南京XRR檢測(cè)分析

基于的D8衍射儀系列平臺(tái)的D8ADVANCE，是所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用的理想之選，如：典型的X射線粉末衍射（XRD）對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析小角X射線散射（SAXS）和廣角X射線散射（WAXS）由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具、免準(zhǔn)直，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。在DIFFRAC.TEXTURE中，使用球諧函數(shù)和分量方法，生成極圖、取向分布函數(shù)（ODF）和體積定量分析。南京XRR檢測(cè)分析

超薄HfO2薄膜XRR測(cè)試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展，薄膜厚度越來(lái)越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測(cè)量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具、免準(zhǔn)直，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。杭州結(jié)構(gòu)精修檢測(cè)分析孔板和沉積樣品在反射和透射中的高通量篩選。

當(dāng)石墨(002)衍射峰峰形對(duì)稱性很差時(shí)，如圖2，樣品中可能含有多種不同石墨化度的組分存在(當(dāng)然，也可能是由于非晶碳或無(wú)定形碳的存在。需要對(duì)衍射峰進(jìn)行分峰處理，得到各個(gè)子峰的峰位和積分強(qiáng)度值，如圖2所示。分別計(jì)算各子峰的石墨化度，再利用各子峰的積分強(qiáng)度為權(quán)重，歸一化樣品的石墨化度。圖2石墨實(shí)驗(yàn)（藍(lán)色數(shù)據(jù)點(diǎn)）及分峰擬合圖譜（紅色：擬合圖譜，兩綠色為單峰擬合結(jié)果）石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn)，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。

材料研究樣品臺(tái)緊湊型UMC和緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)能夠精確地移動(dòng)樣品，因此擴(kuò)展了D8ADVANCEPlus的樣品處理能力。緊湊型UMC樣品臺(tái)可對(duì)2Kg的樣品進(jìn)行電動(dòng)移動(dòng)：X軸25mm、Y軸70mm和Z軸52mm，可用于分析大型塊狀樣品或多個(gè)小樣品；緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)的Phi旋轉(zhuǎn)角度不受限制，Psi傾斜度在-5°到95°之間，可用于應(yīng)力、織構(gòu)和外延薄膜分析。另外，它還具有真空多用途通孔，可通過(guò)小型薄膜樣品架或大型手動(dòng)X-Y樣品臺(tái)，將樣品固定在適當(dāng)位置。二者均可用于溫控樣品臺(tái)，進(jìn)行非環(huán)境分析。另外，它們還可借助DIFFRAC.DAVINCI樣品臺(tái)卡口安裝系統(tǒng)，輕松更換樣品臺(tái)。從過(guò)程開(kāi)發(fā)到質(zhì)量控制，D8 DISCOVER可以對(duì)亞毫米至300mm大小的樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征。

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測(cè)試，X射線的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度，導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡(jiǎn)單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無(wú)法利用整個(gè)樣品的體積，衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問(wèn)題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說(shuō)明：GID需要硬件配置；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。在DIFFRAC.LEPTOS中，進(jìn)行晶片分析：分析晶片的層厚度和外延層濃度的均勻性。江西BRUKERXRD衍射儀推薦咨詢

所有樣品臺(tái)都是DIFFRAC.DAVINCI概念的組成部分，因此元件及其電動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置可在安裝時(shí)自動(dòng)完成識(shí)別和配置。南京XRR檢測(cè)分析

蒙脫石散及雜質(zhì)的鑒定引言蒙脫石散常見(jiàn)的用于用于成人及兒童急、慢性腹瀉的藥物。蒙脫石散的主要成分為層狀結(jié)構(gòu)的粘土礦物蒙脫石。根據(jù)中國(guó)藥典，蒙脫石散的鑒別和雜質(zhì)含量的分析的主要手段為XRD。不論在何種應(yīng)用場(chǎng)合，它都是您的推薦探測(cè)器：高的計(jì)數(shù)率、動(dòng)態(tài)范圍和能量分辨率。布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976c）整個(gè)角度范圍內(nèi)的準(zhǔn)直保證。D8衍射儀系列平臺(tái)的D8ADVANCE，是所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用的理想之選，如：典型的X射線粉末衍射（XRD）對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析小角X射線散射（SAXS）和廣角X射線散射（WAXS）南京XRR檢測(cè)分析