真空鍍膜的用途:注塑模具,許多公司都在努力解決應(yīng)該彈出的零件粘在注塑模具上的問題。這個問題是通過真空鍍膜的潤滑性來解決的。零件可輕松從薄膜涂層模具中脫模,從而使生產(chǎn)過程高效進行。換句話說,它節(jié)省了時間和金錢。模具也更有可能通過真空涂層保持在規(guī)格范圍內(nèi)。半導(dǎo)體,真空鍍膜可延長半導(dǎo)體行業(yè)的耗材壽命并減少腔室停機時間。涂層材料范圍從熔融石英到氧化釔穩(wěn)定的氧化鋯,并且涂層具有光學(xué)透明性和化學(xué)惰性。所有這些都意味著通過同步維護周期來降低擁有成本。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍的技術(shù)。pvd真空鍍膜加工
真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法,其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單,造價低廉,操作方便;缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱,電子束的動能變成熱能,使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價很高,目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。pvd真空鍍膜加工真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。
真空鍍膜機的安全操作注意事項:1、真空電鍍機操作員要穿著整潔,袖口扣緊(佩戴袖套),上衣下擺不能敞開,不得穿拖鞋、高跟鞋;2、檢查電路各控制開關(guān)能否正常斷開閉合,電壓指示380±20V;3、檢查各螺釘處連接是否牢固,電控柜、主機的連接線有無松脫現(xiàn)象、接地是否良好;所有電器的開關(guān)在零或者“關(guān)”的位置上;4、檢查鍍膜機室內(nèi)不銹鋼擋板的插銷是否牢固,角部有無彎曲翹曲等變形情況;5、檢查水壓、氣壓是否正常;水、油、氣是否有漏滴現(xiàn)象;6、設(shè)備中途停水時,應(yīng)立即關(guān)閉擴散泵、粗抽泵、羅茨泵,讓維持泵繼續(xù)運行。
真空鍍膜是不采用溶液或電能液而制備薄膜的一種干式鍍膜方法。真空鍍膜工藝除了對基材起到保護作用外還賦予基材不同的外觀效果以此來豐富人們的審美。真空電鍍作為真空鍍膜工藝之一被應(yīng)用于諸多領(lǐng)域。真空PVD鍍膜技術(shù)在壓鑄模具中的運用,真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小,經(jīng)過表面拋光的金屬材料的表面對鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右,真空PVD鍍膜涂層對鋼材的摩擦系數(shù)在0.01~0.6之間,常用于壓鑄模具的真空PVD鍍膜涂層材料(AlCrN,AlTiN)摩擦系數(shù)一般在0.4-0.6,低的摩擦系數(shù)使經(jīng)過真空PVD鍍膜處理的模具在加工過程中與被加工零件的表面摩擦降低,零件表面品質(zhì)優(yōu)于沒有涂層的模具所生產(chǎn)的零件。真空鍍膜是在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。
真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代,四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用,工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得極廣的應(yīng)用.真空鍍膜是指在真空環(huán)境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物理的氣相沉積工藝.因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化.廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜.在所有被鍍材料中,以塑料更為常見,其次,為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料,塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料,大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。真空鍍膜技術(shù)由于基本都是處于真空環(huán)境下進行的,因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù)。pvd真空鍍膜加工
真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果。pvd真空鍍膜加工
真空鍍膜是由專門的真空鍍膜機完成的,其工作流程及原理為:基片通過鍍膜機的機械手的搬運,進入到鍍膜機的真空腔體里,經(jīng)過高壓電離的氬離子在強電場及強磁場的作用下,產(chǎn)生高速運動,轟擊靶材表面,激發(fā)出的金屬離子附著在基片表面,形成一層反射膜?;A(chǔ)的真空鍍膜知識:1.真空:用真空泵抽掉容器中的氣體,使空間內(nèi)低于一個大氣壓的氣體狀態(tài),也就是該空間的氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。2.真空中殘存氣體的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用壓力表示單位(Pa)。3.1Pa就是1m2面積上作用1N的壓力。1大氣壓=1.03×105Pa。4.壓升率:單位時間內(nèi),真空度降低的速率。單位:Pa/h。5.真空泵的抽氣簡稱抽速)(單位:L/S):當(dāng)泵裝有標(biāo)準(zhǔn)試驗罩并按規(guī)定條件工作時,從試驗罩流過的氣體流量與在試驗罩上指定位置測得的平衡壓力之比。6.極限真空度:(單位:Pa):在規(guī)定條件工作,在不引入氣體正常工作的情況下,趨向平穩(wěn)的較低的壓強。pvd真空鍍膜加工
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