湖北進(jìn)口XRD衍射儀

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-08-12

對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析是一種分析技術(shù),它基于Bragg以及漫散射(“總散射”),提供無序材料的結(jié)構(gòu)信息。其中,您可以通過Bragg衍射峰,了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息(即長程有序),通過漫散射,表征其局部結(jié)構(gòu)(即短程有序)。就分析速度、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對(duì)非晶、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言,D8ADVANCE和TOPAS軟件市面上性能好的PDF分析解決方案:相鑒定結(jié)構(gòu)測定和精修納米粒度和形狀。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶,都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同不,然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結(jié)果。湖北進(jìn)口XRD衍射儀

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汽車和航空航天:配備了UMC樣品臺(tái)的D8D的一大優(yōu)勢就是可以對(duì)大型機(jī)械零件進(jìn)行殘余應(yīng)力和結(jié)構(gòu)分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征。半導(dǎo)體與微電子:從過程開發(fā)到質(zhì)量控制,D8D可以對(duì)亞毫米至300mm大小的樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征。制藥業(yè)篩選:新結(jié)構(gòu)測定以及多晶篩選是藥物開發(fā)的關(guān)鍵步驟,對(duì)此,D8D具有高通量篩選功能。儲(chǔ)能/電池:使用D8D,您將能在原位循環(huán)條件下測試電池材料,直接了當(dāng)?shù)墨@取不斷變化的儲(chǔ)能材料的晶體結(jié)構(gòu)和相組方面的信息。微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀哪里好支持全新技術(shù)進(jìn)行定制,包括高性能X射線源、定制版光學(xué)器件、定制版樣品臺(tái)和多模式探測器。

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納米多層薄膜物相隨深度變化引言掠入射X射線衍射(GID)是表征薄膜材料的有效手段。通過控制不同的入射角度,進(jìn)而控制X射線在薄膜中的穿透深度,可以確定薄膜材料的結(jié)構(gòu)隨深度變化的信息。實(shí)例45nmNiO/355nmSnO2/玻璃薄膜的GID測試由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶,都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不只如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。所有樣品臺(tái)都是DIFFRAC.DAVINCI概念的組成部分,因此元件及其電動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置可在安裝時(shí)自動(dòng)完成識(shí)別和配置。

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獲得的TRIO光路簡化了D8ADVANCE的操作,使之適用于多種應(yīng)用和樣品類型。為便于用戶使用,該系統(tǒng)提供了自動(dòng)化電動(dòng)切換功能,可在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。系統(tǒng)無需人工干預(yù),即可在三個(gè)光路之間切換:用于粉末分析的Bragg-Brentano聚焦幾何用于毛細(xì)管、GID和XRR的平行光束Kα1,2幾何用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何它非常適合在環(huán)境條件或非環(huán)境條件下對(duì)所有樣品類型進(jìn)行分析,其中包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)。D8D和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進(jìn)行薄膜分析:掠入射衍射、X射線反射率測量。湖北進(jìn)口XRD衍射儀

在DIFFRAC.LEPTOS中,對(duì)多層樣品進(jìn)行XRR分析,測定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。湖北進(jìn)口XRD衍射儀

X射線反射率測定引言X射線反射率(XRR:X-RayReflectivity)是一種表面表征技術(shù),是利用X射線在不同物質(zhì)表面或界面的反射線之間的干涉現(xiàn)象分析薄膜或多層膜結(jié)構(gòu)的工具。通過分析XRR圖譜(圖1)可以確定各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結(jié)構(gòu)參數(shù)。XRR的特點(diǎn):1無損檢測2對(duì)樣品的結(jié)晶狀態(tài)沒有要求,不論是單晶膜、多晶膜還是非晶膜均可以進(jìn)行測試3XRR適用于納米薄膜,要求厚度小于500nm4晶面膜,表面粗糙度一般不超過5nm5多層膜之間要求有密度差湖北進(jìn)口XRD衍射儀

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標(biāo)簽: XRD衍射儀 顯微CT