化學科研試劑在貯藏時，有時即使試劑容器密閉封口，也難免有意外的跑冒漏泄現(xiàn)象，為使貯藏中不致形成炸裂性混合氣體或積貯有毒蒸氣，大型的可燃性液體和有毒液態(tài)試劑的貯藏室應安裝排風裝置，保持貯藏室內(nèi)空氣的清潔。隔離指試劑的分類分庫貯藏，以免漏泄、失火時相互作用造成更大的事故。各種試劑，應根據(jù)其性質(zhì)查明類別后，方可進入所屬類倉庫。為避免試劑的燃燒和炸裂事故的發(fā)生，易燃易爆的試劑應有防火貯藏措施。易燃、易爆試劑貯藏建筑，應采用輕質(zhì)非可燃建筑材料、鋼架結(jié)構(gòu)。建筑物的墻應采用空心防火墻，并須有3-4小時的抗火能力。建筑物的地板和天花板皆需有抗火能力。室溫不許超過30℃，門窗應向外開啟。有多層（樓）的貯藏建筑物，可燃性液體盡量貯藏于較下層的貯藏室，而且地板不得漏水，并需有排水裝置。由于地下室難以排水或通風，所以，地下室不宜作為可燃性液體的貯藏室?；瘜W科研試劑必須分類隔離存放，不能混放在一起。CAS：306936-65-2 3-[4-(三氟甲基)苯基]-1H-吡唑-4-甲醛
為了達到準確的實驗結(jié)果，取用化學科研試劑時應遵守相關規(guī)則，以保證化學科研試劑不受污染和不變質(zhì)，比如，化學科研試劑不能與手接觸。要用潔凈的藥勺，量筒或滴管取用試劑，一定不準用同一種工具同時連續(xù)取用多種試劑。取完一種化學科研試劑后，應將工具洗凈（藥勺要擦干）后，方可取用另一種化學科研試劑?；瘜W科研試劑取用后一定要將瓶塞蓋緊，不可放錯瓶蓋和滴管，絕不允許張冠李戴，用完后將瓶放回原處。已取出的化學科研試劑不能再放回原試劑瓶內(nèi)。另外取用化學科研試劑時應本著節(jié)約精神，盡可能少用，這樣既便于操作和仔細觀察現(xiàn)象，又能得到較好的實驗結(jié)果。苯六酸 CAS：517-60-2存放化學科研試劑時，要注意化學科研試劑的存放期限。
化學科研試劑品類中的高分子材料也稱為聚合物材料，是以高分子化合物為基體，再配有其他添加劑（助劑）所構(gòu)成的材料。高分子材料按來源分為天然高分子材料和合成高分子材料。按特性分為橡膠、纖維、塑料、高分子膠粘劑、高分子涂料和高分子基復合材料等。按照應用功能分為通用高分子材料、特種高分子材料和功能高分子材料三大類。按高分子主鏈結(jié)構(gòu)分為碳鏈高分子、雜鏈高聚物、元素有機高聚物。按高分子主鏈幾何形狀分為線型高聚物，支鏈型高聚物，體型高聚物。按高分子微觀排列情況分為結(jié)晶高聚物，半晶高聚物，非晶高聚物。
化學科研試劑大多數(shù)具有一定的毒性及危險性。對化學科研試劑加強管理，不僅是保證分析結(jié)果質(zhì)量的需要，也是確保人民生命財產(chǎn)安全的需要。化學科研試劑的管理應根據(jù)試劑的毒性、易燃性、腐蝕性和潮解性等不同的特點，以不同的方式妥善管理?；炇覂?nèi)只宜存放少量短期內(nèi)需用的藥品，易燃易爆試劑應放在鐵柜中，柜的頂部要有通風口。嚴禁在化驗室內(nèi)存放總量20L的瓶裝易燃液體。大量試劑應放在試劑庫內(nèi)。對于一般試劑，如元機鹽，應存放有序地放在試劑柜內(nèi)，可按元素周期系類族，或按酸、堿、鹽、氧化物等分類存放?；瘜W科研試劑中的基準物質(zhì)，標準物質(zhì)和高純物質(zhì)，原則上要嚴格按照保存規(guī)定來保存。
化學科研試劑關于穩(wěn)定性同位素在土壤、醫(yī)學、農(nóng)業(yè)、生物、生態(tài)、環(huán)境等領域得到大多應用。由于它具有綜合長期地球化學變化和聯(lián)系不同系統(tǒng)成分的能力，起著在時間、空間上聯(lián)絡的作用，可為研究成巖作用提供珍貴的地球化學信息，對了解環(huán)境演化具有重大意義。在研究環(huán)境介質(zhì)中化學物質(zhì)的遷移、轉(zhuǎn)化及溯源性等方面有廣闊的應用前景。穩(wěn)定性同位素在地質(zhì)歷史中的變化為研究成巖作用提供了珍貴的地球化學信息，對了解環(huán)境演化具有重大意義。質(zhì)子激發(fā)Ｘ射線分析和各種同位素探針的應用等都是與其他高新技術優(yōu)化配合形成新技術體系的組成和內(nèi)容。新的放射性示蹤劑和新的示蹤方法的開發(fā)。新的放射性示蹤劑的開發(fā)，包括標記化合物、標記化技術及測定和解析技術的開發(fā)。新的示蹤方法的開發(fā)，包括正電子核素示蹤技術及結(jié)合其他高新技術（信息技術、生物技術等）?；瘜W科研試劑是科技進步的重要條件。2-羥基-1-萘甲酸 CAS：2283-08-1
取用化學科研試劑中的強腐蝕性的藥品時，一定要小心，宜戴上橡膠手套，護目眼鏡。CAS：306936-65-2 3-[4-(三氟甲基)苯基]-1H-吡唑-4-甲醛
對化學科研試劑中的高純試劑或高純元素純度或雜質(zhì)含量的檢驗，一般常用原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜、色譜、質(zhì)譜比色化學分析等方法進行測定。普通高純試劑則是指一些高純單質(zhì)金屬、氧化物、金屬鹽類等，常用于原子能工業(yè)材料、電子工業(yè)材料、半導體基礎材料等，金屬單質(zhì)的氧化物、用來配制標準溶液和作為標準物質(zhì)，該類試劑常要求含量在4N-6N之間。超凈高純試劑是集成電路（IC）制造工藝中的專門化學品，用于硅片清洗、光刻、腐蝕工序中。光刻工藝是一種表面加工技術，在半導體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實現(xiàn)選擇性腐蝕，采用一類具有抗蝕作用的感光樹脂材料作為抗蝕涂層，稱為抗蝕劑，在化學科研試劑中也比較常見。CAS：306936-65-2 3-[4-(三氟甲基)苯基]-1H-吡唑-4-甲醛