HERCULES NIL納米壓印芯片堆疊應用

IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結構分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章

EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制（制造）的***選擇。HERCULES NIL納米壓印芯片堆疊應用

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個**控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

三個**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準：≤±0.5微米

自動分離：支持的

前處理：涂層：水坑點膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

3D IC納米壓印芯片堆疊應用EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。

       EVG公司技術開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術和工藝以應對*復雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?！?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出。

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。

注：*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。 EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本的技術，大批量替代光刻技術。EVG520 HE納米壓印美元價格

IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。HERCULES NIL納米壓印芯片堆疊應用

儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因為我國的經(jīng)濟高速穩(wěn)定發(fā)展的運行;按照過去的經(jīng)驗，如果GDP的增長在10%以上時，儀表行業(yè)的增長率則在26%～30%之間。二是因為我國宏觀調(diào)控對儀表行業(yè)的影響有一個滯后期，儀表往往在工程的后期才交付使用，因此，因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對儀表行業(yè)的影響不會太大。進一步提升我國儀器儀表技術和水平，其他有限責任公司企業(yè)要順應產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流，在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時，進一步發(fā)展智能儀器儀表，提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化、智能化、集成化水平。半導體工藝設備，半導體測量設備，光刻機 鍵合機，膜厚測量儀產(chǎn)業(yè)是國民經(jīng)濟的基礎性、戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，是信息化和工業(yè)化深度融合的源頭，對促進工業(yè)轉(zhuǎn)型升級、發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)、推動現(xiàn)代**建設、保證和提高大家生活水平具有重要作用。隨著中國的不斷進步，世界上只有一個救世主——市場，能救企業(yè)的只有你自己——自強，提高貿(mào)易型重點競爭力才是中國制造業(yè)的獨一出路。以顯微科學儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例，以親身的實踐為例，毛磊認為，隨著經(jīng)濟的不斷發(fā)展，我國的環(huán)境和實力都發(fā)生了巨大變化，有了完全不同的基礎，這為國產(chǎn)科學儀器走向**增強了信心。HERCULES NIL納米壓印芯片堆疊應用