真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展，真空電鍍當高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料的蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，然后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無牢固的化學結合。真空電鍍的簡單作用過程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞。杭州OLED真空鍍膜
隨著人們生活水平的不斷提高，對各種工藝品、建材、家具、電子產品、汽車、玩具、燈具等的表面裝飾提出了越來越高的要求。對非金屬物件表面金屬化或金屬物件表面美觀化，傳統(tǒng)上通常采用電鍍的方法。但由于傳統(tǒng)電鍍毒性大，三廢污染特別嚴重，在人們環(huán)保意識逐步加強的現(xiàn)在，它的發(fā)展，已受到了各方各面的制約。真空鍍膜技術是近年發(fā)展起來的一項新技術。它的原理是金屬固體(如鋁線等)在高真空狀態(tài)下受熱氣化，再以分子或原子形態(tài)沉積在基材表面，從而在鍍件表面形成一層薄薄的金屬膜。由于金屬氣化后均勻地分布于鍍膜機腔體內，所以，通常情況下，鍍件表面形成的金屬膜七分均勻。江蘇真空鍍膜的原理真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。
真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍的技術，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點：如對環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術)、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術)，這些方法統(tǒng)稱物理的氣相沉積(PhysicalVaporDeposition)，簡稱為PVD。
真空鍍膜的蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一，蒸發(fā)鍍膜設備結構。蒸發(fā)物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發(fā)。蒸發(fā)物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。真空鍍膜的主要功能是使薄膜材料的膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。
真空鍍膜的定義：在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)(或濺射)，使其沉積在被涂覆的物體(稱基片、基板或基體)上的方法稱為真空鍍膜法。真空蒸鍍簡稱蒸鍍，是在真空條件下，用一定的方法加熱鍍膜材料(簡稱膜料)使之氣化，并沉積在工件表面形成固態(tài)薄膜。以動量傳遞的方法，用荷能粒子轟擊材料表面，使其表面原子獲得足夠的能量而飛逸出來的過程稱為濺射。磁控濺射是一一種高濺射速率、低基片加熱的濺射技術，稱為高速低溫濺射技術。離子鍍膜技術簡稱離子鍍，離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質離子轟擊作用的同時把蒸發(fā)物質或其反應產物沉積在基片上。真空鍍膜應該是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中進行。南寧LED真空鍍膜
真空鍍膜過程中輔助離子束進行轟擊的鍍膜方法稱為離子束輔助蒸鍍。杭州OLED真空鍍膜
五金真空鍍膜有哪幾種？五金真空鍍膜常見到的有真空蒸發(fā)鍍膜、離子鍍膜、磁控濺射鍍膜。真空蒸發(fā)鍍膜就是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到待鍍產品表面，凝結形成固態(tài)薄膜的方法；另一種是離子鍍膜，蒸發(fā)源的加熱和蒸發(fā)鍍膜相同。由于系統(tǒng)為等離子狀態(tài)，使金屬離子在產品表面吸附成膜，金屬離子具有高能量，鍍膜時離子結晶性佳、膜層的密著性高等；還有一種磁控濺射鍍膜，給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在產品表面形成金屬膜層的方法。杭州OLED真空鍍膜
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