江蘇自動化濕法刻蝕

光伏電池濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機構(gòu)運動平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機+高效過濾器的方式，l鏈式去BSG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內(nèi)控溫精度誤差＜±1℃。光伏電池濕法背拋清洗設(shè)備（XBC工藝）進口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。江蘇自動化濕法刻蝕

光伏電池濕法設(shè)備XBC工藝背拋清洗設(shè)備，功能l硅片拋光處理。優(yōu)勢：進口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內(nèi)控溫精度誤差＜±1℃。l去除切割損傷層和表面臟污l使用強堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。蘇州自動化濕法去BSG光伏電池濕法制絨設(shè)備能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內(nèi)控溫精度誤差＜±1℃。

在選擇電池濕法設(shè)備時，需要考慮以下因素：1.生產(chǎn)規(guī)模：根據(jù)生產(chǎn)規(guī)模選擇合適的設(shè)備，以滿足生產(chǎn)需求。2.設(shè)備質(zhì)量：選擇質(zhì)量可靠、穩(wěn)定的設(shè)備，以確保生產(chǎn)過程中的安全和穩(wěn)定性。3.設(shè)備價格：根據(jù)預(yù)算選擇合適的設(shè)備，以確保經(jīng)濟效益。4.設(shè)備維護和保養(yǎng)：選擇易于維護和保養(yǎng)的設(shè)備，以確保設(shè)備長期穩(wěn)定運行。5.生產(chǎn)工藝：根據(jù)生產(chǎn)工藝選擇合適的設(shè)備，以確保生產(chǎn)過程中的效率和質(zhì)量。6.環(huán)保要求：選擇符合環(huán)保要求的設(shè)備，以確保生產(chǎn)過程中的環(huán)保性。7.廠家信譽度：選擇信譽度高、服務(wù)好的廠家，以確保售后服務(wù)質(zhì)量。8.技術(shù)支持：選擇提供技術(shù)支持的廠家，以確保設(shè)備的正常運行和維護。

電池濕法去PSG設(shè)備主要是對太陽能電池用硅片進行清洗處理，2022年成功研發(fā)雙六道大產(chǎn)能去PSG清洗設(shè)備，并實現(xiàn)量產(chǎn)，結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、產(chǎn)能、安全性升級。去PSG工藝首先將繞擴層PSG進行去除，利用背面PSG保護，在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩(wěn)定的硅片傳輸，整機設(shè)計為雙五道/雙六道分布結(jié)構(gòu)，料臺歸正寬度可調(diào)，兼容更多規(guī)格的硅片，并為后續(xù)18X硅片更大產(chǎn)能改造提供了預(yù)留窗口；去PSG設(shè)備布局前后通透，給設(shè)備使用者提供了便捷性；上料臺搭配了大流量全新滴液泵；濕法制絨設(shè)備（Topcon工藝）采用進口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。

濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機構(gòu)運動平穩(wěn)性。拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理。烘干槽：采用高壓風(fēng)機+高效過濾器的方式，l鏈式去BSG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。進口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內(nèi)控溫精度誤差＜±1℃。電池濕法RCA槽式清洗設(shè)備（Topcon工藝）可以去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。大產(chǎn)能濕法堿拋設(shè)備

電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）慢提拉采用機械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。江蘇自動化濕法刻蝕

光伏電池濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機構(gòu)運動平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護及輥輪帶液方式，完整的保護正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機+高效過濾器的方式，l鏈式去BSG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分攪拌均勻，槽內(nèi)控溫精度誤差＜±1℃。江蘇自動化濕法刻蝕