南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-28

質(zhì)結(jié)電池TCO薄膜的方法主要有兩種:RPD(特指空心陰極離子鍍)和PVD(特指磁控濺射鍍膜);l該工藝主要是在電池正背面上沉積一層透明導(dǎo)電膜層,通過該層薄膜實(shí)現(xiàn)導(dǎo)電、減反射、保護(hù)非晶硅薄膜的作用,同時(shí)可以有效地增加載流子的收集;l目前常用于HJT電池TCO薄膜為In2O3系列,如ITO(錫摻雜In2O3,@PVD濺射法)、IWO(鎢摻雜In2O3,@RPD方法沉積)等。HJT電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間。零界高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案,實(shí)現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化,高效高產(chǎn)PVD DD CVD。釜川自主研發(fā)的“零界”高效異質(zhì)結(jié)電池整線制造解決方案已實(shí)現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化。南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備

南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備,異質(zhì)結(jié)

高效異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)流程中使用的設(shè)備,PECVD 1.等離子化學(xué)氣相沉積(PlasmaEnhancedCVD,PECVD)是指利用輝光放電的物理作用來化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的CVD技術(shù);2.異質(zhì)結(jié)非晶硅薄膜沉積是采用RPECVD技術(shù),射頻等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD),是PECVD的另外一種技術(shù)。它是利用射頻能量使反應(yīng)氣體等離子化。優(yōu)點(diǎn):低溫成膜(300-350℃),對(duì)基片影響小,避免了高溫帶來的膜層晶粒粗大;l低壓下形成薄膜厚度及成分較均勻、膜層致密、內(nèi)應(yīng)力小,不易產(chǎn)生裂紋;l擴(kuò)大CVD應(yīng)用范圍,特別是在不同基片上制備金屬薄膜、非晶態(tài)無機(jī)薄膜等,薄膜的附著力大于普通CVD。安徽零界高效異質(zhì)結(jié)設(shè)備異質(zhì)結(jié)電池功率高,雙面率高,工序短,低溫工藝,溫度系數(shù)低,衰減低等。

異質(zhì)結(jié)是指由兩種或兩種以上不同材料組成的結(jié)構(gòu),其中兩種材料的晶格結(jié)構(gòu)、能帶結(jié)構(gòu)、電子親和能、禁帶寬度等物理性質(zhì)不同。在異質(zhì)結(jié)中,由于材料的不同,電子在兩種材料之間會(huì)發(fā)生反射、透射、折射等現(xiàn)象,從而形成電子的能帶結(jié)構(gòu)和電子密度分布的變化,這種變化會(huì)影響電子的傳輸和能量的轉(zhuǎn)移。異質(zhì)結(jié)在半導(dǎo)體器件中有廣泛的應(yīng)用,例如PN結(jié)、MOSFET、LED等。其中,PN結(jié)是基本的異質(zhì)結(jié)器件,由P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體組成,具有整流、放大、開關(guān)等功能,廣泛應(yīng)用于電子器件中。MOSFET是一種基于金屬-氧化物-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的異質(zhì)結(jié)器件,具有高速、低功耗、高可靠性等優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于集成電路中。LED是一種基于半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)的發(fā)光器件,具有高亮度、長壽命、低功耗等優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于照明、顯示等領(lǐng)域??傊?,異質(zhì)結(jié)是半導(dǎo)體器件中的重要組成部分,其物理性質(zhì)和應(yīng)用具有重要意義。

光伏高效異質(zhì)結(jié)電池整線解決方案,產(chǎn)業(yè)機(jī)遇:方向清晰:HJT技術(shù)工藝流程短、功率衰減低、輸出功率穩(wěn)定、雙面發(fā)電增益高、未來主流技術(shù)方向;時(shí)間明確:HJT平均量產(chǎn)效率已超過PERC瓶頸(25%),行業(yè)對(duì)HJT電池投入持續(xù)加大,電池商業(yè)化已逐漸成熟;機(jī)遇可期:設(shè)備與耗材是HJT規(guī)?;年P(guān)鍵,降本增效是不變的主題,具備HJT整線整合能力的供應(yīng)商優(yōu)勢(shì)明顯。當(dāng)前HJT生產(chǎn)成本約:硅片占比約50%,銀漿占比約25%,靶材約6%左右;當(dāng)前HJT設(shè)備成本約:清洗制絨設(shè)備、PECVD設(shè)備、PVD設(shè)備、絲網(wǎng)印刷,設(shè)備投資額占比分別約10%、50%、25%和15%。異質(zhì)結(jié)電池主工藝之一:PECVD設(shè)備。

光伏異質(zhì)結(jié)是太陽能電池的主要部件,其主要作用是將太陽能轉(zhuǎn)化為電能。為了提高太陽能利用率,可以采取以下措施:1.提高光吸收率:通過增加光伏電池的厚度或使用多層結(jié)構(gòu),可以提高光吸收率,從而提高太陽能利用率。2.優(yōu)化電池結(jié)構(gòu):通過優(yōu)化電池結(jié)構(gòu),如增加電池表面的納米結(jié)構(gòu)、改變電極材料等,可以提高電池的光電轉(zhuǎn)換效率,從而提高太陽能利用率。3.提高電池效率:通過使用高效的電池材料和工藝,可以提高電池的效率,從而提高太陽能利用率。4.優(yōu)化光伏系統(tǒng)設(shè)計(jì):通過優(yōu)化光伏系統(tǒng)的設(shè)計(jì),如調(diào)整光伏電池的朝向、傾角等,可以提高光伏系統(tǒng)的發(fā)電效率,從而提高太陽能利用率。綜上所述,提高光吸收率、優(yōu)化電池結(jié)構(gòu)、提高電池效率和優(yōu)化光伏系統(tǒng)設(shè)計(jì)是提高光伏異質(zhì)結(jié)太陽能利用率的關(guān)鍵措施。光伏異質(zhì)結(jié)的結(jié)構(gòu)簡單,由非晶硅層和晶體硅層組成,具有制造工藝簡單、快速和低成本的優(yōu)勢(shì)。鄭州N型異質(zhì)結(jié)無銀

光伏異質(zhì)結(jié)的應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大,包括但不限于家庭、商業(yè)、工業(yè)、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域。南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備

異質(zhì)結(jié)(Heterojunction with Intrinsic Thin-layer,HJT)電池為對(duì)稱的雙面結(jié)構(gòu),主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層(包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H)、雙面的透明導(dǎo)電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中,本征非晶硅層起到表面鈍化作用,P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層,N 型摻雜非晶硅層起到背場作用。HJT是有潛力優(yōu)勢(shì)的技術(shù),在將來HJT電池與鈣鈦礦技術(shù)進(jìn)行復(fù)合疊層,突破轉(zhuǎn)換效率30%成為可能。南京HJT異質(zhì)結(jié)制絨設(shè)備