真空鍍膜技術(shù)中的清潔處理一般涉及真空鍍膜設(shè)備的結(jié)構(gòu)材料、裝填材料、真空零部件的清潔處理和真空鍍膜設(shè)備的環(huán)境要求及真空鍍膜工藝過(guò)程中基片的清潔處理問(wèn)題。這些問(wèn)題既是自主的，也是互相聯(lián)系的。在真空鍍?cè)O(shè)備的研制過(guò)程中，只有嚴(yán)格地清潔處理好各個(gè)零部件后，才能保證該設(shè)備的性能穩(wěn)定。只有先進(jìn)的真空鍍膜設(shè)備才能生產(chǎn)出合格的鍍膜產(chǎn)品。先進(jìn)的真空鍍膜設(shè)備必須安裝在符合鍍膜真空工藝的環(huán)境要求的實(shí)驗(yàn)場(chǎng)所，才能保證鍍膜生產(chǎn)工藝的進(jìn)行。在鍍膜生產(chǎn)工藝中，基片表面潔凈直接決定了鍍膜前處理工藝過(guò)程及對(duì)基片進(jìn)行清洗處理的配方，因此它決定了是否能生產(chǎn)出合格的鍵膜產(chǎn)品。真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。呼和浩特光學(xué)鍍膜機(jī)原理
對(duì)于真空鍍膜機(jī)鍍制濺射類(lèi)鍍膜來(lái)說(shuō)，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，形成薄膜。 濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍（低壓氣體氛圍）、基片溫度 、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間 。對(duì)于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否精確控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問(wèn)題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。呼和浩特光學(xué)鍍膜機(jī)原理鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
鍍膜薄膜均勻性概念：厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋?；瘜W(xué)組分上的均勻性： 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。
鍍膜技術(shù)在防偽技術(shù)中的應(yīng)用：防偽膜種類(lèi)很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。鍍膜技術(shù)在飛機(jī)防護(hù)涂層方面的應(yīng)用：飛機(jī)的鈦合金緊固件，原來(lái)采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過(guò)程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”，甚至引起“空難”。1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問(wèn)題。在離子鍍技術(shù)中，由于給工件施加負(fù)偏壓，可以形成“偽擴(kuò)散層”、細(xì)化膜層組織，因此可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。汽車(chē)鍍膜具有抗氧化、防老化的作用。
鍍膜機(jī)的特點(diǎn)：成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類(lèi)眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。不使用有害氣體、液體，對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響。在當(dāng)前越來(lái)越重視環(huán)保的大趨勢(shì)下，這點(diǎn)極其可貴。帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問(wèn)題。工藝靈活，改變品種方便?？慑儐蚊?、雙面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于控制。光學(xué)鍍膜機(jī)增透膜增加透射光強(qiáng)度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播在過(guò)程中。安徽小型磁控濺射鍍膜機(jī)
鍍膜材料利用率高，環(huán)境污染小。呼和浩特光學(xué)鍍膜機(jī)原理
真空鍍膜設(shè)備基本技術(shù)要求：設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)符合GB/T6070的規(guī)定。在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)安裝真空測(cè)量規(guī)管，分別測(cè)量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場(chǎng)對(duì)測(cè)量造成干擾時(shí)，應(yīng)在測(cè)量口處安裝電場(chǎng)屏蔽裝置。如果設(shè)備使用的主泵為擴(kuò)散泵時(shí)，應(yīng)在泵的進(jìn)氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱。設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，應(yīng)設(shè)有擋板裝置。觀察窗應(yīng)能觀察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。離子鍍沉積源的設(shè)計(jì)應(yīng)盡可能提高鍍膜過(guò)程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。呼和浩特光學(xué)鍍膜機(jī)原理
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