真空鍍膜機(jī)的真空室該如何設(shè)計(jì)？（一）焊接要求，根據(jù)需要，在該設(shè)備真空室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上也有所差別，常見有圓柱形、圓錐形、盒形等結(jié)構(gòu)。對(duì)于我們的鍍膜機(jī)真空室的焊接技術(shù)上，要求有基本五點(diǎn)：為了防止鍍膜機(jī)的外殼變形，真空室的非氣密焊接一般用間斷焊。焊縫的總長度盡量短些，高度要大于真空室殼體的三分之一厚度，才能避免一些漏氣的可能。焊縫要便于做真空檢漏工作，盡量別在焊縫上開孔。焊縫與焊縫間別存在交叉，兩縫的中心線位置間應(yīng)大于10cm的距離。（二）主體材料，鍍膜機(jī)真空室通常以金屬軋制板材作為主要材料制作，作為真空室的主體材料要求可焊性、氣密性要求比較高。對(duì)于一般的鍍膜機(jī)真空室使用的主體材料通常是低碳鋼、合金鋼、鋁和銅之類的金屬或合金。而不銹鋼則一般用于需要高真空、耐腐蝕的工藝的型號(hào)中。（三）封頭類型，作為鍍膜機(jī)真空室的一個(gè)重要零件——封頭，可與筒體焊接組成一個(gè)整體。真空鍍膜設(shè)備的封頭形式有球形、錐形、凸形、平蓋形等封頭類型。真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。南昌蒸鍍機(jī)系列-FS-G2.5
真空蒸鍍使用的加熱方式主要有：(1)電弧加熱：電弧蒸鍍利用高真空中兩導(dǎo)電材料制成的電極之間形成電弧放電產(chǎn)生的高溫，使電極材料蒸發(fā)而在基體上凝聚成膜。(2)激光加熱：脈沖激光加熱表面可實(shí)現(xiàn)材料的瞬時(shí)蒸發(fā)，脈沖激光作為一種新的加熱源，其特點(diǎn)之一是能量在時(shí)間和空間上高度集中，與常規(guī)的熱蒸發(fā)有明顯區(qū)別。帶有離子轟擊裝置的激光蒸發(fā)，已用于若干材料的低溫沉積，其中包括高質(zhì)量的高溫超導(dǎo)氧化物薄膜。激光蒸發(fā)可用于透明材料上薄膜的蒸發(fā)，從透明材料的背面照射待蒸發(fā)薄膜，把基體面向待蒸發(fā)薄膜放置，通過控制蒸發(fā)區(qū)域，則在基體上可沉積出帶花紋的薄膜。真空蒸鍍?cè)O(shè)備現(xiàn)貨真空鍍膜機(jī)操作員要穿著整潔，袖口扣緊（佩戴袖套），上衣下擺不能敞開，不得穿拖鞋、高跟鞋。
真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，然后形成薄膜。
真空鍍膜機(jī)的優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在：1、外觀改善，表面光滑，有色金屬光澤，裝飾性提高；2、提高表面硬度。原來的塑料表面比金屬柔軟，容易損壞。通過真空鍍膜，硬度和耐磨性提高；3、提高耐候性。一般來說，塑料在戶外老化很快，主要是由于紫外線輻射。鍍鋁后，鋁對(duì)紫外線的反射較強(qiáng)。因此，耐候性提高；4、使得吸水率降低，涂布次數(shù)越多，吸水率越低，且制品不易變形，耐熱性提高；5、使得塑料表面具有導(dǎo)電性；6、無需吸塵即可以輕松清潔。真空鍍膜機(jī)不像化學(xué)電鍍會(huì)用重金屬溶液和酸溶液進(jìn)行鍍膜。
真空蒸鍍使用的加熱方式主要有：(1)電阻加熱：電阻加熱源是普遍使用的蒸發(fā)源，它結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便。典型的導(dǎo)電加熱體材料有鎢、鉭、鉬和碳等。導(dǎo)電加熱體的電阻加熱通常采用低電壓（<10V）、大電流（幾百安培）加熱方式?？筛鶕?jù)蒸發(fā)材料的性質(zhì)以及蒸發(fā)源材料的浸潤性加以選用。(2)電子束加熱：電子束加熱法的基本原理是基于由熱陰極發(fā)射的電子在電場(chǎng)作用下，獲得動(dòng)能轟擊到作為陽極的蒸發(fā)材料上，將其動(dòng)能轉(zhuǎn)化為加熱材料的內(nèi)能而使材料蒸發(fā)。由于聚集電子束的能量密度大，可使材料表面局部區(qū)域達(dá)到3000℃～4000℃的高溫，適于蒸發(fā)高熔點(diǎn)金屬、化合物材料和要求高蒸發(fā)速率的場(chǎng)合。(3)射頻感應(yīng)加熱：感應(yīng)加熱是將射頻電源的能量直接耦合到金屬、石墨一類的導(dǎo)體上，其原理是利用高頻電磁場(chǎng)在導(dǎo)體材料中感生的熱量來直接加熱導(dǎo)體本身。真空鍍膜機(jī)可以節(jié)省更多的生產(chǎn)成本。蘭州蒸鍍機(jī)系列-FS600
真空鍍膜機(jī)工作時(shí)，需適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，利于減少周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。南昌蒸鍍機(jī)系列-FS-G2.5
真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請(qǐng)參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號(hào)：Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。⑧當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。⑨真空鍍膜機(jī)開通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開高壓閥（閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn)）。?等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí)，開規(guī)管燈絲開關(guān)。南昌蒸鍍機(jī)系列-FS-G2.5
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