存放化學科研試劑時，要注意化學科研試劑的存放期限，某些試劑在存放過程中會逐漸變質(zhì)，甚至形成危害物。如醚類、四氫呋喃、二氧六環(huán)、烯、液體石蠟等，在見光條件下，若接觸空氣可形成過氧化物，放置時間越久越危險。某些具有還原性的試劑，如1，3，5-三羥基苯、TiCl3、四氫硼鈉、FeS04、維生素c、維生素E以及金屬鐵絲、鋁、鎂、鋅粉等易被空氣中氧所氧化變質(zhì)?；瘜W科研試劑必須分類隔離存放，不能混放在一起，通常把試劑分成很多種類，分別存放。易燃類液體極易揮發(fā)成氣體，遇明火即燃燒，通常把閃點在25攝氏度以下的液體均列入易燃類。化學科研試劑中的強氧化劑類試劑是過氧化物或含氧酸及其鹽，在適當條件下會發(fā)生炸裂。4-氨基-5-溴吡啶-2-羧酸叔丁酯 CAS：868171-70-4
盛裝化學科研試劑的容器與能使之變質(zhì)的環(huán)境盡可能隔斷，即采用密封的容器，如緊密蓋閉的鐵桶、密閉的金屬容器和容量不大于1升的緊密蓋閉的玻璃瓶。密閉貯藏適用于具有揮發(fā)、升華、潮解、風化、析晶、水解、氧化、還原、霉變等性質(zhì)的試劑，是貯藏試劑較常用的方法。試劑瓶視察閉程度和試劑腐蝕性不同用磨口玻璃塞（適用于硝酸、鹽酸、硫酸和液溴等）或具有塑料襯墊的螺旋帽蓋。為使封口嚴密，可采用膠套的配制方法：將膠套混合液（硝化纖維：膠：蓖麻油：C4H10O：乙醇=13：0.5：36：50）倒入瓶塞模中，數(shù)秒后即形成薄膜，趁膜未干時取下泡浸于75%乙醇中備用。封口時，將合適的膠套套在已經(jīng)好的瓶塞上，待其收縮后，瓶口即可密封。對于易分解產(chǎn)生氣體的試劑，一定不能密封，否則易發(fā)生炸裂，如過氧化氫、碳酸銨等。3-氯丙基二甲基氯硅烷 CAS：10605-40-0化學科研試劑中的指示劑可按酸堿指示劑、氧化還原指示劑、絡合滴定指示劑及熒光吸附指示劑分類排列。
取用化學科研試劑時，對于固體類試劑，要遵循“三不”原則，即“不聞、不摸、不嘗”；具體說就是：不要去聞試劑的氣味，不能用手觸摸試劑，不能嘗試試劑的味道。節(jié)約原則，即嚴格按照實驗規(guī)定的用量取用試劑；如果沒有說明用量，一般按較少量（1～2mL)取用液體，固體只需蓋滿試管底部即可。較大量，液體不超過容器容積的1／3，固體不超過1／2?！叭灰灰痹瓌t，即實驗用剩的試劑不能因為要“節(jié)約”而放回原試劑瓶，這樣做會污染試劑瓶中未使用的試劑。因此，用剩的試劑既不能放回原試劑瓶，也不能隨意丟棄，更不能帶出實驗室，要放在指定的容器中。
化學科研試劑中的指示劑可按酸堿指示劑、氧化還原指示劑、絡合滴定指示劑及熒光吸附指示劑分類排列。有機試劑可按分子中碳原子數(shù)目多少排列。一般試劑分類存放于陰涼通風，溫度低于30攝氏度的柜內(nèi)即可。純度遠高于優(yōu)級純的試劑叫做高純試劑。是在通用試劑基礎上發(fā)展起來的，是為了專門的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的純度很高的試劑。高純試劑控制的是雜質(zhì)項含量，基準試劑控制的是主含量，基準試劑可用標準溶液的配制，但高純試劑不能用于標準溶液的配制（單質(zhì)氧化物除外）。大部分高純試劑的質(zhì)量標準還很不統(tǒng)一，在名稱上也有高純、超純、特純、光譜純、電子純等不同叫法。一般以9來表示產(chǎn)品的純度。閃點在-4攝氏度以下的化學科研試劑有石油醚、氯乙烷、二硫化碳、乙酸甲酯等。
化學科研試劑中的儀器分析專門試劑下分色譜試劑、核磁共振儀用試劑、紫外及紅外光譜試劑等7亞類。有機合成研究用試劑下分基本有機反應試劑、保護基因試劑、相轉(zhuǎn)移催化劑等8亞類。臨床診斷試劑下分一般試劑、生化檢驗用試劑、放射免疫檢驗用試劑等7亞類。生化試劑下分生物堿、氨基酸及其衍生物等13亞類。新型基礎材料和精細化學品下分電子工業(yè)用化學品、光學工業(yè)用化學品、醫(yī)藥工業(yè)用化學品等7亞類。此外，化學科研試劑還可按純度分為高純試劑、優(yōu)級試劑、分析純試劑的化學純試劑；或按試劑儲存要求而分為容易變質(zhì)試劑、化學危險性試劑和一般保管試劑。通常把閃點在25攝氏度以下的化學科研試劑均列入易燃類試劑。N-[(2R)-嗎啉-2-基甲基]氨基甲酸叔丁酯 CAS：186202-57-3
取用化學科研試劑時，要用潔凈的藥勺，量筒或滴管取用試劑。4-氨基-5-溴吡啶-2-羧酸叔丁酯 CAS：868171-70-4
對化學科研試劑中的高純試劑或高純元素純度或雜質(zhì)含量的檢驗，一般常用原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜、色譜、質(zhì)譜比色化學分析等方法進行測定。普通高純試劑則是指一些高純單質(zhì)金屬、氧化物、金屬鹽類等，常用于原子能工業(yè)材料、電子工業(yè)材料、半導體基礎材料等，金屬單質(zhì)的氧化物、用來配制標準溶液和作為標準物質(zhì)，該類試劑常要求含量在4N-6N之間。超凈高純試劑是集成電路（IC）制造工藝中的專門化學品，用于硅片清洗、光刻、腐蝕工序中。光刻工藝是一種表面加工技術，在半導體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實現(xiàn)選擇性腐蝕，采用一類具有抗蝕作用的感光樹脂材料作為抗蝕涂層，稱為抗蝕劑，在化學科研試劑中也比較常見。4-氨基-5-溴吡啶-2-羧酸叔丁酯 CAS：868171-70-4