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    根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1．

  清洗時，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

***步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

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如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 浙江廠家直供美國IONPURE EDI模塊推薦廠家美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專業(yè)人員給出建議。

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊清洗步驟如下：

1．準備

   1）關閉EDI系統(tǒng)。停止EDI系統(tǒng)運行，確定EDI模塊的電源已被切斷并把整流器轉換鈕轉到“關閉”位置。

   2）關閉下列閥門：原水進水閥、淡水產(chǎn)水閥、淡水沖洗排放閥、極水排放閥、濃水排放閥、濃水循環(huán)泵進出口閥。

   3）將清洗水箱和相關的清洗管道清洗干凈。

   4）連接清洗管道。把淡水產(chǎn)水、濃水排放、極水排放的清洗管線直接連接到清洗水箱上。把原水進水、濃水進水清洗管線連接到EDI系統(tǒng)的原水進水和濃水進水清洗接口上。注意清洗管線必須牢固、緊密，以防止化學藥品的噴濺。

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3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當?shù)那逑春拖?，直接導致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質和水量全部下降。

  5、西門子EDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、西門子EDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴重下降，清洗無效。

  7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保值得推薦。山東廠家直供美國IONPURE EDI模塊廠家報價

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