鍍膜機(jī)鍍制膜層均勻性過(guò)程介紹：薄膜均勻性的概念：厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看（也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。鍍膜工藝在汽車(chē)玻璃上有很好的應(yīng)用。電子蒸發(fā)鍍膜機(jī)供貨商
真空鍍膜機(jī)也長(zhǎng)被別人稱(chēng)為不銹鋼卷繞鍍膜機(jī)、金屬帶卷繞真空鍍膜機(jī)， 它具有模塊化設(shè)計(jì)概念，帶材糾偏系統(tǒng)、等離子體預(yù)處理、磁控濺射系統(tǒng)、在線(xiàn)測(cè)量和工藝控制系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)靈活組合。膜層均勻性好，沉積效率高，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)的較佳選擇。真空鍍膜機(jī)有很多優(yōu)點(diǎn)：可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制。因此，除了熱鍍鋅中常見(jiàn)的鍍鋅、鋁、錫之外，幾乎所有的金屬材料都可以蒸鍍，還可鍍種類(lèi)眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為發(fā)展新型帶鋼材料提供了很大的自由度。鍍膜材料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒(méi)有有害液體、氣體的產(chǎn)生。帶鋼鍍膜質(zhì)量好，能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱表面活化，鍍膜純度高，沒(méi)有中間硬脆的合金層，可以一次沖壓成型，甚至可以卷成直經(jīng)很小的管而不脫落鍍層。工藝靈活，改變品種方便，可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實(shí)現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，可以同時(shí)鍍兩種材料達(dá)到鍍混合膜。鍍膜厚度易于控制，而且可以鍍制超薄膜。吉林大型真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問(wèn)題。
不同類(lèi)型鍍膜機(jī)的適用范圍：磁控濺射鍍膜設(shè)備：適用于磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等信息存儲(chǔ)領(lǐng)域；磁控濺射鍍膜機(jī)：適用于飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)葉片、汽車(chē)鋼板、散熱器等保護(hù)涂層；磁控濺射Al薄膜生產(chǎn)線(xiàn)：適用于太陽(yáng)能集熱器、太陽(yáng)能電池等太陽(yáng)能利用領(lǐng)域；光學(xué)鍍膜設(shè)備：適用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域，如ar涂層、高反射膜、阻隔過(guò)濾器、防偽膜等。AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)：適用于LCD、等離子屏幕等信息顯示領(lǐng)域；觸摸屏連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)：適用于手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等觸摸屏領(lǐng)域。磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：適用于硬涂層，如切削刀具、模具、耐磨防腐零件等。
鍍膜機(jī)基礎(chǔ)知識(shí)介紹：鍍膜機(jī)是在高真空狀態(tài)下進(jìn)行鍍膜，因此稱(chēng)真空鍍膜機(jī)，真空鍍膜機(jī)也分很多種類(lèi)，市面上長(zhǎng)以行業(yè)應(yīng)用進(jìn)行分類(lèi)，如光學(xué)鍍膜機(jī)，裝飾鍍膜機(jī)，卷繞鍍膜機(jī)等，也有以鍍膜方式進(jìn)行分類(lèi)，蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)、多弧離子鍍膜機(jī)等。這些領(lǐng)域的真空鍍膜機(jī)在市場(chǎng)上應(yīng)用都非常大，只是根據(jù)客戶(hù)要求的工藝不一樣，應(yīng)用到不同的領(lǐng)域。鍍膜機(jī)需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中，基片需要有轉(zhuǎn)架，靶材需要有電源等。鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且較終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，較終形成薄膜。PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜相似，它們都是一種材料以某種方式被另一種材料覆蓋的表面處理方式。
卷繞真空鍍膜設(shè)備的部件：速度控制和張力控制：速度控制：帶狀基體的線(xiàn)速度恒定是保持膜厚均勻的重要條件。卷繞系統(tǒng)帶材的速度控制多數(shù)采用以電流控制為主的速度恒定控制，速度都可以根據(jù)產(chǎn)品的要求，事先設(shè)定、自動(dòng)調(diào)節(jié)。張力控制：薄膜張力控制在卷繞真空鍍膜機(jī)中是一個(gè)關(guān)鍵問(wèn)題。張力控制同膜的跑偏、暴筋、起皺等現(xiàn)象均有關(guān)系。蒸發(fā)系統(tǒng)由蒸發(fā)源夾座（電極）、蒸發(fā)源、送絲機(jī)構(gòu)等組成。PVD鍍膜設(shè)備真空室開(kāi)啟機(jī)構(gòu)：大型雙室半連續(xù)蒸發(fā)鍍膜機(jī)的開(kāi)啟機(jī)構(gòu)一般由真空室體，卷繞機(jī)構(gòu)，密封大板，動(dòng)力柜，行程開(kāi)關(guān)和小車(chē)組成。根據(jù)鍍膜基本材料的幅寬，確定單門(mén)還是雙門(mén)開(kāi)啟。常見(jiàn)的真空室多是單門(mén)開(kāi)啟，蒸發(fā)器仍在鍍膜室內(nèi)。市面上長(zhǎng)以行業(yè)應(yīng)用進(jìn)行分類(lèi)，如光學(xué)鍍膜機(jī)，裝飾鍍膜機(jī)，卷繞鍍膜機(jī)等。新款光學(xué)鍍膜機(jī)廠(chǎng)家
鍍膜后，可以用相關(guān)儀器測(cè)量色值，對(duì)顏色進(jìn)行量化，從而確定鍍膜顏色是否符合要求。電子蒸發(fā)鍍膜機(jī)供貨商
鍍膜機(jī)使用注意事項(xiàng)：定期清潔真空室并盡量抹干，每次都徹底洗干凈，以免造成越來(lái)越難洗的現(xiàn)象。烘干后再鍍膜，頭一爐應(yīng)比原來(lái)延長(zhǎng)四倍時(shí)間才鍍膜。定期更換擴(kuò)散泵油，更換真空泵及羅茨泵油。更換擴(kuò)散泵油前一定要確認(rèn)真空度是否低于1X102Pa，擴(kuò)散泵里面的油溫是否徹底冷卻到常溫狀態(tài)后，方可進(jìn)行加熱或充大氣進(jìn)行拆卸，否則會(huì)產(chǎn)生傷害人的嚴(yán)重后果。平時(shí)整個(gè)系統(tǒng)要保持真空狀態(tài)，工作前才充入氣體，不要使真空室長(zhǎng)期暴露在大氣中。經(jīng)常檢查膠封是否良好，特別是動(dòng)密封圈，定期給動(dòng)密封處加上真空脂。定期檢查電氣元件，消除灰塵，更換燒壞的元器件。在真空狀態(tài)下不得拆卸擴(kuò)散泵和閥門(mén)。拆卸的方法是：先將整個(gè)真空系統(tǒng)抽至真空狀態(tài)，注意不要加熱擴(kuò)散泵，用手動(dòng)打開(kāi)精抽閥，然后按放氣閥按鈕讓系統(tǒng)充入大氣，當(dāng)真空室充滿(mǎn)大氣后就可進(jìn)行拆卸擴(kuò)散泵和閥門(mén)。電子蒸發(fā)鍍膜機(jī)供貨商
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