對于真空鍍膜機(jī)鍍制濺射類鍍膜來說，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，形成薄膜。 濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍（低壓氣體氛圍）、基片溫度 、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間 。對于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否精確控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。鍍膜機(jī)清潔時請注意清潔，非鐵，沙子和灰塵進(jìn)入真空泵，定位要接觸良好。北京小型磁控濺射鍍膜機(jī)
真空鍍膜設(shè)備污染物的來源：真空鍍膜設(shè)備由許多不同的零件組成，它們都是經(jīng)過各種機(jī)械加工完成的，例如車銑、刨、磨、鏜、焊接等。這樣，零件表面不可避免地會沾上許多加工油脂、汗痕、拋光膏、焊劑、金屬屑、油垢等污染物。這些污染物在真空中易揮發(fā)，影響真空鍍膜設(shè)備的極限壓力和性能穩(wěn)定性。此外，污染物在大氣壓下吸附了大量的氣體，在真空環(huán)境中，這些氣體也要被釋放出來，構(gòu)成了限制真空鍍膜設(shè)備極限壓力的因素。為此，零件組裝前必須消除掉污染物。此外，真空鍍膜設(shè)備在使用過程中，零件還會受到污染。這種污染與使用條件及真空泵有關(guān)。例如：真空鍍膜機(jī)的內(nèi)壁會被蒸鍍材料污染;真空鍍膜設(shè)備真空抽氣機(jī)組的機(jī)械泵油更是污染源，設(shè)備長期工作后會使設(shè)備內(nèi)部形成明顯的油膜。這些污染同樣會影響設(shè)備的性能，應(yīng)注意隨時消除。好的清潔處理工藝，可以提高設(shè)備的極限壓力超高真空系統(tǒng)真空室材料多為不銹鋼，對不銹鋼的清洗極為重要。南昌大型磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜不使用有害氣體、液體，對環(huán)境無不利影響。
光學(xué)鍍膜機(jī)增透膜增加透射光強(qiáng)度的實(shí)質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播在過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布，對于單層薄膜來說，當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2）^（1/2）時（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃，為使單層膜達(dá)到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2K+1）倍四分之一個波長，單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實(shí)現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實(shí)現(xiàn)。
鍍膜機(jī)的特點(diǎn)：成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。不使用有害氣體、液體，對環(huán)境無不利影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)保的大趨勢下，這點(diǎn)極其可貴。帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問題。工藝靈活，改變品種方便。可鍍單面、雙面和單層、多層及混合層。鍍膜厚度易于控制。真空鍍膜能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。
在真空鍍膜機(jī)中，需要鍍膜的稱為基材，鍍膜材料稱為靶材。襯底和靶在真空室中。蒸發(fā)涂覆通常意味著加熱靶，以原子基團(tuán)或離子的形式蒸發(fā)表面成分，并沉積在基底表面，并通過成膜過程形成薄膜。這種鍍膜技術(shù)就是蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。對于濺射鍍膜，真空鍍膜機(jī)可以簡單理解為用電子或高能激光轟擊靶材，以原子團(tuán)或離子的形式濺射表面成分，沉積在襯底表面，經(jīng)過成膜過程，形成薄膜。這種鍍膜技術(shù)稱為磁控濺射鍍膜技術(shù)。真空鍍膜機(jī)由真空爐體、真空泵、控制柜、真空計(jì)、冷卻系統(tǒng)等部件組成。真空驢體可以由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成。根據(jù)目標(biāo)材料的具體涂層，需要鍍什么涂層，使用什么目標(biāo)材料，或者沖洗相關(guān)的子氣體來達(dá)到所需的涂層。真空鍍膜機(jī)在防護(hù)涂層中的應(yīng)用：飛機(jī)發(fā)動機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。武漢鍍膜機(jī)公司
鍍膜機(jī)主要分類有兩個大種類： 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜。北京小型磁控濺射鍍膜機(jī)
在鍍膜過程中，真空度會突然下降。蒸發(fā)源水道中的膠罔環(huán)(替換膠罔)；打穿坩堝(替換坩堝)；高壓電極密封處(更換膠圈)被擊穿；機(jī)械轉(zhuǎn)動的密封處膠圈損壞(更換)；前閥突然關(guān)閉可損壞二位五通閥(替換二位五通閥)；高流量閥門突然關(guān)閉可能是位五通閥門損壞(更換二位五通閥門)；機(jī)械泵的關(guān)閉可能是繼電器的斷開(檢查繼電器是否正常工作)；燒結(jié)引入線電極密封處(替換膠蓋)被擊穿；擋板動封處的膠固損壞(更換膠園)；玻璃觀察鏡有裂痕和裂痕(玻璃更換)。北京小型磁控濺射鍍膜機(jī)
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