佛山數(shù)字集成電路IC

    介電結(jié)構(gòu)圍繞存儲單元a,。存儲單元a,包括工作mtj器件和具有調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件的調(diào)節(jié)訪問裝置。介電結(jié)構(gòu)還圍繞多個導(dǎo)電互連層a至f。多個導(dǎo)電互連層a至f包括互連層a，互連層a在存儲單元a,的工作mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件正下方延伸為連續(xù)結(jié)構(gòu)?；ミB層a通過互連層b和多個通孔a連接至存儲單元a,的工作mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件。第三互連層c具有離散的互連結(jié)構(gòu)。離散的互連結(jié)構(gòu)限定連接至圖的存儲器陣列的列內(nèi)的相應(yīng)存儲單元的兩條字線wl至wl以及連接至圖的存儲器陣列的行內(nèi)的相應(yīng)存儲單元的位線bl。在一些實施例中，存儲單元a,的工作mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件可以通過多個通孔b連接至第三互連層c。在一些實施例中，一個或多個附加存儲單元可以布置在存儲單元a,上方。在這樣的實施例中，第四互連層d在存儲單元b,的工作mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件正下方延伸為連續(xù)結(jié)構(gòu)。第四互連層d通過第五互連層e和第三多個通孔c連接至存儲單元b,的工作mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件。第六互連層f限定連接至圖的存儲器陣列的列內(nèi)的相應(yīng)存儲單元的兩條字線wl至wl以及連接至圖的存儲器陣列的行內(nèi)的相應(yīng)存儲單元的位線bl。在一些實施例中。集成電路行業(yè)主要上市公司：韋爾股份(603501)、中芯國際(688981)、長電科技(600584)等。佛山數(shù)字集成電路IC

    下基板2的上層金屬層9、下層金屬層10通孔沉金19、20，用于中間填充層的21，上基板1中間層22、下基板2中間層23。圖2示出依據(jù)本申請一實施例的雙芯片集成電路封裝結(jié)構(gòu)201，包括上基板1、元件3、元件4及下基板2，上基板1上的上層金屬層5、下層金屬層6以及下層金屬層6上的聯(lián)結(jié)pad7、8、9、10，下基板2上的上層金屬層11、下層金屬層12以及上層金屬層11上的pad13、14、15、16，下層金屬層12上的聯(lián)結(jié)pad17、18、19、20、21、聯(lián)結(jié)pad22。上基板1與下基板2聯(lián)結(jié)用的沉金23、24，下基板2的上層金屬層11、下層金屬層12通孔沉金25、26、27、28，用于中間填充層的29，上基板1中間層30、下基板2中間層31。以上所述實施例用以說明本申請的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本申請進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實用新型各實施例技術(shù)方案的精神和范圍，均應(yīng)包含在本申請的保護(hù)范圍之內(nèi)。江蘇圓形集成電路器件集成電路產(chǎn)業(yè)是數(shù)字經(jīng)濟(jì)的基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)，是構(gòu)筑我國經(jīng)濟(jì)未來競爭新優(yōu)勢的基礎(chǔ)力量來源之一。

    然后在開口內(nèi)沉積導(dǎo)電材料(例如，銅和/或鋁)，以及隨后的平坦化工藝(例如，化學(xué)機(jī)械平坦化工藝)以形成互連層b。的截面圖所示，可以在存儲單元a,上方形成存儲單元b,。存儲單元b?？梢园üぷ鱩tj器件和調(diào)節(jié)訪問裝置，調(diào)節(jié)訪問裝置具有形成在第三互連層c和第四互連層d之間的調(diào)節(jié)mtj器件和。存儲單元b,可以根據(jù)與關(guān)于圖至圖描述的那些類似的步驟形成。出了形成具有存儲器電路的集成芯片的方法的一些實施例的流程圖，該存儲器電路包括具有調(diào)節(jié)訪問裝置的存儲單元(例如，mram單元)，該調(diào)節(jié)訪問裝置被配置為選擇性地對工作mtj器件提供訪問。雖然方法示出和描述為一系列步驟或事件，但是應(yīng)該理解，這些步驟或事件的示出的順序不被解釋為限制意義。例如，一些步驟可以以不同的順序發(fā)生和/或與除了此處示出的和/或描述的一些的其它步驟或事件同時發(fā)生。此外，可能不是所有示出的步驟對于實施此處描述的一個或多個方面或?qū)嵤├际切枰模⑶掖颂幟枋龅囊粋€或多個步驟可以在一個或多個單獨(dú)的步驟和/或階段中實施。在步驟中，在襯底上方形成互連層?；ミB層可以形成在襯底上方的ild層內(nèi)。出了對應(yīng)于步驟的一些實施例的截面圖。在步驟中。

    下基板上的上層金屬層、下層金屬層以及上層金屬層上聯(lián)結(jié)pad、，下層金屬層上的聯(lián)結(jié)pad、、、6。上基板與下基板聯(lián)結(jié)用的沉金、。深圳市美信美科技有限公司于年月日成立。公司經(jīng)營范圍包括：一般經(jīng)營項目是：電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開發(fā)與銷售；國內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營推廣銷售AD（亞德諾）,LINEAR（凌特）以及TI、MAXIM、NXP等國際有名品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：汽車、通信、消費(fèi)電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。下基板的上層金屬層、下層金屬層通孔沉金、，用于中間填充層的，上基板中間層、下基板中間層。圖示出依據(jù)本申請一實施例的雙芯片集成電路封裝結(jié)構(gòu)，包括上基板、元件、元件及下基板，上基板上的上層金屬層、下層金屬層6以及下層金屬層6上的聯(lián)結(jié)pad、、、，下基板上的上層金屬層、下層金屬層以及上層金屬層上的pad、、、6，下層金屬層上的聯(lián)結(jié)pad、、、、、聯(lián)結(jié)pad。上基板與下基板聯(lián)結(jié)用的沉金、。下基板的上層金屬層、下層金屬層通孔沉金、6、、，用于中間填充層的，上基板中間層、下基板中間層。以上所述實施例用以說明本申請的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述實施例對本申請進(jìn)行了詳細(xì)的說明。深圳市美信美科技有限公司，你的穩(wěn)定集成電路供應(yīng)商。

    每個系統(tǒng)板具有在雙列直插式存儲模塊之間交錯的冷卻管。當(dāng)這些系統(tǒng)板相對地放置在一起時，每個系統(tǒng)板上的雙列直插式存儲模塊由在另一個系統(tǒng)板上的冷卻管冷卻。相比于之前的方法，這種方法允許更高密度的雙列直插式存儲模塊，同時仍然提供必要的冷卻。這種方法也是安靜的，并且由此可以靠近辦公室員工放置。這種方法也允許容易的維護(hù)，而沒有與液體浸入式冷卻系統(tǒng)相關(guān)的溢出。盡管參考雙列直插式存儲模塊描述了不同實施例，應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到的是，所公開的技術(shù)可以用于冷卻任何集成電路或類似的一個或多個系統(tǒng)和系統(tǒng)中的一個或多個元素/部件。圖1是系統(tǒng)100的關(guān)系圖，在該系統(tǒng)中可以實施不同實施例。系統(tǒng)100包括計算部件120，所述計算部件包括處理器104和存儲器106。存儲器106包括多個雙列直插式存儲模塊組件108。系統(tǒng)100還包括冷卻回路。所述冷卻回路包括泵110、熱交換器112和儲液器114。泵110將冷卻液體130提供給雙列直插式存儲模塊組件108。由雙列直插式存儲模塊組件108產(chǎn)生的熱量被傳送給液體，加熱液體并且冷卻雙列直插式存儲模塊組件108。泵110將被加熱的液體132從雙列直插式存儲模塊組件108移除。熱交換器112冷卻被加熱的液體132。儲液器114適應(yīng)液體體積的改變。深圳美信美提供靠譜的集成電路芯片。東莞圓形集成電路芯片

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    在各個實施例中，互連層a可以是互連線層、互連層、第三互連線層或更高金屬互連線層。的截面圖所示，在互連層a的上表面上方形成多個底電極通孔。多個底電極通孔由介電層圍繞。在一些實施例中，介電層可以沉積在互連層a上方，并且然后選擇性地被圖案化以限定底電極通孔開口。然后通過在底電極通孔開口內(nèi)的沉積工藝形成多個底電極通孔。在各個實施例中，介電層可以包括碳化硅、富硅氧化物、teos(正硅酸乙酯)等的一種或多種。在各個實施例中，多個底電極通孔可以包括導(dǎo)電材料，諸如鈦、氮化鈦、鉭等。在多個底電極通孔上方形成多個mtj器件、和。多個mtj器件、和分別包括mtj，mtj具有通過介電遂穿阻擋層與自由層分隔開的固定層。在一些實施例中，固定層可以形成為接觸底電極通孔。在其它實施例中，自由層可以形成為接觸底電極通孔。多個mtj器件、和中的一個包括被配置為存儲數(shù)據(jù)狀態(tài)的工作mtj器件。多個mtj器件、和中的一個或多個包括設(shè)置在調(diào)節(jié)訪問裝置內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件和，調(diào)節(jié)訪問裝置被配置為控制(即，調(diào)節(jié))提供給相關(guān)的工作mtj器件的電流。在一些實施例中，可以同時形成多個mtj器件、和。例如，在一些實施例中，可以通過在介電層和多個底電極通孔上方沉積磁固定膜。佛山數(shù)字集成電路IC