半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

來源: 發(fā)布時間:2021-10-29

    首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板,經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來自網(wǎng)絡(luò)。步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品,納米壓印

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


湖北納米壓印一級代理EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。

半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品,納米壓印

    具體說來就是,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時會泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域,并導(dǎo)致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手(包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等),開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。(來自網(wǎng)絡(luò)。

EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補(bǔ)償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

標(biāo)準(zhǔn)光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn):軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。

半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品,納米壓印

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用:高度靈活的熱壓印系統(tǒng),用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)

外部浮雕和冷卻站 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印推薦產(chǎn)品

客戶示范

■工藝開發(fā)

■材料測試

■與合作伙伴共同研發(fā)

■資助項(xiàng)目

■小批量試生產(chǎn)

■IP管理

■過程技術(shù)許可證

■流程培訓(xùn)

→世界前列的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施

→**的設(shè)備

→技術(shù)**

→**計(jì)量

→工藝知識

→應(yīng)用知識

→與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專業(yè)知識


新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。


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