合肥專業(yè)異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家

太陽能異質(zhì)結(jié)電池工藝 1.清洗制絨。通過腐蝕去除表面損傷層，并且在表面進行制絨，以形成絨面結(jié)構(gòu)達到陷光效果，減少反射損失；2.正面/背面非晶硅薄膜沉積。通過CVD方式在正面/背面分別沉積5~10nm的本征a-Si:H，作為鈍化層，然后再沉積摻雜層；3.正面/背面TCO沉積。通過PVD在鈍化層上面進行TCO薄膜沉積；4.柵線電極。通過絲網(wǎng)印刷進行柵線電極制作；5.烘烤(退火)。通過絲網(wǎng)印刷進行正面柵線電極制作，然后通過低溫?zé)Y(jié)形成良好的接觸；6.光注入。7.電池測試及分選。釜川自主研發(fā)的“零界”高效異質(zhì)結(jié)電池整線制造解決方案已實現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化。合肥專業(yè)異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家

HJT電池所有制程的加工溫度均低于250，避免了生產(chǎn)效率低而成本高的高溫擴散制結(jié)的過程，而且低溫工藝使得a-Si薄膜的光學(xué)帶隙、沉積速率、吸收系數(shù)以及氫含量得到較精確的控制，也可避免因高溫導(dǎo)致的熱應(yīng)力等不良影響。HJT電池轉(zhuǎn)換效率高，拓展?jié)摿Υ螅に嚭唵尾⑶医当韭肪€清晰，契合了光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的規(guī)律，是有潛力的下一代電池技術(shù)。HJT電池為對稱的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場作用。合肥專業(yè)異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家異質(zhì)結(jié)電池主工藝之一：金屬化設(shè)備。

異質(zhì)結(jié)電池HJT是HeterojunctionTechnology的縮寫，是一種N型單晶雙面電池，具有工藝簡單、發(fā)電量高、度電成本低的優(yōu)勢。異質(zhì)結(jié)太陽能電池使用晶體硅片進行載流子傳輸和吸收，并使用非晶/或微晶薄硅層進行鈍化和結(jié)的形成。頂部電極由透明導(dǎo)電氧化物（TCO）層和金屬網(wǎng)格組成。異質(zhì)結(jié)硅太陽能電池已經(jīng)吸引了很多人的注意，因為它們可以達到很高的轉(zhuǎn)換效率，可達26.3%，由隆基團隊對HJT極限效率進行更新為28.5%，同時使用低溫度加工，通常整個過程低于200℃。低加工溫度允許處理厚度小于100微米的硅晶圓，同時保持高產(chǎn)量。

異質(zhì)結(jié)電池整線生產(chǎn)設(shè)備，l在擴散的過程中，pn結(jié)p區(qū)一側(cè)出現(xiàn)負電荷區(qū)，n區(qū)一側(cè)出現(xiàn)正電荷區(qū)，其形成空間電荷區(qū)，在空間內(nèi)部形成內(nèi)建電場，載流子做漂移運動，阻礙電子與空穴的擴散，達到平衡，能帶停止相對移動，p區(qū)能帶相對于n區(qū)上移，n區(qū)能帶相對于p區(qū)下移，pn結(jié)的費米能級處處相等，即載流子的擴散電流和漂移電流相互抵消；pn結(jié)勢壘區(qū)存在較強的內(nèi)建電場（自n區(qū)指向p區(qū)），則p區(qū)的電子進入n區(qū)，n區(qū)的空穴進入p區(qū)，使p端電勢升高，n端電勢降低，在pn結(jié)兩端產(chǎn)生光生電動勢，即為PN結(jié)的光生伏特效應(yīng)。同理，由于光照在PN結(jié)兩端產(chǎn)生光生電動勢，即在PN結(jié)兩端加上正向偏壓V，則產(chǎn)生正向電流IF，在PN結(jié)開路時，光生電流等于正向電流，PN結(jié)兩端建立起穩(wěn)定的電勢差VOC，即光電池的開路電壓，這就是光電池的基本原理。異質(zhì)結(jié)電池主工藝有4道：制絨、非晶硅沉積、TCO沉積、金屬化。

異質(zhì)結(jié)是指由兩種或兩種以上不同材料組成的結(jié)構(gòu)，其中兩種材料的晶格結(jié)構(gòu)、能帶結(jié)構(gòu)、電子親和能、禁帶寬度等物理性質(zhì)不同。在異質(zhì)結(jié)中，由于材料的不同，電子在兩種材料之間會發(fā)生反射、透射、折射等現(xiàn)象，從而形成電子的能帶結(jié)構(gòu)和電子密度分布的變化，這種變化會影響電子的傳輸和能量的轉(zhuǎn)移。異質(zhì)結(jié)在半導(dǎo)體器件中有廣泛的應(yīng)用，例如PN結(jié)、MOSFET、LED等。其中，PN結(jié)是基本的異質(zhì)結(jié)器件，由P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體組成，具有整流、放大、開關(guān)等功能，廣泛應(yīng)用于電子器件中。MOSFET是一種基于金屬-氧化物-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的異質(zhì)結(jié)器件，具有高速、低功耗、高可靠性等優(yōu)點，被廣泛應(yīng)用于集成電路中。LED是一種基于半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)的發(fā)光器件，具有高亮度、長壽命、低功耗等優(yōu)點，被廣泛應(yīng)用于照明、顯示等領(lǐng)域?？傊?，異質(zhì)結(jié)是半導(dǎo)體器件中的重要組成部分，其物理性質(zhì)和應(yīng)用具有重要意義。異質(zhì)結(jié)電池主工藝之一：PECVD設(shè)備。西安自動化異質(zhì)結(jié)裝備供應(yīng)商

光伏異質(zhì)結(jié)結(jié)合了晶體硅和薄膜太陽能電池的優(yōu)點，能在低成本下實現(xiàn)高效率。合肥專業(yè)異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家

高效HJT電池整線裝備，物理的氣相沉積，PVD優(yōu)點沉積速度快、基材溫升低；所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好；濺射工藝可重復(fù)性好，精確控制厚度；膜層粒子的散射能力強，繞鍍性好；不同的金屬、合金、氧化物能夠進行混合，同時濺射于基材上；缺點：常規(guī)平面磁控濺射技術(shù)靶材利用率不高，一般低于40％；在輝光放電中進行，金屬離化率較低。反應(yīng)等離子體沉，RPD優(yōu)點：對襯底的轟擊損傷小；鍍層附著性能好，膜層不易脫落；源材料利用率高，沉積速率高；易于化合物膜層的形成，增加活性；鍍膜所使用的基體材料和膜材范圍廣。缺點：薄膜中的缺陷密度較高，薄膜與基片的過渡區(qū)較寬，應(yīng)用中受到限制（特別是電子器件和IC）；薄膜中含有氣體量較高。合肥專業(yè)異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家