真空鍍膜的方法：電阻加熱蒸鍍是用絲狀或片狀的鎢、鉬、鉭高熔點金屬做成適當形狀的蒸發(fā)源，將膜料放在其中，接通電源，電阻直接加熱膜料而使其蒸發(fā)，或者把膜料放入A1203、Be0等坩堝中進行間接電阻加熱蒸發(fā)。電子束加熱蒸鍍是將膜料放入水冷銅坩堝中，利用高能量密度的電子束加熱，使得膜料熔融氣化并凝結(jié)在基體表面成膜。為了改善附著力，增加膜的致密性，真空鍍膜前，鍍膜過程中輔助離子束進行轟擊的鍍膜方法稱為離子束輔助蒸鍍。真空鍍膜工藝可使塑料表面具有金屬質(zhì)感，并賦予一定的導(dǎo)電性能。甘肅不銹鋼真空鍍膜廠家
五金真空鍍膜有哪幾種？五金真空鍍膜常見到的有真空蒸發(fā)鍍膜、離子鍍膜、磁控濺射鍍膜。真空蒸發(fā)鍍膜就是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到待鍍產(chǎn)品表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法；另一種是離子鍍膜，蒸發(fā)源的加熱和蒸發(fā)鍍膜相同。由于系統(tǒng)為等離子狀態(tài)，使金屬離子在產(chǎn)品表面吸附成膜，金屬離子具有高能量，鍍膜時離子結(jié)晶性佳、膜層的密著性高等；還有一種磁控濺射鍍膜，給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在產(chǎn)品表面形成金屬膜層的方法。甘肅不銹鋼真空鍍膜廠家真空鍍膜主要是為了減少反射，為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量。
真空鍍膜主要分類有兩個大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：1、基片材料與靶材的晶格匹配程度。2、基片表面溫度。3、蒸發(fā)功率，速率。4.、真空度。5、鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度。2、基片溫度。3、蒸發(fā)速率。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。
真空鍍膜機的詳細使用請參考設(shè)備說明書、儀表面板顯示及每個旋鈕下方的使用說明。1.檢查真空鍍膜裝置各操作控制開關(guān)是否處于“關(guān)”狀態(tài)。2.打開主電源開關(guān)，用真空鍍膜裝置供電。3.拆卸低壓閥。打開充氣閥，聽不到氣流聲，啟動鐘舉升閥，鐘舉升。4.安裝鎢絲螺旋加熱器。將PVC薄膜和鋁蓋固定在旋轉(zhuǎn)盤上。將鋁絲插入螺旋加熱器。清洗所有部件，確保無雜質(zhì)和污物。5.放下鐘形罩。6.啟動真空噴涂設(shè)備的機械泵進行真空。7.接通復(fù)合真空表電源。（1)左旋鈕順時針旋轉(zhuǎn)至第二節(jié)加熱位置。（2)低真空表“2”指針順時針移動。當指針移動到110mA時，左側(cè)旋鈕“1”將旋轉(zhuǎn)到指向第2段的測量位置。8.當?shù)驼婵毡?上的指針再次順時針移動到6.7Pa時，低壓閥被推入。此時，左側(cè)旋鈕1將旋轉(zhuǎn)到測量位置，指向1。9.真空鍍膜裝置打開冷卻水，啟動擴散泵加熱40分鐘。10.打開低壓閥。重復(fù)⑦操作步驟：將左下旋鈕1旋至測量位置2。下限位2的指針順時針方向移動，打開6.7Pa高壓閥。真空鍍膜干燥固化后會形成具有硬度的高硬度結(jié)晶保護層，能防止漆面受到破壞。
真空鍍膜技術(shù)的優(yōu)點：環(huán)保無毒；真空電鍍技術(shù)是一種通過物理的方式將融化的金屬離子附著于塑膠產(chǎn)品的表面形成鍍膜層的工藝，整個加工過程無需添加任何化學(xué)品或化學(xué)制劑，是一種天然無毒環(huán)保的加工工藝，隨著全球?qū)G色環(huán)保的重視力度加大，通過化學(xué)方式進行水電鍍加工工藝由于存在三價鉻、六價鉻等非環(huán)保的原因已漸漸淡出高級電子消費品、食物相關(guān)用品、玩具品及相關(guān)行業(yè)了。增加塑膠表面的硬度；塑膠材料易成型的特性決定了其表面不具備良好的耐刮傷性能，UV真空電鍍在鍍膜完成后，還在鍍膜層表面加罩了一層光固化UV涂料，提升了產(chǎn)品表面的硬度，提升了產(chǎn)品的耐刮花、耐劃傷、耐磨性能，可以達到4H級別的硬度，遠遠超出水電鍍工藝的抗刮傷耐磨級別。真空鍍膜的蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。甘肅不銹鋼真空鍍膜廠家
真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用。甘肅不銹鋼真空鍍膜廠家
真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。甘肅不銹鋼真空鍍膜廠家
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