調(diào)整辦法是加適量N及P。聚乙二醇),如仍不行,可加入50~100ml雙氧.水?dāng)嚢?0分鐘試鍍,如果低電流區(qū)不亮,而高電流K亮度亦差,則可考慮N或M是否過(guò)少,調(diào)整辦法是加入適量M或N(亦可同時(shí)加入適量SP),如果高電流區(qū)長(zhǎng)毛刺,通常加入適當(dāng)SP即可消除。如果鈹層表面無(wú)論軔上還是朝下均有細(xì)麻砂,則M過(guò)多,可添加適量SP來(lái)消除,但若鍍層表面軔上有麻砂,則應(yīng)考慮是否有銅粉的緣故,可加入50ml雙氧水來(lái)消除。一般說(shuō)來(lái),光亮鍍銅液在每天下班時(shí)應(yīng)加入50ml雙氧水。除了光亮鍍銅易出現(xiàn)上述故障外,粗化也易出現(xiàn)故障,通常為家電產(chǎn)品外殼粗化后表面發(fā)黃或呈**狀。此時(shí)應(yīng)從以下三個(gè)方面來(lái)考慮:一、粗化溫度是否過(guò)高、時(shí)間過(guò)長(zhǎng);二、粗化液中**含量是否過(guò)量;三、粗化前使用的有機(jī)溶劑濃度、溫度是否過(guò)高,時(shí)間嫌長(zhǎng)。另外,返工的家電產(chǎn)品外殼若再次粗化時(shí),易粗化過(guò)度,造成鍍不亮,對(duì)此要適當(dāng)降低粗化溫度及縮短粗化時(shí)間,粗化前,一般不再授**?;瘜W(xué)鍍鋼時(shí),防止鍍液發(fā)渾(即產(chǎn)生大量銅粉),若溶液發(fā)渾,則該槽所的塑膠外殼必須全部返工,同時(shí)要立即過(guò)濾化學(xué)鍍锏溶液,化學(xué)鍍銅后的家電產(chǎn)品外殼,一般應(yīng)當(dāng)立即施鍍,但遇到特殊情況,需要長(zhǎng)時(shí)間放置。浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產(chǎn)品,有想法可以來(lái)我司咨詢!新疆電鍍作用
又如何能在量產(chǎn)中徹底免于短路?然而重賞之下必有勇夫,當(dāng)年的日商"古河電工"即開(kāi)發(fā)出一種十分奇特的Supersolder制程(詳見(jiàn)電路板咨訊雜志74期)。其做法是對(duì)著80個(gè)密墊的單邊,在鋼板(Stencil)上只開(kāi)出一道簡(jiǎn)單的鴻溝,再將上述"超級(jí)錫膏"不分銅墊或間距一律予以印滿。巧妙的是在隨后的高溫熔錫過(guò)程中,其熔錫層只長(zhǎng)在狹長(zhǎng)的銅墊上,間距中則全無(wú)錫層,甚至殘錫或錫珠錫渣也從不見(jiàn)蹤跡。于是在此精細(xì)預(yù)署焊料之秘密武器下,只要小心將P-I的320只引腳全數(shù)對(duì)準(zhǔn)踩定后,即可像操作熨斗一般利用熱把(HotBar)進(jìn)行壓焊、當(dāng)年高雄的華泰電子即曾大量組裝此種搭載CPU的小型精密卡板。好景不常,此種高難度TAB用之于CPU的做法,不到三年就遭到淘汰??陀^情勢(shì)逼得Intel不得不放棄自己一向主張的TAB,而改采Motorola的BGA進(jìn)行高價(jià)位高難度CPU之封裝。于是球腳組裝PentiumII的SECC卡乃于99年正式登臺(tái),導(dǎo)致超級(jí)錫膏的精采演出立即失色,昂貴的“火蜥蜴”生產(chǎn)線幾乎成了廢鐵。技術(shù)轉(zhuǎn)變所造成業(yè)者的投資損失,不但無(wú)奈也無(wú)法預(yù)知。然而,任誰(shuí)也沒(méi)想到幾年后的***,手機(jī)板上微小BGA球墊中的一階或二階盲孔,竟可以利用早已過(guò)時(shí)的“超級(jí)焊錫”事先予以熔焊填平。上海電鍍單價(jià)浙江共感電鍍有限公司 電鍍產(chǎn)品值得用戶放心。
與沉積速度有關(guān))、分散能力、深鍍能力、鍍層結(jié)晶狀態(tài)、鍍液穩(wěn)定性和可操作性(包括工藝條件的控制、對(duì)設(shè)備有無(wú)特別要求)、對(duì)環(huán)境的影響程度、經(jīng)濟(jì)效益(電鍍加工成本)等。鍍層性能指標(biāo)是電鍍工藝所保證的鍍層性能和質(zhì)量的指標(biāo),是直觀地評(píng)價(jià)電鍍工藝水平的重要指標(biāo)。比如鍍層的裝飾性能、光亮程度、抗腐蝕性能、鍍層脆性、鍍層孔隙率等。功能性鍍層則要加上功能性能指標(biāo),比如電導(dǎo)率、反射光系數(shù)、可焊性、耐磨性等。這兩類指標(biāo)都屬于水平較高的**工藝,有時(shí)鍍液性能指標(biāo)好的工藝,不一定有好的鍍層指標(biāo);而有些鍍層指標(biāo)好的工藝,鍍液指標(biāo)卻并不好。人們通常以鍍層指標(biāo)為主來(lái)判斷和選擇電鍍工藝,也就是說(shuō)為了獲得好的鍍層有時(shí)不得不采用鍍液性能差的鍍種,比如裝飾鍍鉻就是典型的例子。許多**物電鍍也是鍍層性能好但對(duì)環(huán)境影響大的鍍種。電鍍工藝電鍍工藝參數(shù)的管理編輯由于工藝管理直接影響到生產(chǎn)的效率和產(chǎn)品的成本。因此,對(duì)工藝參數(shù)的管理要講合理性,管得不好,會(huì)經(jīng)常停產(chǎn)調(diào)整鍍液,這是很大的浪費(fèi)。但是,管得過(guò)頭,會(huì)增加管理成本,增加資源的額外消耗,也是要不得的。通過(guò)電鍍工藝參數(shù)的構(gòu)成可以將這些參數(shù)分為兩大類,一類是建立生產(chǎn)線過(guò)程中。
電鍍?cè)O(shè)備工藝要求編輯1.鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應(yīng)有良好的結(jié)合力。2.鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。3.鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。4.鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo),如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。5.電鍍時(shí)間及電鍍過(guò)程的溫度,決定鍍層厚度的大小。6.環(huán)境溫度為-10℃~60℃。7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。8.水處理設(shè)備**大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。9.相對(duì)濕度(RH)應(yīng)不大于95%。10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。電鍍?cè)O(shè)備電鍍技術(shù)編輯電鍍技術(shù)又稱為電沉積,是在材料表面獲得金屬鍍層的主要方法之一。是在直流電場(chǎng)的作用下,在電解質(zhì)溶液(鍍液)中由陽(yáng)極和陰極構(gòu)成回路,使溶液中的金屬離子沉積到陰極鍍件表面上的過(guò)程;電流效率:用于沉積金屬的電量占總電量的比稱為電鍍的電流效率。分散能力:鍍液的分散能力是指一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表面上分布均勻的能力。合金電鍍:兩種或兩種以上金屬離子在陰極上共沉積形成均勻細(xì)致鍍層的過(guò)程叫做合金電鍍(一般而言其**小組分應(yīng)大于1%)。整平能力:整平能力(即微觀分散能力)是指在金屬表面上形成鍍層時(shí),鍍液所具有的能使鍍層的微觀輪廓比基體表面更平滑的能力。浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產(chǎn)品,有想法的可以來(lái)電咨詢!
微盲孔之孔徑在3mi以下之淺小而多用于封裝載板者,實(shí)填的問(wèn)題還不算嚴(yán)重,某幾種商業(yè)鍍銅制程也還頗能讓人滿意。然而增二式手機(jī)板其BGA球腳墊內(nèi)的二階盲孔,不但口徑大到6-8mil之間,且其漏斗形深度也接近3mil。加以**新亮相超難密距(-Pitch)的拉近與擠壓墊面空間,使得墊徑又被緊迫縮小到只剩下12-14mil左右,逼得盲孔表面的環(huán)寬竟只剩下3mil而已。如此局限又險(xiǎn)惡地形之錫膏承焊,安得不令八頻捏大把冷汗?是故填孔鍍銅幾乎已經(jīng)成為勢(shì)在必行的工藝了。電鍍銅預(yù)布焊料之填孔***一點(diǎn)的讀者也許還記得,七年前Pentium(586)的時(shí)代,其CPU是采“卷帶自動(dòng)結(jié)合(TAB)的封裝方式。此大型晶片封裝完工之多腳組件,下游還要進(jìn)行板面的貼焊組裝。該QFP四邊外伸貼焊之I/O共得320腳,單邊80只平行伸腳彼此之密集櫛比,逼得承接的長(zhǎng)方焊墊也隨之并肩鱗次,密密麻麻,方寸之間逼得相鄰腳墊之跨距(Pitch)擁擠到不足10mil!墊寬(Width)*5mil,墊距(SPacing)更在5mil以下的艱困境界。如此之密距多墊及狹面之高難度錫膏印刷,有誰(shuí)能夠保證不出差錯(cuò)?即使錫膏印刷得以過(guò)關(guān),其后續(xù)的放置(Placement)踩腳與高溫熔焊(Reflow)之二種更難工序。浙江共感電鍍有限公司為您提供 電鍍產(chǎn)品,有需要可以聯(lián)系我司哦!重慶工廠電鍍
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或者說(shuō)成反應(yīng)式向右的正反應(yīng)愈容易發(fā)生。高于氫電位之排名者(列表的下位)則標(biāo)以正號(hào),正值愈大者表示活性度愈低;或者說(shuō)成安定性或耐蝕性愈好,在自然界中當(dāng)然也就愈不容易氧化?;蛘哒f(shuō)成:負(fù)值表示可以自然發(fā)生,正值則需外力協(xié)助下才能發(fā)生。若將上述各種金屬的電極電位彼此相互比較時(shí),則可看出密切接觸金屬間賈凡尼效應(yīng)的精髓。上述電動(dòng)次序雖說(shuō)都是未遭外力干涉的“可逆反應(yīng)”的領(lǐng)域,但在稀酸液中其左右反應(yīng)進(jìn)行(也就可與逆之間)的機(jī)率并非全然相同,例如鋅與銅即應(yīng)寫成:Zn---->Zn++......①(表示能夠自然發(fā)生“可反應(yīng)”的電極電位)Cu<----Cu+++......②(表示能夠自然發(fā)生“可逆應(yīng)”的電極電位)因而若將鋅金屬置于銅鹽溶液中,亦即②式的逆反應(yīng),與①行的正反應(yīng)合而為一時(shí),后其凈電位為[-()]或一,其③式反應(yīng)功率將極大:Cu+++Zn--->CuO+Zn++......③反之若將銅金屬置于鋅鹽溶液(40%)中,則其凈電位應(yīng)為:[(+(+)]或十,故下述④式向右的反應(yīng)其成功機(jī)率將極小,必須外加電壓超過(guò)+:Cu+Zn++--->Cu+++Zn+......④電鍍銅不可逆反應(yīng)若將兩支銅棒分別放在稀**中(40%)中,假設(shè)又分別接通外加直流2V的電源,而強(qiáng)制使之組成陰極與陽(yáng)極。新疆電鍍作用