激光微納加工制造是微納制造技術(shù)的重要部分。激光微納制造是通過激光與材料相互作用，改變材料的物態(tài)和性質(zhì)，實(shí)現(xiàn)微米至納米尺度或跨尺度的控形與控性。由于激光微納制造在能量密度、作用的空間和時(shí)間尺度、制造體吸收能量的可控尺度都可分別趨于極端，而使制造過程所利用的物理效...

采用磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。 濺射原子能量比蒸發(fā)原子能量高1-2個(gè)數(shù)量級(jí)。高能量的濺射原子沉積在基片上進(jìn)行的能量轉(zhuǎn)換比蒸發(fā)原子高得多，產(chǎn)生...

"在微納加工世界，灰塵就是‘導(dǎo)彈’，頭發(fā)絲就是‘火箭’，平時(shí)我們不在意的小細(xì)節(jié)都會(huì)對(duì)芯片的精度產(chǎn)生重大影響！”微納加工平臺(tái)算得上是世上**干凈的實(shí)驗(yàn)室了，做微納加工工藝的工程師們，在進(jìn)入潔凈室前，首先要在更衣室里更換凈化服，還需佩戴頭套、口罩和手套。再經(jīng)過風(fēng)淋間...

目前可以實(shí)現(xiàn)表面微納結(jié)構(gòu)的加工方法主要有以下幾種。 （1）光刻技術(shù)，利用電子束或激光光束可以得到加工尺寸在幾十納米的微納結(jié)構(gòu)，該方法優(yōu)勢(shì)在于精度高，得到的微納結(jié)構(gòu)形狀可以得到很好的控制； （2）飛秒激光加工技術(shù)，由于飛秒激光具有不受衍射極限限制的特點(diǎn)，可以加工...

微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻（SUSS）、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD（SiO2、Si...

微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻（SUSS）、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD（SiO2、Si...

納米工藝加工平臺(tái)的工藝能力涵蓋光刻、氧化擴(kuò)散、濕法清洗與刻蝕、物***相沉積、化學(xué)氣相沉積及干法刻蝕、結(jié)構(gòu)與器件特性表征等全微納加工工藝鏈，同時(shí)具備**技術(shù)的電子束光刻、聚焦離子束沉積與加工、深硅刻蝕等工藝能力。 有時(shí)候加工平臺(tái)一年會(huì)有一次開放日，有幸走進(jìn)潔凈...

目前可以實(shí)現(xiàn)表面微納結(jié)構(gòu)的加工方法主要有以下幾種。 （1）光刻技術(shù)，利用電子束或激光光束可以得到加工尺寸在幾十納米的微納結(jié)構(gòu)，該方法優(yōu)勢(shì)在于精度高，得到的微納結(jié)構(gòu)形狀可以得到很好的控制； （2）飛秒激光加工技術(shù)，由于飛秒激光具有不受衍射極限限制的特點(diǎn)，可以加工...

掩膜版的種類 透明基板 1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）蘇打玻璃（Soda-lime Glass）低膨脹玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明樹脂 遮光膜 （1）硬質(zhì)遮光膜：鉻膜氧化鐵硅化鉬硅。 （2）乳膠。 掩膜版的制作...

原位芯片掌握先進(jìn)的光刻技術(shù)，為企業(yè)提供光刻代加工服務(wù)。電子束曝光技術(shù)簡(jiǎn)稱“光刻”，是當(dāng)前**常用的微納加工方案，充當(dāng)模板的是“光刻膠”。理論上光刻的精度可以達(dá)到1納米，但是實(shí)際情況下很難，儀器輕微的振動(dòng)、外界磁場(chǎng)的干擾、操作人員的經(jīng)驗(yàn)都會(huì)影響**終結(jié)果?！澳壳半娮?..

光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計(jì)、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè)，應(yīng)用于主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等終端產(chǎn)品。 目前全球范圍內(nèi)...

微流控芯片技術(shù)是個(gè)多學(xué)科交叉大融合的技術(shù)，物理、材料、食品、化學(xué)、生物、醫(yī)療等多領(lǐng)域的**均為微流控芯片技術(shù)做出了很多貢獻(xiàn)，可謂萬花齊放，一起讓微流控芯片領(lǐng)域生機(jī)勃勃。微流控芯片技術(shù)也在不斷發(fā)展過程中逐漸成長(zhǎng)壯大，并作為快速發(fā)展的顛覆性技術(shù)之一被寫入“十三五”...

納米工藝加工平臺(tái)的工藝能力涵蓋光刻、氧化擴(kuò)散、濕法清洗與刻蝕、物***相沉積、化學(xué)氣相沉積及干法刻蝕、結(jié)構(gòu)與器件特性表征等全微納加工工藝鏈，同時(shí)具備**技術(shù)的電子束光刻、聚焦離子束沉積與加工、深硅刻蝕等工藝能力。 有時(shí)候加工平臺(tái)一年會(huì)有一次開放日，有幸走進(jìn)潔凈...

聚酰亞胺(PI)薄膜被業(yè)界稱為“黃金薄膜”，可以在-270℃～400℃寬溫度范圍內(nèi)長(zhǎng)期使用，同時(shí)具有**度、高絕緣、抗輻射、耐腐蝕等優(yōu)異的綜合性能。聚酰亞胺薄膜按照用途分為一般絕緣和耐熱為目的的電工級(jí)應(yīng)用、附有撓性等要求的電子級(jí)應(yīng)用、航空航天應(yīng)用和柔性顯示光電...

超短脈沖激光微細(xì)加工技術(shù)指的是利用超短脈沖激光對(duì)材料的顯微加工、精密裁切以及微觀改性。相對(duì)于傳統(tǒng)的激光打標(biāo)、激光焊接、激光切割等，超短脈沖激光精密微細(xì)加工還屬于新興的市場(chǎng)，在太陽能電池、LCD、醫(yī)療、精密加工、透明材料及微電子學(xué)等領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。隨著超...

聚酰亞胺薄膜未來發(fā)展 未來高性能PI薄膜子柔性有機(jī)薄膜太陽能電池和新一代柔性LCD和OLED顯示器產(chǎn)業(yè)以及鋰電池等新型動(dòng)力儲(chǔ)電池技術(shù)產(chǎn)業(yè)均有廣闊的發(fā)展需求，PI薄膜的研究主要向高性能化、多功能化、易成型加工和低成本等方向發(fā)展，同時(shí)在差別化和特殊應(yīng)用的高性能P...

微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻（SUSS）、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD（SiO2、Si...

微納代工質(zhì)量好、效率高、價(jià)格低 蘇州原位芯片提供硅基和非硅基微納代工單步或多步整合工藝代工。 擁有接觸式光刻（SUSS）、stepper光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)、熱氧化爐、離子注入機(jī)（注入B、P等）、LPCVD(多晶硅、低應(yīng)力氮化硅等)、PECVD（SiO2、Si...

原位芯片掌握先進(jìn)的光刻技術(shù)，為企業(yè)提供光刻代加工服務(wù)。電子束曝光技術(shù)簡(jiǎn)稱“光刻”，是當(dāng)前**常用的微納加工方案，充當(dāng)模板的是“光刻膠”。理論上光刻的精度可以達(dá)到1納米，但是實(shí)際情況下很難，儀器輕微的振動(dòng)、外界磁場(chǎng)的干擾、操作人員的經(jīng)驗(yàn)都會(huì)影響**終結(jié)果?！澳壳半娮?..

激光微納加工制造是微納制造技術(shù)的重要部分。激光微納制造是通過激光與材料相互作用，改變材料的物態(tài)和性質(zhì)，實(shí)現(xiàn)微米至納米尺度或跨尺度的控形與控性。由于激光微納制造在能量密度、作用的空間和時(shí)間尺度、制造體吸收能量的可控尺度都可分別趨于極端，而使制造過程所利用的物理效...

微納加工制造與測(cè)試技術(shù)作為我國從制造大國走向制造強(qiáng)國戰(zhàn)略的重要前沿交叉關(guān)鍵技術(shù)，對(duì)制造工業(yè)、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)以及社會(huì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展都具有重要意義，***高度重視先進(jìn)傳感器技術(shù)的研究。MEMS傳感器研究要站在戰(zhàn)略的高度，重點(diǎn)關(guān)注其顛覆性技術(shù)和關(guān)鍵**技術(shù)的突破；微納制造技...

原位芯片掌握先進(jìn)的光刻技術(shù)，為企業(yè)提供光刻代加工服務(wù)。電子束曝光技術(shù)簡(jiǎn)稱“光刻”，是當(dāng)前**常用的微納加工方案，充當(dāng)模板的是“光刻膠”。理論上光刻的精度可以達(dá)到1納米，但是實(shí)際情況下很難，儀器輕微的振動(dòng)、外界磁場(chǎng)的干擾、操作人員的經(jīng)驗(yàn)都會(huì)影響**終結(jié)果?！澳壳半娮?..

聚酰亞胺(PI)薄膜被業(yè)界稱為“黃金薄膜”，可以在-270℃～400℃寬溫度范圍內(nèi)長(zhǎng)期使用，同時(shí)具有**度、高絕緣、抗輻射、耐腐蝕等優(yōu)異的綜合性能。聚酰亞胺薄膜按照用途分為一般絕緣和耐熱為目的的電工級(jí)應(yīng)用、附有撓性等要求的電子級(jí)應(yīng)用、航空航天應(yīng)用和柔性顯示光電...

微納加工制造與測(cè)試技術(shù)作為我國從制造大國走向制造強(qiáng)國戰(zhàn)略的重要前沿交叉關(guān)鍵技術(shù)，對(duì)制造工業(yè)、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)以及社會(huì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展都具有重要意義，***高度重視先進(jìn)傳感器技術(shù)的研究。MEMS傳感器研究要站在戰(zhàn)略的高度，重點(diǎn)關(guān)注其顛覆性技術(shù)和關(guān)鍵**技術(shù)的突破；微納制造技...

微納加工制造與測(cè)試技術(shù)作為我國從制造大國走向制造強(qiáng)國戰(zhàn)略的重要前沿交叉關(guān)鍵技術(shù)，對(duì)制造工業(yè)、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)以及社會(huì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展都具有重要意義，***高度重視先進(jìn)傳感器技術(shù)的研究。MEMS傳感器研究要站在戰(zhàn)略的高度，重點(diǎn)關(guān)注其顛覆性技術(shù)和關(guān)鍵**技術(shù)的突破；微納制造技...

納米光刻技術(shù)是一種精確的圖案化技術(shù)，用于生物傳感器和先進(jìn)材料的功能納米結(jié)構(gòu)的制造，并在太陽能電池、印刷電子、LED和MEMS等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。由于大多數(shù)光刻圖案具有3D結(jié)構(gòu)，因此表征技術(shù)必須提供3D測(cè)量的能力。Tosca?400 AFM利用尖銳探針掃描樣品表面...

這種金黃色的高性能薄膜（PI）在零下269℃到400℃的溫度范圍內(nèi)，具有穩(wěn)定而優(yōu)異的物理、化學(xué)、電學(xué)和力學(xué)性能，被***用于手機(jī)、電腦、照相機(jī)等電子產(chǎn)品的制造，以及衛(wèi)星、飛機(jī)、高速鐵路等領(lǐng)域相關(guān)重要部件的制造。據(jù)統(tǒng)計(jì)，去年我國聚酰亞胺薄膜的年需求量超過2800...

激光微納加工制造是微納制造技術(shù)的重要部分。激光微納制造是通過激光與材料相互作用，改變材料的物態(tài)和性質(zhì)，實(shí)現(xiàn)微米至納米尺度或跨尺度的控形與控性。由于激光微納制造在能量密度、作用的空間和時(shí)間尺度、制造體吸收能量的可控尺度都可分別趨于極端，而使制造過程所利用的物理效...

聚酰亞胺(PI)薄膜被業(yè)界稱為“黃金薄膜”，可以在-270℃～400℃寬溫度范圍內(nèi)長(zhǎng)期使用，同時(shí)具有**度、高絕緣、抗輻射、耐腐蝕等優(yōu)異的綜合性能。聚酰亞胺薄膜按照用途分為一般絕緣和耐熱為目的的電工級(jí)應(yīng)用、附有撓性等要求的電子級(jí)應(yīng)用、航空航天應(yīng)用和柔性顯示光電...

微納加工制造與測(cè)試技術(shù)作為我國從制造大國走向制造強(qiáng)國戰(zhàn)略的重要前沿交叉關(guān)鍵技術(shù)，對(duì)制造工業(yè)、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)以及社會(huì)經(jīng)濟(jì)發(fā)展都具有重要意義，***高度重視先進(jìn)傳感器技術(shù)的研究。MEMS傳感器研究要站在戰(zhàn)略的高度，重點(diǎn)關(guān)注其顛覆性技術(shù)和關(guān)鍵**技術(shù)的突破；微納制造技...