利用原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM)，對(duì)所制備的非晶硅薄膜進(jìn)行了定性和定量的表征，研究了濺射功率、襯底溫度、濺射時(shí)間、氬氣氣壓等因素對(duì)非晶硅薄膜表面形貌和厚度的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨濺射功率、濺射時(shí)間和濺射氣壓的增加而增大，而隨著襯底加熱溫度的增加而減小。 對(duì)制備的非晶硅薄膜在不同溫度和時(shí)間進(jìn)行了退火處理。再利用X- 射線衍射儀(XRD)和拉曼光譜儀，對(duì)不同退火溫度的樣品進(jìn)行晶化程度的表征。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：不同條件制備的非晶硅薄膜在750℃退火1 h 后就已發(fā)生不同程度的晶化，并且直流磁控濺射制備的非晶硅薄膜比射頻磁控濺射制備的非晶硅薄膜更容易發(fā)生晶化;退火溫度越高，非晶硅薄膜晶化速率越快。 此外，通過拉曼激光誘導(dǎo)晶化，結(jié)果表明：拉曼激光誘導(dǎo)非晶硅晶化為局域晶化，具有晶化速度快的特點(diǎn);晶化過程中，需要控制激光強(qiáng)度，過強(qiáng)的激光會(huì)把非晶硅薄膜燒蝕掉。
對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。廣東氟化鈉靶材
根據(jù)客戶需要的比例計(jì)算、配料。（嚴(yán)格按照需求比例進(jìn)行配料，以便保證合金的成分比例，降低公差）；根據(jù)元素的熔點(diǎn)、元素特性、用量等選擇合適的熔煉爐工藝排期、熔煉；熔煉成型，根據(jù)客戶要求大小進(jìn)行破碎、切割等后期處理。高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材規(guī)格說明：產(chǎn)品規(guī)格靶材可定制產(chǎn)品數(shù)量1000包裝說明雙層真空包裝價(jià)格說明1000◆產(chǎn)品說明：高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材鈀，是銀白色過渡金屬，較軟，有良好的延展性和可塑性，能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣，使體積脹大，變脆乃至破裂成碎片。原子量：106.4密度（20℃）/g?cm-3：12.02熔點(diǎn)/℃：1552蒸發(fā)溫度/℃：1460沸點(diǎn)/℃：3140汽化溫度/℃：安徽ZnO靶材由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子。
什么是電致變色，它有哪些分類： 電致變色是指材料的光學(xué)屬性（反射率、透過率、吸收率等）在外加電場(chǎng)的作用下發(fā)生穩(wěn)定、可逆的顏色變化的現(xiàn)象，在外觀上表現(xiàn)為顏色和透明度的可逆變化。具有電致變色性能的材料稱為電致變色材料，用電致變色材料做成的器件稱為電致變色器件。 電致變色材料分類： 一、無機(jī)電致變色材料 無機(jī)電致變色材料的典型是三氧化鎢，目前，以WO3為功能材料的電致變色器件已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化。 二、有機(jī)電致變色材料 有機(jī)電致變色材料主要有聚噻吩類及其衍生物、紫羅精類、四硫富瓦烯、金屬酞菁類化合物等。以紫羅精類為功能材料的電致變色材料已經(jīng)得到實(shí)際應(yīng)用。
真空鍍膜設(shè)備替代電鍍?cè)O(shè)備是發(fā)展的必然 2012年全國(guó)化學(xué)電鍍產(chǎn)生的污水和重金屬排放量達(dá)到3.5億噸，固體廢物達(dá)到4.1萬噸，酸性氣體達(dá)到2.3萬立方米，由于真空鍍膜設(shè)備逐漸應(yīng)用到市場(chǎng)上，污染排放量比2011年有所下降，但仍是一個(gè)不可忽視的數(shù)據(jù)，為處理這大量的污染，大部分企業(yè)已投放了共5868.1億元在污水治理方面，464.8億元在固體廢物治理方面，974.9億元在酸性氣體治理方面，但仍然有部分企業(yè)沒有完善治理措施，造成大量污染。 使用真空鍍膜設(shè)備進(jìn)行電鍍可以有效改善污染情況，它不像化學(xué)電鍍需要使用重金屬溶液和酸性溶液進(jìn)行鍍膜，而是在真空環(huán)境下利用蒸發(fā)或?yàn)R射方式進(jìn)行鍍膜，完全沒有污染產(chǎn)生，是一種綠色低碳、符合可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的產(chǎn)業(yè)，已經(jīng)越來越多企業(yè)淘汰了舊方式化學(xué)電鍍而轉(zhuǎn)用真空電鍍，但還有很多企業(yè)沒意識(shí)到環(huán)保的重要性，不懂得綠色生產(chǎn)其實(shí)是為自己和后代創(chuàng)建美好生存環(huán)境的道理。 綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)是必然的發(fā)展趨勢(shì)，造成嚴(yán)重污染的化學(xué)電鍍終會(huì)退出歷史舞臺(tái)，取而代之的是真空電鍍，利用真空鍍膜機(jī)鍍膜成為主流是不可質(zhì)疑的。濺射出靶材的原子、原子團(tuán)、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團(tuán)沉積到基材上形成薄膜。
氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響 在磁控濺射或反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過程中，工作氣體或反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。 1.工作氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響 一般的規(guī)律是：在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著工作氣體(如氬氣)壓強(qiáng)(0.1~10Pa)的逐步增加，氣體放電等離子體的密度也會(huì)同步增加，致使等離子體等效阻抗減小，磁控靶的濺射電流會(huì)逐步上升，濺射工作電壓亦會(huì)同步下降。 2. 反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響 在反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過程中，在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著反應(yīng)氣體(如氮?dú)狻⒀鯕?壓強(qiáng)(或流量)的逐步增加(一般應(yīng)注意不要超過工藝設(shè)定值的上限值)，隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋，陰-陽極間放電的等效阻抗也會(huì)同步增高，磁控靶的濺射電流會(huì)逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽極消失”為止)，濺射工作電壓亦會(huì)同步上升。反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應(yīng)氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。蘇州VO2靶材廠家
熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。廣東氟化鈉靶材
玫瑰金靶材有哪些？ PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的，不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別，大概分為以下幾種： 1、皇冠金（crown gold），黃金含量在22K(91.667％)，由英國(guó)亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見的也是典型的18K玫瑰金，黃金含量也在18K(75％)，但其它另含有約4％的銀和21％的銅，呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金，黃金含量在14K(58.33％)，其它添加金屬為銅(41.67％)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素，用來達(dá)到不同的色調(diào)或用來改變鍍層的性能，這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因之一。
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江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商祝壎ㄆ脚_(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。