半導體設備光刻機價格怎么樣

EVG120特征：晶圓尺寸可達200毫米超緊湊設計，占用空間蕞小蕞多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板用于旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會化學柜，用于化學品的外部存儲EV集團專有的OmniSpray®超聲波霧化技術提供了沒人可比的處理結果，當涉及到極端地形的保形涂層CoverSpinTM旋轉蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性Megasonic技術用于清潔，聲波化學處理和顯影，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證的軟件，可以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復性。半導體設備光刻機價格怎么樣

對EVGWLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對用于移動消費電子產(chǎn)品的新型光學傳感解決方案和設備的需求驅(qū)動的。關鍵示例包括3D感測（對于獲得更真實的虛擬和增強現(xiàn)實（VR/AR）用戶體驗至關重要），生物特征感測（對于安全應用而言越來越關鍵），環(huán)境感測，紅外（IR）感測和相機陣列。其他應用包括智能手機中用于高級深度感應以改善相機自動對焦性能的其他光學傳感器以及微型顯示器。EVGroup企業(yè)技術開發(fā)兼IP總監(jiān)MarkusWimplinger表示：“毫無疑問，晶圓級光學和3D傳感技術正在出現(xiàn)高度可持續(xù)的趨勢?！坝捎谠谖覀児究偛康腘ILPhotonics能力中心支持的大量正在進行的客戶項目，我們預計在不久的將來將更GUANGFAN地使用該技術。”晶圓片光刻機保修期多久可在眾多應用場景中找到EVG的設備應用，包括先進封裝，化合物半導體，功率器件，LED，傳感器和MEMS。

EVG®610曝光源：汞光源/紫外線LED光源；楔形補償全自動軟件控制；晶圓直徑（基板尺寸）高達100/150/200毫米；曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式；曝光選項：間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光；先進的對準功能：手動對準/原位對準驗證手動交叉校正大間隙對準；EVG®610光刻機系統(tǒng)控制：操作系統(tǒng)：Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)多語言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR實時遠程訪問，診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術為“無紫外線”。

集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化，完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺，將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔，光刻膠涂層，烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”，在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中，然后返回完全結構化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預定的型號為：HERCULES。請訪問岱美儀器的官網(wǎng)獲取更多的信息。光刻機利用光學原理將光線聚焦在光刻膠上，通過光刻膠的曝光和顯影過程，將芯片設計圖案轉移到硅片上。

EVG®150特征：晶圓尺寸可達300毫米多達6個過程模塊可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載可用的模塊包括旋轉涂層，噴涂，NanoCoat?，顯影，烘烤/冷卻/蒸氣/上等EV集團專有的OmniSpray®超聲波霧化技術提供了無與倫BI的處理結果，當涉及到極端地形的保形涂層可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層，長寬比ZUI高為1:10，垂直側壁廣范的支持材料烘烤模塊溫度高達250°CMegasonic技術用于清潔，聲波化學處理和顯影，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘EVG已經(jīng)與研究機構合作超過35年，能深入了解他們的獨特需求。晶圓片光刻機保修期多久

EVG與研究機構合作超過35年，能夠深入了解他們的獨特需求。半導體設備光刻機價格怎么樣

EVG的掩模對準系統(tǒng)含有：EVG610；EVG620NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng)；EVG6200NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng)；IQAligner自動掩模對準系統(tǒng)；IQAlignerNT自動掩模對準系統(tǒng)；【EVG®610掩模對準系統(tǒng)】EVG®610是一個緊湊的和多用途R＆d系統(tǒng)，可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。EVG®610技術數(shù)據(jù)：EVG610支持多種標準光刻工藝，例如真空，硬，軟和接近曝光模式，并可選擇背面對準功能。此外，該系統(tǒng)還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，可滿足用戶需求的變化，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其非常適合大學和研發(fā)應用。半導體設備光刻機價格怎么樣