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來源: 發(fā)布時間:2022-08-11

(5) TOC(總有機碳)的影響。

  進水中如果有機物含量過高,會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染,導(dǎo)致系統(tǒng)運行電壓上升,產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體,堵塞通道。


(6)進水中CO2的影響。

  進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì),容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。


(7)總陰離子含量(TEA)的影響。

  高的TEA將會降EDI模塊產(chǎn)水電阻率,或需要提EDI模塊運行電流,而過高的運行電流會導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大,極水余氯濃度增大,對極膜壽命不利。

  另外,進水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對IONPUREEDI模塊系統(tǒng)運行有影響 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎來電。天津廠家直供美國IONPURE EDI模塊供貨商

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啟動清洗泵運行50分鐘,運行流量和壓力為正常運行狀態(tài),最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。

   排掉清洗水箱內(nèi)消毒液,并用RO水沖洗EDI出水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

4.堿洗

   1)配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液:將1200LRO水沖入清洗水箱中,加入60KgNaCL和14.4KgNaOH,并攪拌均勻使其完全溶解(可啟動清洗泵循環(huán)攪拌)。

   2)啟動清洗泵,流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘,停止清洗泵。

   3)沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液,用RO水沖洗EDI,如清洗后封存,不要沖太徹底。 上海原裝美國IONPURE EDI模塊的特點美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購買品質(zhì)有保證。

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美國ionpure edi模塊的進水指標(biāo)要求: ◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水 ◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。 ◎電導(dǎo)率:<40μS/cm。 ◎PH:6.0~9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時,edi比較好工作的pH范圍為8.0~9.0。 ◎溫度:5~35℃。 ◎進水壓力:<4bar(60psi)。 ◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。 ◎有機物(TOC):<0.5ppm。 ◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。 ◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。 ◎H2S:<0.01ppm。 ◎二氧化硅:<0.5ppm。 ◎色度:<5APHA。 ◎二氧化碳的總量:<10ppm。 ◎ SDI 15min:<1.0。

二、工業(yè)水處理的未來

  目前的RO-EDI技術(shù)大大地降低了化學(xué)藥劑的使用,簡化了運行操作,降低了總的固定投資費用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進一步降低化學(xué)藥劑使用的要求,但我們可以預(yù)期,隨著過濾及RO膜技術(shù)的提高,RO-EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟性將會得到進一步的提高。

  將來會如何變化?我們會看到在所有的工業(yè)單元中降低對化學(xué)藥劑的使用將是肯定的。可以預(yù)計,在3到5年的時間內(nèi),85%的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會采用RO/EDI系統(tǒng),剩余15%的部分則是應(yīng)用在預(yù)處理的費用較高或者不能抵消非化學(xué)方法的RO-EDI系統(tǒng)所帶來的固有益處的場合。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現(xiàn)在已完全確立了其市場地位,而且獲得了工業(yè)界的廣 泛接受,此項技術(shù)的發(fā)展將取決于工業(yè)界對采用非化學(xué)方法制取純水的不斷需求。


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如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是最明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Si也有一定關(guān)系。由于Si在25℃,pH值是6~8的水體中的溶解度是120mg/L。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Si在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保指導(dǎo)安裝。天津廠家直供美國IONPURE EDI模塊供貨商

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(1)進水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下,隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小,出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低,而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大,導(dǎo)致水的解離程度增強,極限電流增大,產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多,使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大,產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至最 高點后再增加電流,由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多,除用于再生樹脂外,大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電,同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞,甚至發(fā)生反擴散,結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 天津廠家直供美國IONPURE EDI模塊供貨商

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