進(jìn)可以提高電池的生產(chǎn)效率和質(zhì)量,降低生產(chǎn)成本。太陽能光伏電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)可去除背面BSG和拋光處理。浙江自動(dòng)化濕法設(shè)備HJT工藝

太陽能光伏電池濕法制絨設(shè)備(Topcon工藝)使用強(qiáng)堿腐蝕在硅片背面拋光形成近似鏡面的絨面結(jié)構(gòu)。硅片濕法裝備

光伏電池濕法制絨設(shè)備,與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了全方面升級(jí)。其中心作用是對(duì)太陽能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,從而提升電池的質(zhì)量和效率。釜川以半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備、太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備為主要產(chǎn)品,打造光伏設(shè)備一體化服務(wù)。擁有強(qiáng)大的科研團(tuán)隊(duì),憑借技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力,在清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、電鍍銅設(shè)備等方面都有獨(dú)特優(yōu)勢(shì);以高效加工制造、快速終端交付的能力,為客戶提供整線工藝設(shè)備的交付服務(wù)。硅片濕法裝備