半導體芯片作為現(xiàn)代電子設(shè)備的組成部分,其質(zhì)量和可靠性對整個電子行業(yè)至關(guān)重要。Die Bonding是將芯片裝配到基板或者框架上去,基板或框架表面是否存在有機物污染和氧化膜,芯片背面硅晶體的浸潤性等均會對粘接效果產(chǎn)生影響,傳統(tǒng)的清洗方法已經(jīng)無法滿足對芯片質(zhì)量的要求。使用微波plasma等離子清洗機處理芯片表面能有效地清潔并改善表面的浸潤性,從而提升芯片粘接的效果。微波是指頻率在300MHz-300GHz之間的電磁波,波長約1mm-1m,具有機動性高、工作頻寬大的特性,使用微波發(fā)生器配1.25KW電源產(chǎn)生微波將微波能量饋入等離子腔室內(nèi),使微波能量在低壓環(huán)境下形成等離子體。使用大腔體真空等離子可高效、均勻進行表面活化處理,提高潤濕性,從而提高粘接強度。江西晶圓等離子清洗機品牌
等離子清洗機在半導體封裝中的應(yīng)用具有明顯的優(yōu)勢。首先,等離子清洗能夠提供高度均勻的清潔效果,確保芯片表面的每一處都能得到充分的處理。這對于提高封裝的可靠性和性能至關(guān)重要。其次,等離子清洗機具有高度的可控性和可重復性。通過精確控制等離子體的參數(shù),如氣體種類、流量、壓力和射頻功率等,可以實現(xiàn)對清洗過程的精確控制,從而確保每次清洗都能獲得一致的結(jié)果。此外,等離子清洗機還能夠在不損傷芯片表面的情況下有效去除污染物。相較于機械清洗或化學清洗,等離子清洗能夠避免對芯片表面造成劃痕或引入新的污染物,從而保護芯片的完整性和性能。等離子清洗機還具有高效率和低成本的優(yōu)點。它能夠在短時間內(nèi)完成大面積的清洗任務(wù),提高生產(chǎn)效率;同時,由于不需要使用化學試劑,因此也降低了生產(chǎn)成本。遼寧plasma等離子清洗機性能等離子清洗設(shè)備采用等離子技術(shù),提供多種材料的表面處理解決方案。
汽車內(nèi)外飾件普遍呈彎曲、凹凸等非平面造型,在噴漆、粘接、涂覆工藝前,可使用等離子設(shè)備對汽車內(nèi)飾件、儀表板、儲物盒、天窗導軌、車燈等內(nèi)外飾件進行表面活化,確保后續(xù)工藝質(zhì)量。等離子表面處理具有處理效果均勻。無明火室溫處理,材料不易燙壞變形、環(huán)保無污染和適用范圍廣等優(yōu)點,在汽車產(chǎn)業(yè)中也起著不可或缺的作用。①塑料內(nèi)飾件粘接前經(jīng)等離子處理可實現(xiàn)表面活化,改善表面潤濕性,確保粘接質(zhì)量。②大尺寸彎曲、凹凸非平面的內(nèi)飾件可使用真空等離子清洗機高效、均勻地進行表面活化處理,不同規(guī)格的內(nèi)飾件可定制相應(yīng)尺寸的腔體。
等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。等離子清洗機的主要作用機理是通過產(chǎn)生等離子體來處理樣品表面,使得表面變得更加清潔、活化或蝕刻。等離子體是一種由離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等組成的特殊狀態(tài),它具有極高的化學活性,可以有效地與樣品表面發(fā)生反應(yīng),從而清潔表面或改變表面的性質(zhì)。plasma等離子清洗機活化可確保對塑料、金屬、紡織品、玻璃、再生材料和復合材料進行特別有效的表面改性。
在材料科學領(lǐng)域,聚丙烯(PP)是一種普遍使用的工程塑料,提升其性能一直是研究的重點。由于PP具有優(yōu)異的物理和機械特性以及良好的加工性能,因此在包裝、汽車、家電等多個行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用。然而,PP的表面能較低,使其在粘附、潤濕和涂覆性能方面表現(xiàn)不佳,限制了其應(yīng)用領(lǐng)域。為了解決這一問題研究人員采用了等離子清洗機明顯提升了PP材料的活性。等離子清洗機增強PP材料聚丙烯材料的活性特性主要通過以下幾個關(guān)鍵途徑:改變表面結(jié)構(gòu):等離子體中的高能粒子轟擊PP材料表面,使其表面微觀結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,增加表面粗糙度和比表面積,有利于后續(xù)的加工處理中與其他物質(zhì)更好地結(jié)合,例如在粘接工藝中,粗糙表面能提供更多的機械嵌合位點,增強粘接強度。例如,表面粗糙度可能從原來的微觀平滑狀態(tài)提升數(shù)倍甚至更高,具體數(shù)值因處理條件而異。等離子體表面處理機也叫等離子清洗機、等離子表面處理機、plasma清洗機。河南微波等離子清洗機
等離子設(shè)備清洗機的作用就是對表面處理,為客戶解決表面處理難題。江西晶圓等離子清洗機品牌
光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位,其成本約占IC制造工藝的20-30%,光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率,去膠效果太強容易造成基底損傷,影響整個產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠,成本低效率高,但隨著技術(shù)不斷選代更新,越來越多IC制造商開始采用干法式去膠,干法式去膠工藝不同于傳統(tǒng)的濕法式去膠工藝,它不需要浸泡化學溶劑,也不用烘干,去膠過程更容易控制,避免過多算上基底,提高產(chǎn)品成品率。干法式去膠又被稱為等離子去膠,其原理同等離子清洗類似,主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來去除光刻膠,由于光刻膠的基本成分是碳氫有機物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。等離子物理去膠過程:主要是物理作用對清洗物件進行轟擊達到去膠的目的,主要的氣體為氧氣、氬氣等,通過射頻產(chǎn)生氧離子,轟擊清洗物件,以獲得表面光滑的較大化,并且結(jié)果是親水性增大。江西晶圓等離子清洗機品牌