低真空閘閥Global Foundries

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-09-17

微泰,超高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè),包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。低真空閘閥Global Foundries

閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,這里介紹一下閥門控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,開放/關(guān)閉速度LCD顯示;2,當(dāng)閥門或泵錯(cuò)誤時(shí),燈點(diǎn)亮:3,自動(dòng)關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流;4,有閥門開關(guān)位置的信號(hào)輸出信號(hào);5,鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進(jìn)行快速操作;6,無噪音,功耗低;7,歷史管理-打開/關(guān)閉/泵關(guān)閉等;8,UPS功能(1秒),微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),可替代HVA閘閥、VAT閘閥。全真空閘閥角控制閥控制系統(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。

低真空閘閥Global Foundries,閘閥

微泰,控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材質(zhì):不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 帶步進(jìn)電機(jī)的集成壓力控制器? 應(yīng)用:需要壓力控制和隔離的地方??刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:閥體(STS304)/機(jī)構(gòu)STS304、STS420、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器:步進(jìn)電機(jī)、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護(hù)前可用次數(shù):100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。

半導(dǎo)體真空插板閥是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的真空系統(tǒng)的閥門,主要作用是控制氣體的流動(dòng),以維持真空環(huán)境的穩(wěn)定。微泰半導(dǎo)體真空腔體用閘閥(插板閥)其特點(diǎn)包括:1. 高密封性:采用特殊的密封結(jié)構(gòu),能夠有效地防止氣體泄漏,保證真空系統(tǒng)的密封性。2. 耐腐蝕性:材料具有良好的耐腐蝕性,能夠在半導(dǎo)體制造過程中的化學(xué)物質(zhì)環(huán)境中穩(wěn)定工作。3. 高精度:能夠精確地控制氣體的流量,滿足半導(dǎo)體制造工藝對(duì)精度的要求。4. 快速響應(yīng):可以快速地開啟和關(guān)閉,以適應(yīng)半導(dǎo)體制造過程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高:設(shè)計(jì)和制造過程嚴(yán)格,保證了其在長期使用中的可靠性和穩(wěn)定性。有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁=饘俨牧细邏洪l閥主要有:碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。

低真空閘閥Global Foundries,閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,氣動(dòng)多位置閘閥,氣動(dòng)多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position 其特點(diǎn)是1,全開和關(guān)閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動(dòng)電磁閥進(jìn)行控制;2,所有位置控制都由控制器進(jìn)行操作。1)控制類型-全開:高速閘門全開操作-全閉:高速閘門全閉操作-位置(POS.)控制:將閘門移動(dòng)到設(shè)定的位置值;2)操作時(shí)間-完全打開?完全關(guān)閉:<2秒(取決于速度控制器設(shè)置)-位置(POS。)控制: 0%?100%工作,<MAX18秒(偏差: < ±0.5%)。微泰氣動(dòng)多位置閘閥,氣動(dòng)多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position,有中國臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。低真空閘閥UMC

控制系統(tǒng)閘閥。控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。低真空閘閥Global Foundries

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn),首先介紹一下起三重保護(hù)的保護(hù)環(huán)機(jī)能,采用鋁質(zhì)材料減少重量,并提高保護(hù)環(huán)的內(nèi)部粗糙度,防止工程副產(chǎn)物堆積黏附。提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì),保護(hù)環(huán)逐步收窄,提升流速,防止粉塵黏附。采用三元系O型圈,保證保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定(保證30萬次驅(qū)動(dòng))。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。低真空閘閥Global Foundries