真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得極廣的應(yīng)用.真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理的氣相沉積工藝.因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化.廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜.在所有被鍍材料中，以塑料更為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。真空鍍膜是在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。青海多功能真空鍍膜
真空鍍膜的用途：注塑模具，許多公司都在努力解決應(yīng)該彈出的零件粘在注塑模具上的問題。這個問題是通過真空鍍膜的潤滑性來解決的。零件可輕松從薄膜涂層模具中脫模，從而使生產(chǎn)過程高效進(jìn)行。換句話說，它節(jié)省了時間和金錢。模具也更有可能通過真空涂層保持在規(guī)格范圍內(nèi)。半導(dǎo)體，真空鍍膜可延長半導(dǎo)體行業(yè)的耗材壽命并減少腔室停機(jī)時間。涂層材料范圍從熔融石英到氧化釔穩(wěn)定的氧化鋯，并且涂層具有光學(xué)透明性和化學(xué)惰性。所有這些都意味著通過同步維護(hù)周期來降低擁有成本。長春真空鍍膜加工公司真空鍍膜工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代。
真空鍍膜機(jī)的安全操作注意事項(xiàng)：1、真空電鍍機(jī)操作員要穿著整潔，袖口扣緊（佩戴袖套），上衣下擺不能敞開，不得穿拖鞋、高跟鞋；2、檢查電路各控制開關(guān)能否正常斷開閉合，電壓指示380±20V；3、檢查各螺釘處連接是否牢固，電控柜、主機(jī)的連接線有無松脫現(xiàn)象、接地是否良好；所有電器的開關(guān)在零或者“關(guān)”的位置上；4、檢查鍍膜機(jī)室內(nèi)不銹鋼擋板的插銷是否牢固，角部有無彎曲翹曲等變形情況；5、檢查水壓、氣壓是否正常；水、油、氣是否有漏滴現(xiàn)象；6、設(shè)備中途停水時，應(yīng)立即關(guān)閉擴(kuò)散泵、粗抽泵、羅茨泵，讓維持泵繼續(xù)運(yùn)行。
PVD即物理的氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷史上，真空蒸鍍是PVD法中使用較早的技術(shù)。濺射鍍膜基本原理：充氬（Ar）氣的真空條件下，使氬氣進(jìn)行輝光放電，這時氬（Ar）原子電離成氬離子（Ar），氬離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為裝飾鍍膜和工具鍍膜。
真空鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)：1、真空鍍膜使塑膠表面具有金屬質(zhì)感；因?yàn)橄鄬τ阡X、銅、鐵、不銹鋼等金屬部件來講，塑膠部件的制造工藝具有得天獨(dú)厚的大批量低成本易加工等優(yōu)勢，經(jīng)過表面真空鍍膜加工的塑膠部件在工業(yè)品的外觀方面已經(jīng)或正在越來越廣的取代金屬部件，從面降低工業(yè)及消費(fèi)電子類產(chǎn)品的制造成本，提升和鞏固了產(chǎn)品在同行業(yè)競爭中的價格優(yōu)勢。2、賦予塑膠產(chǎn)品導(dǎo)電性能；相對于單純的塑膠部件，真空鍍膜加工后的塑膠產(chǎn)品可以根據(jù)使用場合的需要賦予產(chǎn)品良好的導(dǎo)電性能，比如大多數(shù)電子消費(fèi)品加工制造過程強(qiáng)調(diào)的電磁屏蔽性能（EMI）即可通過在塑膠件內(nèi)壁進(jìn)行導(dǎo)電性真空鍍膜加工的方式而獲得，在相同地功效下，相對于原來采用銅箔或鋁箔的制造工藝，真空鍍膜EMI工藝具有無可比擬的成本優(yōu)勢。真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜。低溫真空鍍膜咨詢
真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法。青海多功能真空鍍膜
真空鍍膜的薄膜均勻性概念：1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。2、化學(xué)組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。具體因素也在下面給出。3、晶格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題。青海多功能真空鍍膜
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