真空鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn):可以進(jìn)行不導(dǎo)電真空電鍍(NCVM);對(duì)于工作過程中需要對(duì)外發(fā)射無線信號(hào)的電子消費(fèi)品外觀裝飾件而言,需要塑膠件具有金屬光澤的同時(shí),還要保證塑膠表面的金屬電鍍層不會(huì)屏蔽或者衰減設(shè)備的無線電信號(hào)(比如藍(lán)牙信號(hào)、射頻信號(hào)等),不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)技術(shù)就應(yīng)運(yùn)而生了,這種真空鍍膜技術(shù)既保證了塑膠表面的金屬質(zhì)感,又不會(huì)影響到設(shè)備對(duì)外的信號(hào)發(fā)射;相對(duì)于水電鍍的鍍層導(dǎo)電影響電子信號(hào),不導(dǎo)電真空電鍍(NCVM)工藝為廣大的設(shè)計(jì)研發(fā)工程師提供了一種魚和熊掌兼得的完美選擇??梢赃M(jìn)行單層電鍍;通俗的講,可以單獨(dú)對(duì)塑膠產(chǎn)品的外表面、或者單獨(dú)對(duì)塑膠產(chǎn)品的內(nèi)表面進(jìn)行真空電鍍加工,而另一表面可以保留塑膠原有的外觀和功能,這一點(diǎn)相對(duì)于浸泡式作業(yè)的水電鍍工藝而言又是一道無法跨越的坎。真空鍍膜是在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。西藏多功能真空鍍膜
真空鍍膜相較傳統(tǒng)水電鍍優(yōu)勢(shì)哪些?傳統(tǒng)水電鍍由于污水處理成本高、能耗高,水資源的浪費(fèi)多,環(huán)境污染大等原因,已經(jīng)被國家及各級(jí)地方部門所限制發(fā)展。而真空鍍膜設(shè)備能夠替代傳統(tǒng)水電鍍的表面處理方法,使傳統(tǒng)水電鍍進(jìn)行技術(shù)升級(jí)改造。下面來了解看看它相較傳統(tǒng)水電鍍有哪些優(yōu)勢(shì)吧。1.無環(huán)境污染,因?yàn)樗械腻儗硬牧隙荚谡婵窄h(huán)境下,通過等離子體沉積在工件表面,沒有溶液污染,所以對(duì)環(huán)境沒有危害。2.節(jié)約金屬材料,因?yàn)檎婵胀繉痈街?、硬度、致密度以及耐腐蝕性能等非常優(yōu)良,沉積的鍍層厚度可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層,達(dá)到節(jié)約材料的目的。3.沉積材料廣,可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬,通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系。真空鍍膜設(shè)備既符合國家環(huán)保政策,又可以滿足產(chǎn)品出口的要求,同時(shí)提高出口產(chǎn)品的附加值。隨著社會(huì)不點(diǎn)的進(jìn)步,真空電鍍將會(huì)成為主流是必然的發(fā)展趨勢(shì)。寧夏硅膠真空鍍膜真空鍍膜干燥固化后會(huì)形成具有硬度的高硬度結(jié)晶保護(hù)層,能防止漆面受到破壞。
用真空鍍膜技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝,不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗,而且還會(huì)消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的環(huán)境污染。因此國外在鋼鐵零件涂鍍防腐層和保護(hù)膜方面,已采用真空鍍膜工藝來代替電鍍工藝。在冶金工業(yè)中,為鋼鐵和帶鋼加鍍鋁防護(hù)層已很普遍;在機(jī)械制造業(yè)中,真空鍍膜工藝用于改變改變某些加工工藝和節(jié)約貴重的原材料,如飛機(jī)渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片已經(jīng)不用價(jià)格昂貴的耐高溫金屬制造,而是采用價(jià)格低廉易加工材料,成形后再用真空鍍膜的方法在葉片表面上加鍍耐高溫,耐腐蝕的防護(hù)層。再如汽車制造業(yè)中采用塑料制品金屬化零件代替各種金屬零件,既減輕了汽車的重量又節(jié)約了燃油的消耗。在金屬切削刀具上加鍍TiN硬膜可使用刀具壽命提高3~6倍,從而節(jié)省了大量的高速鋼材。塑料薄膜采用真空鍍膜的方法加鍍鋁等金屬膜,再進(jìn)行染色,可得到用于工業(yè)中的裝飾品薄膜。
真空鍍膜的優(yōu)勢(shì):1、節(jié)省金屬資料:因?yàn)檎婵胀繉拥母街?、致密度、硬度、耐腐蝕功能等適當(dāng)優(yōu)良,堆積的真空電鍍鍍層能夠遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于慣例濕法電鍍鍍層,到達(dá)節(jié)省的意圖。2、無環(huán)境污染:目前國家大力倡導(dǎo)生產(chǎn)環(huán)保,因?yàn)橐磺绣儗淤Y料都是在真空環(huán)境下經(jīng)過等離子體堆積在工件表面,沒有溶液污染,所以對(duì)環(huán)境的損害適當(dāng)小。3、堆積資料廣:可堆積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法堆積的低電位金屬,通以反響氣體和合金靶材更是能夠堆積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,并且能夠根據(jù)需要規(guī)劃涂層系統(tǒng)。真空鍍膜技術(shù)可應(yīng)用于航空航天、汽車、機(jī)床、化工機(jī)械、五金工具、醫(yī)療器械、標(biāo)準(zhǔn)件制造等領(lǐng)域。
真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。但在實(shí)際放電直流濺射系統(tǒng)中,自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持,這是因?yàn)樵谶@種條件下沒有足夠的離化碰撞。因此在低于1.3~2.7Pa壓強(qiáng)下運(yùn)行的濺射系統(tǒng)提高離化碰撞就顯得尤為重要。提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供,而不是靠陰極發(fā)射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場的方式提高已有電子的離化效率。真空鍍膜的蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。工具真空鍍膜報(bào)價(jià)
真空鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。西藏多功能真空鍍膜
真空鍍膜的類型:PVD涂層,物理的氣相沉積鍍膜(PVD)是我們常常使用的真空室鍍膜工藝。將要涂層的部件放置在真空室內(nèi)。將用作涂層的固體金屬材料在真空下蒸發(fā)。來自蒸發(fā)金屬的原子以接近光速的速度行進(jìn),并將自身嵌入真空室中的零件表面。為了確保物體的正確區(qū)域被涂覆,在PVD過程中仔細(xì)定位和旋轉(zhuǎn)零件。PVD涂層不會(huì)為物體添加另一層,隨著時(shí)間的推移會(huì)碎裂或破裂(想想舊油漆)。它正在浸漬物體。濺射,濺射是另一種PVD真空涂層,用于在物體上沉積導(dǎo)電或絕緣材料涂層。這是一個(gè)“視線”過程,正如陰極電弧過程(如下所述)。在濺射中,使用電離氣體從目標(biāo)材料(將涂覆零件的材料)中燒蝕或緩慢去除金屬。然后,這種燒蝕的金屬穿過真空室并涂覆位于目標(biāo)上方或下方的所需部件。西藏多功能真空鍍膜
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