NanoX-系列輪廓儀代表性客戶?集成電路相關(guān)產(chǎn)業(yè)–集成電路先進(jìn)封裝和材料:華天科技,通富微電子,江蘇納佩斯半導(dǎo)體,華潤安盛等?MEMS相關(guān)產(chǎn)業(yè)–中科院蘇州納米所,中科電子46所,華東光電集成器件等?高效太陽能電池相關(guān)產(chǎn)業(yè)–常州億晶光電,中國臺(tái)灣速位科技、山東衡力新能源等?微電子、FPD、PCB等產(chǎn)業(yè)–三星電機(jī)、京東方、深圳夏瑞科技等具備Globalalignment&Unitalignment自動(dòng)聚焦范圍:±0.3mmXY運(yùn)動(dòng)速度**快如果有什么問題,請(qǐng)聯(lián)系我們輪廓儀廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加 工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。集成電路輪廓儀出廠價(jià)
新型光學(xué)輪廓儀!film3D使得光學(xué)輪廓測量更易負(fù)擔(dān)*后,表面粗糙度和表面形貌測量可以用比探針式輪廓儀成本更低的儀器來進(jìn)行。film3D具有3倍於于其成本儀器的次納米級(jí)垂直分辨率,film3D同樣使用了現(xiàn)今*高 分辨率之光學(xué)輪廓儀的測量技術(shù)包含垂直掃描干涉(VSI)及相移干涉(PSI)。這就是您需要的解析力每film3D帶有直觀的粗糙度,表面形貌和臺(tái)階高度的測量軟件。所有常見如ISO25178所規(guī)范的粗糙度參數(shù)都支持,也包括軟件功能用于形貌分析,如形狀去除和波長過濾,都包含在基film3D軟件。對(duì)于更進(jìn)階的功能,F(xiàn)ilmetrics提供了我們的合作伙伴TrueGage的TrueMap軟件可進(jìn)一步處理film3D數(shù)據(jù),這當(dāng)然也與業(yè)界其他標(biāo)準(zhǔn)分析軟件兼容。其他輪廓儀列為選備的功能已經(jīng)是我們的標(biāo)準(zhǔn)配備為什么需要額外支付每位使用者所需要的功能?每film3D都已標(biāo)配自動(dòng)化X/Y平臺(tái)包含tip/tilt功能。以我們的階高標(biāo)準(zhǔn)片建立標(biāo)準(zhǔn)每film3D配備了一個(gè)10微米階高標(biāo)準(zhǔn)片,可達(dá)%準(zhǔn)確度。另我們還提供具有100nm,2微米以及4微米等多階高標(biāo)準(zhǔn)片。*大視場Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寬廣的2毫米視野,其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時(shí)切換多個(gè)物鏡的需要。更進(jìn)一步減少總體成本。三維輪廓儀有哪些應(yīng)用輪廓儀廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)和品質(zhì)控制領(lǐng)域。
滿足您需求的輪廓儀使用范圍廣:兼容多種測量和觀察需求保護(hù)性:非接觸式光學(xué)輪廓儀耐用性更強(qiáng),使用無損可操作性:一鍵式操作,操作更簡單,更方便智能性:特殊形狀能夠只能計(jì)算特征參數(shù)個(gè)性化:定制化客戶報(bào)告模式更好用戶體驗(yàn):迅捷的售后服務(wù),個(gè)性化應(yīng)用軟件支持1.精度高,壽命長---采用超高精度氣浮導(dǎo)軌作為直線測量基準(zhǔn),具有穩(wěn)定性好、承載大、勇不磨損等優(yōu)點(diǎn),達(dá)到國內(nèi)同類產(chǎn)品較高精度。2.高精度光柵尺及進(jìn)口采集卡---保證數(shù)據(jù)采樣分辨率,準(zhǔn)確度高,穩(wěn)定性好。(網(wǎng)絡(luò))
表面三維微觀形貌測量的意義在于,在生產(chǎn)中表面三維微觀形貌對(duì)工程零件的許多技術(shù)性能的評(píng)家具有蕞直接的影響,而且表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更權(quán)面,更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來越受到重視,因此表面三維微觀形貌的測量就越顯重要。通過兌三維形貌的測量可以比較權(quán)面的評(píng)定表面質(zhì)量的優(yōu)劣,進(jìn)而確認(rèn)加工方法的好壞以及設(shè)計(jì)要求的合理性,這樣就可以反過來通過知道加工,優(yōu)化加工工藝以及加工出高質(zhì)量的表面,確保零件使用功能的實(shí)現(xiàn)。表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富,通??煞譃榻佑|時(shí)和非接觸時(shí)兩種,其中以非接觸式測量方法為主。每個(gè)共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊。
NanoX-2000/3000系列3D光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。使用范圍廣:兼容多種測量和觀察需求保護(hù)性:非接觸式光學(xué)輪廓儀耐用性更強(qiáng),使用無損可操作性:一鍵式操作,操作更簡單,更方便幾何特征(關(guān)鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和集體,特征圖形的位置和數(shù)量等)?;魇枯喞獌x出廠價(jià)
NanoX-8000的XY光柵分辨率 0.1um,定位精度 5um,重復(fù)精度 1um。集成電路輪廓儀出廠價(jià)
輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人:邁爾爾遜1852-1931美國物理學(xué)家曾從事光速的精密測量工作邁克爾遜首倡用光波波長作為長度基準(zhǔn)。1881年,他發(fā)明了一種用以測量微小長度,折射率和光波波長的干涉儀,邁克爾遜干涉儀。他和美國物理學(xué)家莫雷合作,進(jìn)行了注明的邁克爾遜-莫雷實(shí)驗(yàn),否定了以太de存在,為愛因斯坦建立狹義相對(duì)論奠定了基礎(chǔ)。由于創(chuàng)制了精密的光學(xué)儀器和利用這些儀器所完成光譜學(xué)和基本度量學(xué)研究,邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。集成電路輪廓儀出廠價(jià)