上海x射線衍射檢測分析

當(dāng)石墨(002)衍射峰峰形對稱性很差時，如圖2，樣品中可能含有多種不同石墨化度的組分存在(當(dāng)然，也可能是由于非晶碳或無定形碳的存在。需要對衍射峰進行分峰處理，得到各個子峰的峰位和積分強度值，如圖2所示。分別計算各子峰的石墨化度，再利用各子峰的積分強度為權(quán)重，歸一化樣品的石墨化度。圖2石墨實驗（藍色數(shù)據(jù)點）及分峰擬合圖譜（紅色：擬合圖譜，兩綠色為單峰擬合結(jié)果）石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。D8 DISCOVER系列包括DISCOVER和DISCOVER Plus版本，可通過使用的是標(biāo)準(zhǔn)D8測角儀還是ATLAS測角儀進行區(qū)分。上海x射線衍射檢測分析

藥用滑石粉中石棉的測定引言滑石粉主要成分是滑石（含水的硅酸鎂）。滑石粉用于醫(yī)藥、食品行業(yè)的添加劑。在滑石成礦過程中，常伴生有其他礦石，如角閃石和蛇紋石等石棉成分。石棉為物質(zhì)。而根據(jù)中國藥典，藥用滑石粉中，石棉應(yīng)“不得檢出”。在2θ=10.5±0.1°處的XRD特征峰為角閃石特征峰，在2θ=12.1±0.1°和2θ=24.3±0.1°處的XRD特征峰為蛇紋石特征峰。無論是新手用戶還是**用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。南京透射檢測分析UMCy樣品臺在樣品重量和大小方面具有獨特的承載能力。

對分布函數(shù)分析對分布函數(shù)（PDF）分析是一種分析技術(shù)，它基于Bragg衍射以及漫散射（“總散射”），提供無序材料的結(jié)構(gòu)信息。其中，您可以通過Bragg衍射峰，了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息（即長程有序），通過漫散射，表征其局部結(jié)構(gòu)（即短程有序）。就分析速度、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對非晶、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言，D8ADVANCE和TOPAS軟件是目前市面上性能較好的PDF分析解決方案：相鑒定結(jié)構(gòu)測定和精修納米粒度和形狀。

D8ADVANCEPlus是D8ADVANCE的又一版本，是面向多用途、多用戶實驗室的X射線平臺。它可理想地滿足您對所有樣品類型的需求，包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）：典型的X射線粉末衍射（XRD）對分布函數(shù)（PDF）分析小角X射線散射（SAXS）和廣角X射線散射（WAXS）X射線反射率（XRR)和高分辨XRD（搖擺曲線，倒易空間掃描）環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下該系統(tǒng)的一大優(yōu)勢在于它能夠在多達6種不同的光束幾何之間進行切換：從用于粉末的Bragg-Brentano聚焦幾何到用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何以及兩者之間的切換。您只需按下按鈕，整個軟件盡在掌握。定性相分析和結(jié)構(gòu)測定 微米應(yīng)變和微晶尺寸分析 應(yīng)力和織構(gòu)分析 粒度和粒度分布測定 微米大小X射線束局部分析。

D8DISCOVER應(yīng)用范圍材料研究殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖、微區(qū)X射線衍射、廣角X射線散射（WAXS）XRD可研究材料的結(jié)構(gòu)和物理特性，是重要的材料研究工具之一。D8DISCOVER就是布魯克推出的、用于材料研究的旗艦款XRD儀器。D8DISCOVER配備了技術(shù)超過的組件，可為您帶來較好的性能和充分的靈活性，同時讓研究人員對材料進行細致入微的表征：定性相分析和結(jié)構(gòu)測定微米應(yīng)變和微晶尺寸分析應(yīng)力和織構(gòu)分析粒度和粒度分布測定使用微米大小的X射線束進行局部XRD分析倒易空間掃描在DIFFRAC.SAXS中，對EIGER2 R 500K通過2D模式手機的NIST SRM 8011 9nm金納米顆粒進行粒度分析。南京結(jié)構(gòu)解析檢測分析

UMC樣品臺通常用于分析大塊樣品、掃描測量應(yīng)用和涂層分析，也能測量多個小樣品或用于執(zhí)行非環(huán)境實驗。上海x射線衍射檢測分析

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試，X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米，這遠遠大于薄膜的厚度，導(dǎo)致薄膜的信號會受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無法利用整個樣品的體積，衍射信號弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明：GID需要硬件配置；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。上海x射線衍射檢測分析

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