遼寧AZO陶瓷靶材廠家

來源: 發(fā)布時間:2023-07-23

陶瓷靶材的制備工藝烘料:稱量前將起始原料置于烘箱中烘料3~6小時,烘料溫度為100~120℃;配料:將烘干的原料按照相應的化學計量比稱量;球磨:將稱量好的原料以某種制備方式混料,混料時間為4~12小時,制成均勻漿料;干燥:將制得的均勻漿料烘干;煅燒:將烘干的粉料過篩并輕壓成塊狀坯體置于馬弗爐中,在800~950℃煅燒4~8小時,制成煅燒粉料;球磨:將煅燒后的粉料研磨成細粉,再次球磨、烘干得到陶瓷粉料;制坯:將制成的陶瓷粉料采用鋼模手壓成直徑5~20mm、厚度約0.5~1.2mm的樣片,將樣片放入冷等靜壓機中,施加200~350MPa的壓力,保壓60~180s,制成所得陶瓷坯體;燒結:將制成的陶瓷坯體置于馬弗爐中,在1100~1200℃燒結4~6小時;冷卻:自然冷卻至室溫,即制得某種陶瓷靶材.注:提供的溫度、時間只當做參考數(shù)據(jù).陶瓷靶材的特性要求純度:陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大,純度越高,濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質量的一致性越好.密度:為了減少陶瓷靶材的氣孔,提高薄膜性能,要求濺射陶瓷靶材具有高密度.成分與結構均勻性:為保證濺射薄膜均勻,尤其在復雜的大面積鍍膜應用中,必須做到靶材成分與結構均勻性好.通常靶材變黑引起中毒的因素靶材中毒主要受反應氣體和濺射氣體比例的影響。遼寧AZO陶瓷靶材廠家

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靶材安裝注意事項靶材安裝過程中非常重要的注意事項是一定要確保在靶材和濺射腔體冷卻壁之間建立很好的導熱連接。如果冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發(fā)生開裂或彎曲,背靶到靶材的導熱性能就會受到很大的影響,導致在濺射過程中熱量無法散發(fā)**終會造成靶材開裂或脫靶。為確保足夠的導熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意要仔細檢查和明確所使用濺射***冷卻壁的平整度,同時確保密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設備運行過程中可能會產(chǎn)生的污垢會沉積在陰極冷卻水槽內(nèi),所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻水槽進行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進出水口不會被堵塞。有些陰極設計與陽極的空隙較小,所以在安裝靶材時需要確保陰極與陽極之間沒有接觸也不能存在導體,否則會產(chǎn)生短路。甘肅功能性陶瓷靶材咨詢報價濺射靶材綁定背板流程;

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制備一種同質雙層氧化鉿減反膜,屬于光學薄膜技術領域。本發(fā)明在透明或半透明基底上依次沉積高折射率的致密氧化鉿層和低折射率的多孔氧化鉿層。兩層氧化鉿的折射率由電子束蒸鍍的入射角度控制,厚度根據(jù)基底不同而調(diào)節(jié)。本發(fā)明采用電子束蒸鍍方法,并且雙層減反膜由同種材料制成,制備成本低、效率高。該雙層氧化鉿減反膜對于可見光范圍內(nèi)的多角度入射光均具有很好的減反增透能力,可用于降低窗板、觸屏電極或液晶顯示屏等表面的反射,具有廣的應用前景。

透明導電薄膜的種類很多,主要有 ITO,TCO,AZO 等,其中 ITO的性能比較好,ITO具有高透光率,低電阻率。目前 ITO 的制備方法主要是磁控濺射,要獲得高質量的 ITO薄膜,制備高密度、高純度和高均勻性的 ITO 靶材是關鍵。高質量的成品 ITO 濺射靶應具有99%的相對密度。這樣的靶材才具有較低電阻率、較高導熱率及較高的機械強度。高密度靶可以在溫度較低條件下在玻璃基片上濺射,獲得較低電阻率和較高透光率的導電薄膜。甚至可以在有機材料上濺射 ITO 導電膜。目前ITO靶材的制備方法主要有熱壓法、冷等靜壓-燒結法、熱等靜壓法。其中采用冷等靜壓-燒結法,其相對密度能達到 99%以上,燒結溫度高,保溫時間長,制備工藝復雜。放電等離子燒結(SPS)是在脈沖電流作用下,粉末顆粒間放電,產(chǎn)生瞬間高溫進行燒結。SPS技術具有快速、低溫、高效率等優(yōu)點。能在很低的燒結溫度下,保溫很短的時間制備高密度的材料。


ITO靶材被廣泛應用于各大行業(yè)之中,其主要應用分為:顯示行業(yè)、薄膜太陽能電池、功能性玻璃,等三大領域。

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ITO靶材被廣泛應用于各大行業(yè)之中,其主要應用分為:平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè),薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、液晶顯示器(LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL)、電致有機發(fā)光平面顯示器(OELD)、場發(fā)射顯示器(FED)、等離子顯示器(PDP)等;光伏產(chǎn)業(yè),如薄膜太陽能電池;功能性玻璃,如紅外線反射玻璃、抗紫外線玻璃如幕墻玻璃、汽車、飛機上的防霧擋風玻璃、光罩和玻璃型磁盤等三大域。但主要應用于還是在平板顯示器中,它是濺射ITO導電薄膜的主要原料,沒有它的存在,諸多的材料將無法實現(xiàn)正常加工以及設計。ITO薄膜由于對可見光透明和導電性良好的性,還被廣泛應用于液晶顯示玻璃、幕墻玻璃和飛機、汽車上的防霧擋風玻璃等。


磁控濺射的工作原理簡單說就是利用磁場與電場交互作用。寧夏氧化鋅陶瓷靶材

在顯示面板和觸控屏兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材,主要用于ITO玻璃及觸控屏電極,用量比較大的是ITO靶材。遼寧AZO陶瓷靶材廠家

氧化鈮靶材根據(jù)其鍍膜工藝的不同分為平面靶材和旋轉靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達到99.95%,但對氧化鈮的物理性能指標要求不同。平面靶材的生產(chǎn)使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細且均勻,成形性能好;旋轉靶材采用熱噴涂法生產(chǎn),要求氧化鈮具有良好的流動性及嚴格的粒度范圍。旋轉靶材是近些年新發(fā)展的一種靶材,與傳統(tǒng)的平面靶材相比,旋轉靶材相對于平面靶材具有很多的優(yōu)點: 1、利用率高(70%以上),甚至可以達到90%; 2、濺射速度快,為平面靶的2-3倍; 3、有效地減少打弧和表面掉渣,工藝穩(wěn)定性好等優(yōu)點,因此近年來逐步替代了平面靶材。 針對國內(nèi)尚未能生產(chǎn)靶材級高純氧化鈮的現(xiàn)狀,在現(xiàn)有氧化鈮濕法冶金生產(chǎn)工藝的基礎上,以高純鈮液為原料,通過噴霧干燥造粒的方法實現(xiàn)對氧化鈮產(chǎn)品粒度和粒形的控制,制取滿足氧化鈮靶材尤其是氧化鈮旋轉靶材生產(chǎn)要求的球形高純氧化鈮產(chǎn)品。產(chǎn)品純度為99.95%、粒形為球形、粒度大小范圍為50-150μm的高純氧化鈮產(chǎn)品。與國外同行生產(chǎn)廠家以高純氧化鈮產(chǎn)品為原料,需經(jīng)過球磨、制漿、造粒、焙燒的工藝流程相比,具有工藝流程簡單,生產(chǎn)成本低,粒度可控,產(chǎn)品成品率高的特點。產(chǎn)品完全能夠滿足生產(chǎn)氧化鈮旋轉靶材的要求。遼寧AZO陶瓷靶材廠家

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