此種半復(fù)古之扁深槽液與自走掛鍍之效果如何?尚需長(zhǎng)期大量生產(chǎn)的現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn),才能得出**后的評(píng)斷與肯定。電鍍銅各種基本成分的功用**銅---須采用化學(xué)純度級(jí)(CPGrade)以上者,含五個(gè)結(jié)晶水(CuSo4·5H2O)的藍(lán)色細(xì)粒狀結(jié)晶與純水進(jìn)行配槽,所得二價(jià)藍(lán)色的銅離子(或銅游子)即為直接供應(yīng)鍍層的原料。當(dāng)銅離子濃度較高時(shí),將可使用較大的電流密度而在鍍速上加怏頗多。**一提供槽液之導(dǎo)電用途,并在同離子效應(yīng)下防止銅離子高濃度時(shí)所造成銅鹽結(jié)晶之缺失。一般而言,當(dāng)"酸銅比"較低時(shí),會(huì)使得鍍液的微分布力(MicrothrowingPower)良好,對(duì)待鍍面上的刮痕與凹陷等缺失,具有優(yōu)**入快速填平的特殊效果,是目前各種金屬電鍍制程中成績(jī)之**佳者。當(dāng)酸銅比提高到10/1或以上時(shí),則有助于PCB的孔銅增厚。尤其是高縱橫比(4/1以上)的深孔,幾乎已成非此莫辦的必須手段。相對(duì)的此種做法對(duì)于表面缺陷的填平方面,其它效果則又不如前者。氯離子---常見(jiàn)酸性鍍銅酸性鍍鎳皆須加入氯離子,原始目的是為了在電流密度增高中,協(xié)**極保持其可溶解的活性。也就是說(shuō)當(dāng)陽(yáng)極反應(yīng)進(jìn)行過(guò)激,而發(fā)生過(guò)多氧氣或氧化態(tài)太強(qiáng)不,此時(shí)氯離子將可以其強(qiáng)烈的負(fù)電性與還原性,協(xié)**極溶解減少其不良效應(yīng)的發(fā)生。電鍍產(chǎn)品,就選浙江共感電鍍有限公司,讓您滿(mǎn)意,歡迎您的來(lái)電哦!西藏電鍍型號(hào)
1)主鹽體系每一鍍種都會(huì)發(fā)展出多種主鹽體系及與之相配套的添加劑體系.如鍍鋅有**鍍鋅,鋅酸鹽鍍鋅。氯化物鍍鋅(或稱(chēng)為鉀鹽鍍鋅),氨鹽鍍鋅,**鹽鍍鋅等體系。每一體系都有自己的優(yōu)缺點(diǎn),如**鍍鋅液分散能力和深度能力好,鍍層結(jié)晶細(xì)致,與基體結(jié)合力好,耐蝕性好,工藝范圍寬,鍍液穩(wěn)定易操作對(duì)雜質(zhì)不太敏感等***.但是劇毒,嚴(yán)重污染環(huán)境.氯化物鍍鋅液是不含絡(luò)合劑的單鹽鍍液,廢水極易處理;鍍層的光亮性和整平性?xún)?yōu)于其它體系;電流效率高,沉積速度快;氫過(guò)電位低的鋼材如高碳鋼,鑄件,鍛件等容易施鍍.但是由于氯離子的弱酸性對(duì)設(shè)備有一定的腐蝕性,一方面會(huì)對(duì)設(shè)備造成一定的腐蝕,另一方面此類(lèi)鍍液不適應(yīng)需加輔**極的深孔或管狀零件。(2)添加劑添加劑包括光澤劑,穩(wěn)定劑,柔軟劑,潤(rùn)濕劑,低區(qū)走位劑等.光澤劑又分為主光澤劑,載體光亮劑和輔助光澤劑等.對(duì)于同一主鹽體系,使用不同廠商制作的添加劑,所得鍍層在質(zhì)量上有很大差別.總體而言歐美和日本等發(fā)達(dá)**的添加劑**好,**中國(guó)臺(tái)灣次之,大陸產(chǎn)的相對(duì)而言比前兩類(lèi)都遜色。河南電鍍鍍銀浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產(chǎn)品,有想法的可以來(lái)電咨詢(xún)!
不但對(duì)高縱橫比小徑深孔的量產(chǎn)如虎添翼,更對(duì)2001年興起的HDI雷射微盲孔(Microvia)也極有助益。不過(guò)也由于非溶陽(yáng)極已不再出現(xiàn)溶銅之主反應(yīng),而將所有能量集中于“產(chǎn)生氧氣”之不良副反應(yīng),久之難免會(huì)對(duì)添加劑與Ir/Ti式DSA(商標(biāo)名稱(chēng)為"尺寸安定式陽(yáng)極")昂貴的非溶陽(yáng)極造成傷害,甚至還影響到鍍銅層的物理性質(zhì)。至于2002年新冒出二階深微肓孔所需的填孔鍍銅,已使得水平鍍銅出現(xiàn)了力猶未逮的窘境。對(duì)于此種困難,勢(shì)必又將是另一番新的挑戰(zhàn)。電鍍銅垂直自走的掛鍍銅1999初日本上村公司曾推出一種U-CON制程,即屬精密擾流噴流之槽液,與**兩側(cè)銅陽(yáng)極的垂直自走掛鍍;但由于成本及售價(jià)都極為昂貴,于是**銅陽(yáng)極的自正式掛鍍又開(kāi)始受到重視。電鍍銅其它相關(guān)編輯電鍍銅**新挑戰(zhàn)的背景BGA球腳之承焊銅墊內(nèi)設(shè)微盲孔(MicroVi**nPad),不但可節(jié)省板面用地,而且一改舊有啞鈐式(DogBoning)層間通孔較長(zhǎng)的間接互連(Interconnection),而成為直上直下較短的盲孔互連;既可減短線長(zhǎng)與孔長(zhǎng)而得以壓制高頻中的寄生噪訊外(Parasitics),又能避免了內(nèi)層Gnd/Vcc大銅面遭到通孔的刺破,而使得歸途(ReturnPath)之回軌免于受損。對(duì)于高頻訊號(hào)完整性(SignalIntegrity)總體方面的效益將會(huì)更好。
或者說(shuō)成反應(yīng)式向右的正反應(yīng)愈容易發(fā)生。高于氫電位之排名者(列表的下位)則標(biāo)以正號(hào),正值愈大者表示活性度愈低;或者說(shuō)成安定性或耐蝕性愈好,在自然界中當(dāng)然也就愈不容易氧化?;蛘哒f(shuō)成:負(fù)值表示可以自然發(fā)生,正值則需外力協(xié)助下才能發(fā)生。若將上述各種金屬的電極電位彼此相互比較時(shí),則可看出密切接觸金屬間賈凡尼效應(yīng)的精髓。上述電動(dòng)次序雖說(shuō)都是未遭外力干涉的“可逆反應(yīng)”的領(lǐng)域,但在稀酸液中其左右反應(yīng)進(jìn)行(也就可與逆之間)的機(jī)率并非全然相同,例如鋅與銅即應(yīng)寫(xiě)成:Zn---->Zn++......①(表示能夠自然發(fā)生“可反應(yīng)”的電極電位)Cu<----Cu+++......②(表示能夠自然發(fā)生“可逆應(yīng)”的電極電位)因而若將鋅金屬置于銅鹽溶液中,亦即②式的逆反應(yīng),與①行的正反應(yīng)合而為一時(shí),后其凈電位為[-()]或一,其③式反應(yīng)功率將極大:Cu+++Zn--->CuO+Zn++......③反之若將銅金屬置于鋅鹽溶液(40%)中,則其凈電位應(yīng)為:[(+(+)]或十,故下述④式向右的反應(yīng)其成功機(jī)率將極小,必須外加電壓超過(guò)+:Cu+Zn++--->Cu+++Zn+......④電鍍銅不可逆反應(yīng)若將兩支銅棒分別放在稀**中(40%)中,假設(shè)又分別接通外加直流2V的電源,而強(qiáng)制使之組成陰極與陽(yáng)極。浙江共感電鍍有限公司為您提供 電鍍產(chǎn)品,期待您的光臨!
**近許多對(duì)PCB鍍銅的研究,發(fā)現(xiàn)氯離子還可協(xié)助有機(jī)助劑(尤其是載運(yùn)劑)發(fā)揮其各種功能。且氯離子濃度對(duì)于鍍銅層的展性(Ductility)與抗拉強(qiáng)度(TensileStrength)也有明顯的影響力。電鍍銅槽液的管理槽液中的主成分每周可執(zhí)行2-3次之化學(xué)分析,并采取必要的添補(bǔ)作業(yè)以維持Cu++、SO4-、與CL-應(yīng)有的管制范圍。至于有機(jī)添加劑的分析,早先一向以經(jīng)驗(yàn)導(dǎo)向的HullCell試鍍片,作為管理與追查的工具。此種不夠科學(xué)的做法,80年代時(shí)即已逐漸被CVS法(CyclicVoltametricStripping循環(huán)電壓剝鍍分析法)所取代。現(xiàn)役之CVS自動(dòng)分析儀器中,不但硬件十分精密,且更具備了由多項(xiàng)試驗(yàn)項(xiàng)模擬的結(jié)果而變得更為科學(xué),此等預(yù)先設(shè)置的精確軟件程序,對(duì)于上述三種有機(jī)助劑與氯離子,均可進(jìn)行精確的分析與紀(jì)錄,使得酸性鍍銅的管理也將更上軌道。電化學(xué)的基礎(chǔ)理論頗多,但用之于實(shí)際鍍銅現(xiàn)場(chǎng)時(shí),則似乎又關(guān)系不夠而有使不上力的感覺(jué)。一些常見(jiàn)的電化學(xué)書(shū)籍,多半只涉及實(shí)驗(yàn)室的理論與說(shuō)明,極少對(duì)實(shí)際電鍍所發(fā)生的現(xiàn)象加以闡述。以下即為筆者根據(jù)多年閱讀與實(shí)務(wù)所得之少許心得,*就某些電鍍行為斗膽加以詮釋?zhuān)恢苤幧信胃呙髦刚?。電鍍銅可逆反應(yīng)。浙江共感電鍍有限公司致力于提供電鍍產(chǎn)品,期待您的光臨!浙江電鍍工藝
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本發(fā)明涉及電鍍領(lǐng)域,更具體的說(shuō)是一種電鍍系統(tǒng)及電鍍方法。背景技術(shù):申請(qǐng)?zhí)枮閏n,該實(shí)用新型提供了一種電鍍裝置和電鍍?cè)O(shè)備,與電鍍池配合以對(duì)電路板進(jìn)行電鍍,電鍍裝置包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、驅(qū)動(dòng)連接于驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)且由導(dǎo)電材料制成的安裝件、多個(gè)固定安裝于安裝件上以裝夾電路板的夾具,夾具由導(dǎo)電材料制成,每一夾具均與安裝件電連接,安裝件懸至于電鍍池的上方,夾具和裝夾于夾具上的電路板均固定于安裝件,驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)安裝件,以通過(guò)安裝件帶動(dòng)夾具和電路板一并運(yùn)動(dòng),且使電路板運(yùn)動(dòng)至電鍍池內(nèi)。該實(shí)用新型的電鍍裝置可以避免電路板的電鍍時(shí)間不一致,各電路板的電壓、電流和電鍍時(shí)間均一致,進(jìn)而提高各電路板電鍍效果的一致性,進(jìn)而保證同一批次的電路板電鍍處理后的銅厚一致。但是該**無(wú)法使零件在電鍍液中移動(dòng)進(jìn)行電鍍。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明提供一種電鍍系統(tǒng),其有益效果為本發(fā)明可以使零件在電鍍液中移動(dòng)進(jìn)行電鍍,提高了電鍍效果。本發(fā)明涉及電鍍領(lǐng)域,更具體的說(shuō)是一種電鍍系統(tǒng),包括陰極柱、零件托板、側(cè)擋板、三角塊、t形架、固定套、緊固螺釘、陽(yáng)極柱和電鍍液盒,本發(fā)明可以使零件在電鍍液中移動(dòng)進(jìn)行電鍍,提高了電鍍效果。所述零件托板的左側(cè)固定連接有側(cè)擋板。西藏電鍍型號(hào)
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