濺射靶材開裂原因生產(chǎn)中使用的冷卻水溫度與鍍膜線實際水溫存在差異,導致使用過程中靶材開裂。一般來說,輕微的裂紋不會對鍍膜生產(chǎn)產(chǎn)生很大的影響。但當靶材有明顯裂紋時,電荷很容易集中在裂紋邊緣,導致靶材表面異常放電。放電會導致落渣、成膜異常、產(chǎn)品報廢增加。陶瓷或脆性材料靶材始終含有固有應力。這些內應力是在靶材制造發(fā)展過程中可以產(chǎn)生的。此外,這些應力不會被退火過程完全消除,因為這是這些材料的固有特性。在濺射過程中,氣體離子被轟擊以將它們的動量傳遞給目標原子,提供足夠的能量使其從晶格中逃逸。這種放熱動量轉移使靶材溫度升高,在原子水平上可能達到極高的溫度。這些熱沖擊將靶材中已經(jīng)發(fā)展存在的內應力將會增加到許多倍。在這種情況下,如果不適當散熱,靶材就可能會斷裂。二、濺射靶材開裂應對事項為了防止靶材開裂,需要著重考慮的是散熱。需要水冷卻機構以從靶去除不需要的熱能。另一個需要考慮的問題是功率的增加。短時間內施加過大的功率也會對目標造成熱沖擊。此外,我們建議將靶材粘合到背板上,這不僅為靶材提供了支撐,而且促進了靶材與水之間更好的熱交換。如果目標有一個裂紋,但它是粘接到背板上,仍可以正常使用。超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復用到的濺射工藝屬于PVD技術的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術之一。寧夏顯示行業(yè)陶瓷靶材廠家
研究直流磁控反應濺射ITO膜過程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA、LECO測氧儀等手段對毒化發(fā)生的機理進行分析,并對若干誘導因素進行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導毒化發(fā)生.ITO薄膜作為一種重要的透明導電氧化物半導體材料,因具有良好的導電性能及光透射率廣泛應用于液晶顯示、太陽能電池、靜電屏蔽、電致發(fā)光等技術中,用氧化銦+氧化錫燒結體作為靶材,直流磁控反應濺射法制備ITO薄膜與用銦錫合金靶相比,具有沉積速度快,膜質優(yōu)良,工藝易控等優(yōu)點成為目前的主流?但是,此法成膜過程中會經(jīng)常發(fā)生ITO靶材表面黑色化,生成黑色不規(guī)則球狀節(jié)瘤,本文稱此現(xiàn)象為靶材毒化,毒化使濺射速率下降,膜質劣化,迫使停機清理靶材表面后才能繼續(xù)正常濺射,嚴重影響了鍍膜效率。廣西ITO陶瓷靶材多少錢靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射,可以起到清潔靶材表面的作用。
磁控濺射時靶材表面變黑我們可以想到的1、可能靶材是多孔的,(細孔)在孔中有一些有機污染物(極端可能性);2、可能靶材有點粗糙,用紙巾用異丙醇擦拭,粗糙的表面在目標表面保留了一些細薄的組織纖維,這可能是碳污染的來源;3、沉積速率可能相當高,并產(chǎn)生非常粗糙的沉積物;4、基板與靶材保持非常接近,在目前的濺射條件下(功率、壓力、子靶材距離)有一些發(fā)熱,氣體中有一些污染;5、真空室漏氣或漏水,真空室內有揮發(fā)的成分,沒有充入氬氣,充入空氣或其他氣體,可能引起中毒,這些成分與靶材反應,變成黑色物質覆蓋靶材表面。
靶材作為半導體、顯示面板、光伏電池等的關鍵原料,預計2025年全球市場規(guī)模將達333億美元,從下游來看,能夠認為半導體靶材市場、顯示面板靶材市場以及光伏面板靶材市場未來成長空間較大,國產(chǎn)替代需求強烈。而HJT電池靶材有望快速實現(xiàn)國產(chǎn)替代國產(chǎn)靶材廠商有望在HJT電池時代實現(xiàn)靶材上的彎道超車。對于異質結電池這個全新領域,靶材還未大規(guī)模應用,考慮到電池廠商與海外企業(yè)合作研發(fā)效率較低,同時隆華科技等國內的靶材廠商品質已經(jīng)在顯示面板領域得到充分展現(xiàn)。因此從HJT電池靶材應用源頭開始,HJT電池靶材國產(chǎn)化就已先行一步。陶瓷靶材按化學組成,分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物靶材和硫化物靶材等。
靶材預濺射建議采用純氬氣進行濺射,可以起到清潔靶材表面的作用。靶材進行預濺射時建議慢慢加大濺射功率,陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時/平方厘米。金屬類靶材的預濺射速度可以比陶瓷靶材快,一個合理的功率加大速率為1.5W小時/平方厘米。在進行預濺射的同時需要檢查靶材起弧狀況,預濺射時間一般為10分鐘左右。如沒有起弧現(xiàn)象,繼續(xù)提升濺射功率到設定功率。根據(jù)經(jīng)驗,一般應確保冷卻水出水口的水溫應低于35攝氏度,但非常重要的是確保冷卻水的循環(huán)系統(tǒng)能有效工作,通過冷卻水的快速循環(huán)帶走熱量,是確保能以較高功率連續(xù)濺射的一項重要保障。陶瓷靶材的制備工藝難點;遼寧陶瓷靶材
靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。寧夏顯示行業(yè)陶瓷靶材廠家
靶材開裂影響因素裂紋形成通常發(fā)生在陶瓷濺射靶材(如氧化物、碳化物、氮化物等)和脆性材料濺射靶材(如鉻、銻、鉍等)中。陶瓷或脆性材料目標始終包含固有應力。這些內應力是在靶材制造過程中產(chǎn)生的。此外,這些應力不能通過退火過程完全消除,因為它是這些材料的固有特性。在濺射過程中,轟擊的氣體離子將其動量傳遞給目標原子,為它們提供足夠的能量來脫離晶格。這種放熱動量傳遞增加了目標的溫度,在原子水平上可能達到1,000,000攝氏度。這些熱沖擊將目標中已經(jīng)存在的內部應力增加到許多倍。在這種情況下,如果不注意適當?shù)纳?,靶材可能會開裂。靶材開裂預防措施為了防止靶材開裂,重要的考慮因素是散熱。一方面運用水冷機制來去除靶材中不需要的熱能,另一方面考慮提高功率,在很短的時間內提升功率也會給目標帶來熱沖擊。此外,建議將這些靶材綁定到背板上,這不僅為靶材提供支撐,而且還促進靶材與水之間更好的熱交換。如果靶材破裂有背板加持的情況下,它仍然可以毫無問題地使用。寧夏顯示行業(yè)陶瓷靶材廠家