真空鍍膜技術的應用領域有哪些？1、在建筑玻璃和汽車玻璃上，建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內的熱量直接透過室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。隨著經(jīng)濟的發(fā)展，普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求，而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。陽光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內溫度的要求；而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽輻射能量和較大限度阻止室內熱量外流的要求。在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃，這種工藝在汽車玻璃上有很好的應用。2、在平板顯示器中，所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且，幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求?？梢院敛豢鋸埖恼f，沒有真空鍍膜技術，就沒有平板顯示器件。真空鍍膜可以使原料具有許多新的、高質量的物理和分析化學特征。杭州濺射真空鍍膜
真空鍍膜技術的發(fā)展：真空鍍膜技術起步時間不長，國際上在上世紀六十年代才出現(xiàn)將CVD（化學氣相沉積）技術應用于硬質合金刀具上。由于該技術需在高溫下進行（工藝溫度高于1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀七十年代末，開始出現(xiàn)PVD（物理的氣相沉積）技術，之后在短短的二、三十年間PVD涂層技術得到迅猛發(fā)展，究其原因：（1）其在真空密封的腔體內成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保；（2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要；（3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層，應用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實現(xiàn)了低成本、收益高的效果；（4）此外，PVD涂層技術具有低溫、高能兩個特點，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。廣西螺絲真空鍍膜真空鍍膜涂層對鋼材的摩擦系數(shù)在0.01～0.6之間。
真空鍍膜技術及其特點：真空鍍膜法是一種新的鍍膜工藝，由于鍍膜制備工藝是在真空條件下進行的，故稱真空鍍膜法，亦稱干式鍍膜法，它與濕式鍍膜法比較有如下特點：①真空下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜厚均勻的涂層。②膜材和基體材料有廣闊的選擇性，薄膜厚度可進行控制，可以制備各種不同的功能性薄膜。③膜和基體附著強度好，膜層牢固。④不產(chǎn)生廢液，可避免對環(huán)境的污染。目前真空鍍膜技術中所采用的鍍膜方法主要有：真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延和化學汽相沉積鍍等多種。
真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展，真空電鍍當高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料的蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，然后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無牢固的化學結合。真空電鍍的簡單作用過程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。真空鍍膜過程中，鍍膜質量的好壞很大程度上取決于底涂層的質量。
真空鍍膜材料技術與濕式鍍膜材料技術相比具有明顯優(yōu)點：1、膜材和基體選材廣，膜的厚度可以進行控制以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。2、真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。3、與基體附著強度好，膜層牢固。4、真空鍍膜無環(huán)境污染。真空鍍膜技術在電子學等方面主要用來制造電阻和電容元件。用真空鍍膜代替電久工藝，不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗，而且還會消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的污染。因此，在國內外已大量使用真空鍍代替電鍍?yōu)殇撹F零件涂要防腐層和保護膜，冶金工業(yè)也用來為鋼板和帶鋼加鍍鋁防護層。真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。安徽真空鍍膜公司
真空鍍膜常見到的有真空蒸發(fā)鍍膜、離子鍍膜、磁控濺射鍍膜。杭州濺射真空鍍膜
真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被應用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領域。真空鍍膜技術也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理的氣相沉積法（PVD），是較為基本的涂層制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以真空技術是涂層制作技術的基礎，獲得并保持所需的真空環(huán)境，是鍍膜的必要條件。杭州濺射真空鍍膜
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