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來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-07-06

超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展,薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的測量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶,都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。LYNXEYE XE-T主要用于0D、1D和2D數(shù)據(jù)采集,具有始終有效的出色能量鑒別能力,同時(shí)不會(huì)損失二級單色器信號。珠海購買XRD衍射儀檢測

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D8ADVANCEECO可提供高亮度1kW線焦點(diǎn)X射線源,其能耗極低,無需外設(shè)水冷,對實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)設(shè)施亦無特殊要求。您只需準(zhǔn)備家用壁式插座即可。因此,您將能簡單快捷地完成安裝和定位。D8ADVANCEECO將在分析性能不打折扣的前提下,將擁有成本和立式XRD儀器的生態(tài)足跡降至。插件分析:無需外設(shè)水冷:每年可節(jié)約高達(dá)1.700m3的自來水耗電減少50%左右需單相電源,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶,都可簡單快捷、不出錯(cuò)地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識別與驗(yàn)證的支持。布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。江蘇進(jìn)口XRD衍射儀維保服務(wù)在DIFFRAC.LEPTOS中,對多層樣品的薄膜厚度、界面粗糙度和密度進(jìn)行XRR分析。

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XRD檢測納米二氧化鈦晶粒尺寸引言納米材料的性能往往和其晶粒大小有關(guān),而X射線衍射是測定納米材料晶尺寸的有效方法之一。晶粒尺寸Dhkl(可理解為一個(gè)完整小單晶的大小)可通過謝樂公示計(jì)算Dhkl:晶粒尺寸,垂直于晶面hkl方向β:hkl晶面的半高寬(或展寬)θ:hkl晶面的bragg角度λ:入射X光的波長,一般Cu靶為1.54埃K:常數(shù)(晶粒近似為球形,K=0.89;其他K=1)

ADVANCE采用了開放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí),將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致,這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì)

粉煤灰中晶態(tài)礦相及非晶相定量分析引言粉煤灰,是從煤燃燒后的煙氣中收捕下來的細(xì)灰,粉煤灰是燃煤電廠排出的主要固體廢物。粉煤灰是我國當(dāng)前排量較大的工業(yè)廢渣之一。大量的粉煤灰不加處理,就會(huì)產(chǎn)生揚(yáng)塵,污染大氣;若排入水系會(huì)造成河流淤塞,而其中的有毒化學(xué)物質(zhì)還會(huì)對人體和生物造成危害。所以,粉煤灰的再利用一直都是關(guān)注的熱點(diǎn)。比如,已用于制水泥及制各種輕質(zhì)建材等。要合理高效的利用粉煤灰,則需要對其元素和礦相組成有詳細(xì)的了解。粉煤灰的礦相主要莫來石、石英以及大量的非晶態(tài)。利用XRD測定非晶態(tài)通常采用加入特定含量的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)以精確的計(jì)算非晶相物質(zhì)的含量。在實(shí)驗(yàn)室中這個(gè)方法是可行的,但在實(shí)際生產(chǎn)和快速檢測過程中,這個(gè)方法就現(xiàn)實(shí)。目前一種全新的PONKS(PartialOrNoKnowCrystalStructure)方法*,解決了這一難題,實(shí)現(xiàn)了粉煤灰樣品的無標(biāo)樣定量分析。更換光學(xué)期間時(shí),無需工具,亦無需對光,因此您可輕松快速地更改配置。

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可在數(shù)秒內(nèi),輕松從先焦點(diǎn)切換到點(diǎn)焦點(diǎn),從而擴(kuò)大應(yīng)用范圍,同事縮短重新匹配的時(shí)間。珠海購買XRD衍射儀檢測

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析。在對薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析(從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜)。D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描

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標(biāo)簽: XRD衍射儀 顯微CT