深圳點陣參數(shù)精確測量XRD衍射儀售價

XRD檢測納米二氧化鈦晶粒尺寸引言納米材料的性能往往和其晶粒大小有關(guān)，而X射線衍射是測定納米材料晶尺寸的有效方法之一。晶粒尺寸Dhkl(可理解為一個完整小單晶的大小)可通過謝樂公示計算Dhkl：晶粒尺寸，垂直于晶面hkl方向β:hkl晶面的半高寬（或展寬）θ：hkl晶面的bragg角度λ：入射X光的波長，一般Cu靶為1.54埃K：常數(shù)（晶粒近似為球形，K=0.89；其他K=1）

ADVANCE采用了開放式設(shè)計并具有不受約束的模塊化特性的同時，將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設(shè)計 XRD可研究材料的結(jié)構(gòu)和物理特性，是 重要的材料研究工具之一。深圳點陣參數(shù)精確測量XRD衍射儀售價

X射線衍射（XRD）和反射率是對薄層結(jié)構(gòu)樣品進(jìn)行無損表征的重要方法。D8 DISCOVER和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進(jìn)行薄膜分析：

掠入射衍射（GID）：晶相表面靈敏識別及結(jié)構(gòu)性質(zhì)測定，包括微晶尺寸和應(yīng)變。

X射線反射率測量（XRR）：用于提取從簡單的基底到高度復(fù)雜的超晶格結(jié)構(gòu)等多層樣品的厚度、材料密度和界面結(jié)構(gòu)信息。

高分辨率X射線衍射（HRXRD）：用于分析外延生長結(jié)構(gòu)：層厚度、應(yīng)變、弛豫、鑲嵌、混合晶體的成分分析。

應(yīng)力和織構(gòu)（擇優(yōu)取向）分析。 珠海授權(quán)代理商XRD衍射儀價格D8測角儀巨有市場超前地精確度，為布魯克獨有的準(zhǔn)直保證奠定了基礎(chǔ)。

多層膜XRR引言X射線反射率（XRR：X-RayReflectivity）單層薄膜或多層膜中各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結(jié)構(gòu)參數(shù)的有效無損檢測手段。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。

薄膜和涂層薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒別、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析。在對薄膜和涂層進(jìn)行分析時，著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析，從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜等。D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射高分辨率X射線衍射倒易空間掃描，由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。在DIFFRAC.SAXS中，對EIGER2 R 500K通過2D模式手機(jī)的NIST SRM 8011 9nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析。

D8 DISCOVER特點：微焦源IμS

配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供小X射線束，非常適合小范圍或小樣品的研究。

1.毫米大小的光束：高亮度和很低背景

2.綠色環(huán)保設(shè)計：低功耗、無耗水、使用壽命延長

3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度

4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測器完全兼容。

5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線源，用于產(chǎn)生X射線。

6.工業(yè)級金屬陶瓷密封管，可實現(xiàn)線焦斑或點焦斑。

7.專業(yè)的TWIST-TUBE（旋轉(zhuǎn)光管）技術(shù)，可快速簡便地切換線焦斑和點焦斑。

8.微焦斑X射線源（IμS）可提高極小焦斑面積上的X射線通量，而功耗卻很低。

9.TURBOX射線源（TXS）旋轉(zhuǎn)陽極可為線焦斑、點焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線通量。

10.**性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù)，可提供無出其右的X射線光源亮度。

11.高效TurboX射線源（TXS-HE）可為點焦斑和線焦斑應(yīng)用提供比較高X射線通量，適用于D8DISCOVERPlus。

12.這些X射線源結(jié)合指定使用X射線光學(xué)元件，可高效捕獲X射線，并將之轉(zhuǎn)化為針對您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線束。 候選材料鑒別（PMI） 為常見，這是因為對其原子結(jié)構(gòu)十分靈敏，而這無法通過元素分析技術(shù)實現(xiàn)。浙江上海XRD衍射儀哪里好

總散射分析：Bragg衍射、對分布函數(shù)（PDF）、小角X射線散射（SAXS）。深圳點陣參數(shù)精確測量XRD衍射儀售價

二氧化鋯多晶型分析引言二氧化鋯化學(xué)性質(zhì)不活潑，且具有高熔點、高電阻率、高折射率和低熱膨脹系數(shù)等獨特的物理化學(xué)性質(zhì)，使它成為重要的耐高溫材料、陶瓷絕緣材料和陶瓷遮光劑。其結(jié)構(gòu)主要有三種晶型：單斜相、四方相以及立方相。不同晶體結(jié)構(gòu)對應(yīng)的物理化學(xué)性質(zhì)有較大區(qū)別，X射線衍射是區(qū)分二氧化鋯晶型的主要手段之一。同時利用先進(jìn)的Rietveld方法可對二氧化鋯多晶型樣品進(jìn)行快速定量分析。實例二氧化鋯多晶型定性分析左插圖：微量的二氧化鋯單斜相右插圖：二氧化鋯四方相和立方相區(qū)分明顯深圳點陣參數(shù)精確測量XRD衍射儀售價

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