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樣品視頻包括硬件和照相機(jī)的F20系統(tǒng)視頻。視頻實(shí)時(shí)顯示精確測(cè)量點(diǎn)。 不包括SS-3平臺(tái)。SampleCam-sXsX探頭攝像機(jī)包含改裝的sX探頭光學(xué)配件,但不包含平臺(tái)。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺(tái),具有SS-3鏡頭與38mm的精密XY平移聚焦平臺(tái)。能夠升級(jí)成電動(dòng)測(cè)繪與自動(dòng)對(duì)焦。StageBase-XY10-Auto-100mm10“×10” 全電動(dòng)樣品平臺(tái)。可以進(jìn)行100mm高精度XY平移,包括自動(dòng)焦距調(diào)節(jié)。SS-Microscope- UVX-1顯微鏡(15倍反射式物鏡)及X-Y平臺(tái)。 包含UV光源與照明光纖。SS-Microscope- EXR-1顯微鏡包含X- Y平臺(tái)及照明光纖. 需另選購(gòu)物鏡. 通常使用顯微鏡內(nèi)建照明。SS-Trans-Curved用于平坦或彎曲表面的透射平臺(tái),包括光纖,和 F10-AR 一起使用。 波長(zhǎng)范圍 250nm -2500nm。T-1SS-3 平臺(tái)的透射測(cè)量可選件。包括光纖、平臺(tái)轉(zhuǎn)接器和平臺(tái)支架。 用于平坦的樣品。WS-300用于小于 300mm 樣品的平移旋轉(zhuǎn)平臺(tái)。F20-EXR測(cè)厚范圍:15nm - 250μm;波長(zhǎng):380-1700nm。實(shí)驗(yàn)室膜厚儀干涉測(cè)量應(yīng)用
電介質(zhì)成千上萬(wàn)的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè),而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜。測(cè)量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì),鈍化層,或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個(gè)案例中,我們用F20-UVX成功地測(cè)量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,折射率,和消光系數(shù)。有趣的事,氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴(kuò)散模型,F(xiàn)20-UVX可以很容易地測(cè)量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì),不管他們是富硅,貧硅,還是分子當(dāng)量。安徽膜厚儀可以試用嗎所有的 Filmetrics 型號(hào)都能通過精確的光譜反射建模來(lái)測(cè)量厚度 (和折射率)。
F3-CS:Filmetrics的F3-CS專門為了微小視野及微小樣品測(cè)量設(shè)計(jì),任何人從已線操作到研&發(fā)人員都可以此簡(jiǎn)易USB供電系統(tǒng)在數(shù)秒鐘內(nèi)測(cè)量如聚對(duì)二甲苯和真空鍍膜層厚度.我們具專利的自動(dòng)校正功能大幅縮短測(cè)量設(shè)置並可自動(dòng)調(diào)節(jié)儀器的靈敏度,使用免手持測(cè)量模式時(shí),只需簡(jiǎn)單地將樣品面朝下放置在平臺(tái)上測(cè)量樣品,此時(shí)該系統(tǒng)已具備可測(cè)量數(shù)百種膜層所必要的一切設(shè)置不管膜層是否在透明或不透明基底上.快速厚度測(cè)量可選配FILMeasure厚度測(cè)量軟件使厚度測(cè)量就像在平臺(tái)上放置你的樣品一樣容易,軟件內(nèi)建所有常見的電介質(zhì)和半導(dǎo)體層(包括C,N和HT型聚對(duì)二甲苯)的光學(xué)常數(shù)(n和k),厚度結(jié)果會(huì)及時(shí)的以直覺的測(cè)量結(jié)果顯示對(duì)于進(jìn)階使用者,可以進(jìn)一步以F3-CS測(cè)量折射率,F3-CS可在任何運(yùn)行WindowsXP到Windows864位作業(yè)系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)上運(yùn)行,USB電纜則提供電源和通信功能.
接觸探頭測(cè)量彎曲和難測(cè)的表面CP-1-1.3測(cè)量平面或球形樣品,結(jié)實(shí)耐用的不銹鋼單線圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射,對(duì)1.5mm厚的基板可抑制96%。鋼制單線圈外加PVC涂層,蕞大可測(cè)厚度15um。CP-2-1.3用于探入更小的凹表面,直徑17.5mm。CP-C6-1.3探測(cè)直徑小至6mm的圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-C12-1.3用于直徑小至12mm圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-C26-1.3用于直徑小至26mm圓柱形和球形樣品外側(cè)。CP-BendingRod-L350-2彎曲長(zhǎng)度300mm,總長(zhǎng)度350mm的接觸探頭。用于難以到達(dá)的區(qū)域,但不會(huì)自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)表面。CP-ID-0to90Deg-2用于食品和飲料罐頭內(nèi)壁的接觸探頭。CP-RA-3mmDia-200mmL-2直徑蕞小的接觸探頭,配備微型直角反射鏡,用來(lái)測(cè)量小至直徑3mm管子的內(nèi)壁,不能自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)表面。CP-RA-10mmHigh-2配備微型直角反射鏡,可以在相隔10mm的兩個(gè)平坦表面之間進(jìn)行測(cè)量。F10-AR在用戶定義的任何波長(zhǎng)范圍內(nèi)都能進(jìn)行蕞低、蕞高和平均反射測(cè)試。
F10-ARc獲得蕞精確的測(cè)量.自動(dòng)基準(zhǔn)功能大達(dá)增加基準(zhǔn)間隔時(shí)間,量測(cè)準(zhǔn)確性優(yōu)於其他光纖探頭反射測(cè)量系統(tǒng)5倍可選擇UPG-F10-AR-HC軟件升級(jí)測(cè)量0.25-15μm硬涂層的厚度.即使在防反射涂層存在時(shí)仍可測(cè)量硬涂層厚度我們獨(dú)佳探頭設(shè)計(jì)可排除98%背面反射,當(dāng)鏡片比1.5mm更厚時(shí),可排除比例更高修正了硬膜層造成的局部反射扭曲現(xiàn)象。F10-ARc:200nm-15μm**380-1050nm當(dāng)您需要技術(shù)支援致電我們的應(yīng)用工程師,提供即時(shí)的24小時(shí)援助(週一至週五)網(wǎng)上的“手把手”支持(需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃。產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備。半導(dǎo)體膜厚儀特點(diǎn)
厚度范圍: 測(cè)量從 1nm 到 13mm 的厚度。 測(cè)量 70nm 到 10um 薄膜的折射率。實(shí)驗(yàn)室膜厚儀干涉測(cè)量應(yīng)用
F10-ARc:走在前端以較低的價(jià)格現(xiàn)在可以很容易地測(cè)量曲面樣品,包括眼鏡和其他光學(xué)鏡片的防反射涂層,瑾需其他設(shè)備一小部分的的價(jià)格就能在幾秒內(nèi)得到精確的色彩讀值和反射率測(cè)量.您也可選擇升級(jí)薄膜厚度測(cè)量軟件,操作上并不需要嚴(yán)格的訓(xùn)練,您甚至可以直覺的藉由設(shè)定任何波長(zhǎng)范圍之蕞大,蕞小和平均值.去定義顏色和反射率的合格標(biāo)準(zhǔn).容易設(shè)定.易於維護(hù).只需將F10-ARc插上到您計(jì)算機(jī)的USB端口,感謝Filmetrics的創(chuàng)新,F10-ARc幾乎不存在停機(jī)時(shí)間,加上40,000小時(shí)壽命的光源和自動(dòng)板上波長(zhǎng)校準(zhǔn),你不需擔(dān)心維護(hù)問題。實(shí)驗(yàn)室膜厚儀干涉測(cè)量應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司正式組建于2002-02-07,將通過提供以半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等服務(wù)于于一體的組合服務(wù)。業(yè)務(wù)涵蓋了半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等諸多領(lǐng)域,尤其半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x中具有強(qiáng)勁優(yōu)勢(shì),完成了一大批具特色和時(shí)代特征的儀器儀表項(xiàng)目;同時(shí)在設(shè)計(jì)原創(chuàng)、科技創(chuàng)新、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范等方面推動(dòng)行業(yè)發(fā)展。我們?cè)诎l(fā)展業(yè)務(wù)的同時(shí),進(jìn)一步推動(dòng)了品牌價(jià)值完善。隨著業(yè)務(wù)能力的增長(zhǎng),以及品牌價(jià)值的提升,也逐漸形成儀器儀表綜合一體化能力。公司坐落于金高路2216弄35號(hào)6幢306-308室,業(yè)務(wù)覆蓋于全國(guó)多個(gè)省市和地區(qū)。持續(xù)多年業(yè)務(wù)創(chuàng)收,進(jìn)一步為當(dāng)?shù)亟?jīng)濟(jì)、社會(huì)協(xié)調(diào)發(fā)展做出了貢獻(xiàn)。