南京XRD檢測(cè)分析

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-03-29

對(duì)于需要探索材料極限的工業(yè)金屬樣品,通常需要進(jìn)行殘余應(yīng)力和織構(gòu)測(cè)量。通過消除樣品表面的拉應(yīng)力或引起壓應(yīng)力,可延長(zhǎng)其功能壽命。這可通過熱處理或噴丸處理等物理工藝來完成。構(gòu)成塊狀樣品的微晶的取向,決定了裂紋的生長(zhǎng)方式。而通過在材料中形成特定的織構(gòu),可顯著增強(qiáng)其特性。這兩種技術(shù)在優(yōu)化制造法(例如增材制造)領(lǐng)域也占有一席之地。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。樣品臺(tái)的卡口座允許在測(cè)角儀上快速準(zhǔn)確地更換整個(gè)樣品臺(tái),較大限度地提高實(shí)驗(yàn)靈活性。南京XRD檢測(cè)分析

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殘余應(yīng)力分析::在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。使用了2D檢測(cè)器的μXRD:使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。定性相分析:候選材料鑒別(PMI)為常見,這是因?yàn)槠鋵?duì)原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無法通過元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn)。高通量篩選(HTS):在DIFFRAC.EVA中,進(jìn)行半定量分析,以現(xiàn)實(shí)孔板上不同相的濃度。非環(huán)境XRD:在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測(cè)量同步,然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結(jié)果。小角X射線散射(SAXS):在DIFFRAC.SAXS中,對(duì)EIGER2R500K通過2D模式手機(jī)的NISTSRM80119nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析。浙江檢測(cè)XRD衍射儀使用D8D,您將能在原位循環(huán)條件下測(cè)試電池材料,直截了當(dāng)?shù)孬@取不斷變化的儲(chǔ)能材料和晶體結(jié)構(gòu)和相位信息。

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D8ADVANCEPlus是D8ADVANCE的又一版本,是面向多用途、多用戶實(shí)驗(yàn)室的X射線平臺(tái)。它可理想地滿足您對(duì)所有樣品類型的需求,包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延):典型的X射線粉末衍射(XRD)對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析小角X射線散射(SAXS)和廣角X射線散射(WAXS)X射線反射率(XRR)和高分辨XRD(搖擺曲線,倒易空間掃描)環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下該系統(tǒng)的一大優(yōu)勢(shì)在于它能夠在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行切換:從用于粉末的Bragg-Brentano聚焦幾何到用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何以及兩者之間的切換。您只需按下按鈕,整個(gè)軟件盡在掌握。

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D8ADVANCEECO是市面上環(huán)保的X射線衍射儀,其應(yīng)用范圍、數(shù)據(jù)質(zhì)量、靈活性和可升級(jí)性毫不打折扣。D8ADVANCEECO是功能齊全的D8ADVANCE版本,適用于所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用。與D8ADVANCE完全兼容,它具有面向未來的所有靈活性。面對(duì)新應(yīng)用,您隨時(shí)都能對(duì)它輕松完成升級(jí),從而適應(yīng)未來實(shí)驗(yàn)室可能出現(xiàn)的任何X射線衍射和散射應(yīng)用需求:相鑒定定量相分析微觀結(jié)構(gòu)分析結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修殘余應(yīng)力織構(gòu)掠入射衍射(GID)X射線反射分析(XRR)小角X射線散射(SAXS)對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析總散射分析:Bragg衍射、對(duì)分布函數(shù)(PDF)、小角X射線散射(SAXS)。浙江原位分析XRD衍射儀檢測(cè)

憑借RapidRSM技術(shù),能在 短的時(shí)間內(nèi),測(cè)量大面積倒易空間。在DIFFRAC.LEPTOS中,進(jìn)行倒易點(diǎn)陣轉(zhuǎn)換和分析。南京XRD檢測(cè)分析

超薄HfO2薄膜XRR測(cè)試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展,薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的測(cè)量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。南京XRD檢測(cè)分析

標(biāo)簽: 顯微CT XRD衍射儀