江西光伏行業(yè)陶瓷靶材價(jià)格咨詢

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-07-28

薄膜晶體管液晶顯示面板(TFT-LCD)是當(dāng)前的主流平面顯示技術(shù)。薄膜晶體管陣列的制作原理,是在真空條件下,利用離子束流去轟擊固體,使固體表面的原子電離后沉積在玻璃基板上,經(jīng)過(guò)反復(fù)多次的“沉積+刻蝕”,一層層(一般為7-12層)地堆積制作出薄膜晶體管陣列。這種被轟擊的固體,即用濺射法沉積薄膜的原材料,就被稱作濺射靶材。除LCD外,近年來(lái)快速發(fā)展的OLED面板產(chǎn)業(yè)靶材需求增長(zhǎng)也十分明顯。OLED典型結(jié)構(gòu)是在氧化銦錫(ITO)玻璃上制作一層幾十納米厚的發(fā)光材料,ITO透明電極作為器件的陽(yáng)極,鉬或者合金材料作為器件的陰極。平板顯示制造中主要使用的靶材為鉬鋁銅金屬靶材和氧化銦錫(ITO)靶材。目前國(guó)內(nèi)單條8.5代線ITO靶材年需求量約40噸,6代線ITO靶材年需求量約20噸。鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜,鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明導(dǎo)電層薄膜。江西光伏行業(yè)陶瓷靶材價(jià)格咨詢

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靶材主要用于生成太陽(yáng)能薄膜電池的背電極,晶體硅太陽(yáng)能電池較少用到濺射靶材。太陽(yáng)能電池主要包括晶體硅太陽(yáng)能電池和薄膜太陽(yáng)能電池,晶體硅太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)化效率較高、性能穩(wěn)定,且各個(gè)產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)比較成熟,占據(jù)了太陽(yáng)能電池市場(chǎng)的主導(dǎo)地位。而晶體硅太陽(yáng)能電池按照生產(chǎn)工藝不同可分為硅片涂覆型太陽(yáng)能電池以及PVD工藝高轉(zhuǎn)化率硅片太陽(yáng)能電池,其中硅片涂覆型太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)不使用濺射靶材,目前靶材主要用于太陽(yáng)能薄膜電池領(lǐng)域。靶材濺射鍍膜形成的太陽(yáng)能薄膜電池的背電級(jí)主要有三個(gè)用途:一,它是各單體電池的負(fù)極;二,它是各自電池串聯(lián)的導(dǎo)電通道;三,它可以增加太陽(yáng)能電池對(duì)光的反射。太陽(yáng)能薄膜電池用濺射靶材主要為方形板狀,對(duì)純度要求沒(méi)有半導(dǎo)體芯片用靶材要求高,一般在99.99%以上。目前制備太陽(yáng)能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。其中鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜,鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明導(dǎo)電層薄膜。智能玻璃陶瓷靶材市場(chǎng)價(jià)ITO靶材是將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后經(jīng)過(guò)生產(chǎn)加工成型,再高溫氣氛燒結(jié)形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。

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如何制成良好的陶瓷靶材也是需要注意的地方。1.成型方法:為了減少陶瓷靶材的氣孔,提高薄膜性能,要求濺射陶瓷靶材具有高密度、低氣孔率、高密度意味著陶瓷體內(nèi)晶粒排列緊密,在承受外界載荷或腐蝕性物質(zhì)侵蝕的時(shí)候不易形成破壞性的突破點(diǎn)。而要得到鈣質(zhì)密度的陶瓷胚體,成型方法是關(guān)鍵。陶瓷靶材的成型一般采用干壓、等靜壓、熱壓鑄等方法。不同的方法具有不同的特點(diǎn)。2.原料粒度:原料粉粒度對(duì)陶瓷靶材形成的薄膜質(zhì)量有很大的影響,只有原料足夠細(xì),燒制成品才有可能形成微結(jié)構(gòu),使他具有很好的耐磨性。粉料顆粒越細(xì),活性也越大,可促進(jìn)燒結(jié),制成的瓷強(qiáng)度也越高,小顆粒還可以分散由于剛玉和玻璃相線膨脹系數(shù)不同在晶界處造成的應(yīng)力集中,減少開裂的危險(xiǎn)性,細(xì)的晶粒還能妨礙微裂紋的發(fā)展,不易在成穿晶斷裂,有利于提高斷裂韌性,還可以提高耐磨性。3.燒結(jié):陶瓷的燒結(jié),簡(jiǎn)單的講就是陶瓷生坯在高溫下的致密化過(guò)程。隨著溫度的上升和時(shí)間的延長(zhǎng),粉末顆粒之間發(fā)生粘結(jié),燒結(jié)體的強(qiáng)度增加,把粉末顆粒的聚集體變?yōu)閳?jiān)強(qiáng)的具有某種顯微結(jié)構(gòu)的多晶燒結(jié)體,并獲得所需的物理,機(jī)械性能的制品或材料。樣品的致密化速率、結(jié)構(gòu)往往也反應(yīng)了它經(jīng)歷過(guò)什么樣的熱處理過(guò)程。

從ITO靶材制備方法來(lái)看,制備方法多樣,冷等靜壓優(yōu)勢(shì)突出。ITO靶材的制備方法主要有4種,分別為熱壓法、熱等靜壓法、常溫?zé)Y(jié)法、冷等靜壓法。冷等靜壓法制備ITO靶材優(yōu)點(diǎn):1)冷等靜壓法壓力較大,工件受力相對(duì)更加均勻,尤其適用于壓制大尺寸粉末制品,符合ITO靶材大尺寸的發(fā)展趨勢(shì);2)產(chǎn)品的密度相對(duì)更高,更加地均勻;3)壓粉不需要添加任何潤(rùn)滑劑;4)生產(chǎn)成本低,適合大規(guī)模生產(chǎn)。從冷等靜壓法主要制備流程看:1)制備粉末,選取氧化銦與二氧化錫(純度99.99%)進(jìn)行乳化砂磨。其中加入2%—4%的聚乙烯醇(PVA)和30%的純水進(jìn)行砂磨。然后進(jìn)行噴霧干燥,調(diào)節(jié)噴霧干燥塔參數(shù),噴霧制備不同松裝密度的ITO粉末。再將ITO粉末進(jìn)行篩網(wǎng)篩分,獲得合格的ITO粉末;2)制備素胚,將ITO粉末裝入橡膠模具中振實(shí),密封投料口,進(jìn)行冷等靜壓,得到靶材素坯;3)結(jié)燒,將素坯放置于常壓燒結(jié)爐中,保溫溫度為1450—1600℃,采用多個(gè)階段保溫?zé)Y(jié),燒結(jié)過(guò)程中通入氧氣。靶材是制備薄膜的主要材料之一。

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靶材安裝注意事項(xiàng)靶材安裝過(guò)程中非常重要的注意事項(xiàng)是一定要確保在靶材和濺射腔體冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開裂或彎曲,背靶到靶材的導(dǎo)熱性能就會(huì)受到很大的影響,導(dǎo)致在濺射過(guò)程中熱量無(wú)法散發(fā)**終會(huì)造成靶材開裂或脫靶。為確保足夠的導(dǎo)熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請(qǐng)注意要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射***冷卻壁的平整度,同時(shí)確保密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中可能會(huì)產(chǎn)生的污垢會(huì)沉積在陰極冷卻水槽內(nèi),所以在安裝靶材時(shí)需要對(duì)陰極冷卻水槽進(jìn)行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進(jìn)出水口不會(huì)被堵塞。有些陰極設(shè)計(jì)與陽(yáng)極的空隙較小,所以在安裝靶材時(shí)需要確保陰極與陽(yáng)極之間沒(méi)有接觸也不能存在導(dǎo)體,否則會(huì)產(chǎn)生短路。AZO薄膜是一種透明導(dǎo)電膜,與ITO薄膜相似的光學(xué)和電學(xué)特性,制備工藝簡(jiǎn)單、價(jià)格低、無(wú)毒和穩(wěn)定性好等特點(diǎn)。重慶氧化鋅陶瓷靶材廠家

ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中。江西光伏行業(yè)陶瓷靶材價(jià)格咨詢

制備一種同質(zhì)雙層氧化鉿減反膜,屬于光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明在透明或半透明基底上依次沉積高折射率的致密氧化鉿層和低折射率的多孔氧化鉿層。兩層氧化鉿的折射率由電子束蒸鍍的入射角度控制,厚度根據(jù)基底不同而調(diào)節(jié)。本發(fā)明采用電子束蒸鍍方法,并且雙層減反膜由同種材料制成,制備成本低、效率高。該雙層氧化鉿減反膜對(duì)于可見(jiàn)光范圍內(nèi)的多角度入射光均具有很好的減反增透能力,可用于降低窗板、觸屏電極或液晶顯示屏等表面的反射,具有廣的應(yīng)用前景。江西光伏行業(yè)陶瓷靶材價(jià)格咨詢

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