隨著人們生活水平的不斷提高，對(duì)各種工藝品、建材、家具、電子產(chǎn)品、汽車、玩具、燈具等的表面裝飾提出了越來越高的要求。對(duì)非金屬物件表面金屬化或金屬物件表面美觀化，傳統(tǒng)上通常采用電鍍的方法。但由于傳統(tǒng)電鍍毒性大，三廢污染特別嚴(yán)重，在人們環(huán)保意識(shí)逐步加強(qiáng)的現(xiàn)在，它的發(fā)展，已受到了各方各面的制約。真空鍍膜技術(shù)是近年發(fā)展起來的一項(xiàng)新技術(shù)。它的原理是金屬固體(如鋁線等)在高真空狀態(tài)下受熱氣化，再以分子或原子形態(tài)沉積在基材表面，從而在鍍件表面形成一層薄薄的金屬膜。由于金屬氣化后均勻地分布于鍍膜機(jī)腔體內(nèi)，所以，通常情況下，鍍件表面形成的金屬膜七分均勻。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜。湖南半導(dǎo)體真空鍍膜
真空鍍膜工藝的注意事項(xiàng)：一、真空膜鍍層雖然有一定的抗腐蝕性能，但與酸堿等強(qiáng)腐蝕性物質(zhì)接觸，很難抵抗腐蝕。所以，在日常的維修保養(yǎng)中，盡量不選用強(qiáng)酸強(qiáng)堿或去污能力強(qiáng)的清洗劑，如潔廁精、脫漆劑、金屬清洗劑等，可選用工業(yè)酒精軟棉布輕擦，如果表面有污垢，也可選用弱酸弱堿溶劑進(jìn)行處理。二、使用防指紋光油。愈來愈多的客戶選擇用彩色真空薄膜鍍層的不銹鋼產(chǎn)品，再噴上一層透明的防指紋清油，效果十分明顯，手摸上去無指紋印，容易清洗，還可增加耐磨、耐腐蝕功能，一舉多得。但其缺點(diǎn)是噴油與非噴油顏色不一致，加上加工要求高，成本不低，影響產(chǎn)品的金屬質(zhì)感，還有老化等問題。因此，使用前一定要仔細(xì)考慮。湖南半導(dǎo)體真空鍍膜真空鍍膜技術(shù)也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等。
真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。真空鍍膜的操作規(guī)程：1．在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)，必須先開水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。3．在用電子鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩外面上鋁板。觀察窗的玻璃盡量用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。
真空鍍膜技術(shù)及其特點(diǎn)：在真空中把金屬，合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)(或?yàn)R射)，使其沉積在被涂的物體(稱基片，基板或基體)上的方法稱為真空鍍膜法.在材料表面上，鍍上一層薄膜，就能使該種材料具許多新的物理和化學(xué)性能，過去在物體表面上鍍膜作為物體表面改性的一種方法，之前所采用濕式鍍膜法，即電鍍法和化學(xué)鍍法。電鍍法中被電解的離子鍍到作為電解液另一個(gè)電極的基體表面，上，因此，.這種鍍膜的基體應(yīng)是良導(dǎo)體，而且鍍膜厚度難以控制，化學(xué)鍍法是應(yīng)用化學(xué)還原原理，使鍍膜材料溶液迅速參加還原反應(yīng)，沉積在基體上，這兩種方法不但膜的附著強(qiáng)度差，膜層厚度不均，還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液而造成公害。因此它們?cè)诒∧ぶ苽涔に嚿鲜艿搅撕艽蟮南拗?。真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí)，膜層的好壞，氣體啟著關(guān)鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。
真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。真空鍍膜的蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。四川真空鍍膜加工
加工過程中造成的缺陷，真空鍍膜廠家基本上可以通過脫脂或化學(xué)清洗的方式去除。湖南半導(dǎo)體真空鍍膜
真空鍍膜的離子鍍，蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖]，將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95%）也沉積在基片或真空室壁表面。電場對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。湖南半導(dǎo)體真空鍍膜
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